4-异噻唑乙酰腈,3-乙基-5-甲基-(9CI) | 196871-46-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 4-异噻唑乙酰腈,3-乙基-5-甲基-(9CI)
• 英文名称: 1,2-bis-(1-hydroxy-propyl)-benzene
• 英文别名: 1,2-Bis-(1-hydroxy-propyl)-benzol；1¹.2¹-Dioxy-1.2-dipropyl-benzol；1-[2-(1-hydroxypropyl)phenyl]propan-1-ol
• CAS: 196871-46-2
• 化学式: C₁₂H₁₈O₂
• 分子量: 194.274
• InChiKey: SQAKRQZYQYSWDP-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  79 °C
• 沸点：
  318.6±22.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.052±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-异噻唑乙酰腈,3-乙基-5-甲基-(9CI) 在 喹啉 、 air 、 氯仿 、 三溴化磷 作用下， 生成 2-[(1E)-1-丙烯-1-基]苯甲醛
  参考文献：
  名称：

  Deluchat, Annales de Chimie (Cachan, France), 1934, vol. <11> 1, p. 181,186, 208

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  ethyl magnesium iodide 、 邻苯二甲醛 在 乙醚 作用下， 生成 4-异噻唑乙酰腈,3-乙基-5-甲基-(9CI)
  参考文献：
  名称：

  Nelken; Simonis, Chemische Berichte, 1908, vol. 41, p. 988

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Asymmetric synthesis of chiral diols by the catalytic enantioselective dialkylation of tere-, iso-, and phthalaldehydes and by a catalytic enantioselective autoinductive reaction
  作者：Kenso Soai、Yukikazu Inoue、Tomohide Takahashi、Takanori Shibata

  DOI：10.1016/0040-4020(96)00810-1

  日期：1996.10

  Optically pure aromatic diols were synthesized by the highly enantioselective dialkylation of aromatic dialdehydes with dialkylzincs in the presence of a catalytic amount of chiral aminoalcohol 1 or chiral thiophosphoramide alcohol 2 with Ti(O-i-Pr)4. The chiral titanium(IV) alkoxide of 4b, a diisopropylated product of isophthalaldehyde, catalyzed the addition of diisopropylzinc to isophthalaldehyde

  在催化量的手性氨基醇1或手性硫代磷酰胺醇2与Ti（O- i- Pr）4催化下，通过芳族二醛与二烷基锌的高度对映选择性二烷基化反应合成了光学纯的芳族二醇。间苯二醛的二异丙基化产物的4b手性钛（IV）醇盐催化将二异丙基锌加到间苯二甲醛中，通过对映选择性自感应反应（高达44％ee）得到具有相同构型的手性醇锌4b。
• Regioselective Bromomethylation of 1,2-Dialkylbenzenes
  作者：Nupur Garg、T. Randall Lee

  DOI：10.1055/s-1998-1634

  日期：1998.3

  This paper describes a systematic exploration of the regioselective bromomethylation of 1,2-dialkylbenzenes as a function of the reaction temperature and the chain length of the alkyl groups. At both 80 and 110 °C, bromomethyl groups can be introduced into the 4 and 5 positions of 1,2-dialkylbenzenes with high selectivity when the alkyl chains consist of two or more carbon atoms.

  本文描述了 1,2-二烷基苯的区域选择性溴甲基化作为反应温度和烷基链长度函数的系统探索。在80和110℃下，当烷基链由两个或多个碳原子组成时，溴甲基可以高选择性地引入到1,2-二烷基苯的4位和5位上。
• Chiral diols, their manufacture and ligands and catalysts derived therefrom
  申请人：Berens Ulrich

  公开号：US20060030737A1

  公开（公告）日：2006-02-09

  The present invention relates to a method for the preparation of C 2 -symmetric 1,4-diols of the formula IVA or IVB, wherein ring A, R 1 and R 2 have the meanings given in the specification, that makes use of the metallation of pure enantiomers of α-(aryl or heteroaryl)-α-substituted alkanol compounds or the use of said alkanol compounds in the preparation of said mmetric 1,4-diols; novel C 2 -symmetric 1,4-diols in enantiomerically pure form; and methods of use or their use in the synthesis of chiral ligands which find use to produce catalysts for a variety of asymmetric transformations such as hydrogenations.

  本发明涉及一种制备式IVA或IVB的C2对称1,4-二醇的方法，其中环A、R1和R2具有规范中给出的含义，利用纯对映体α-(芳基或杂环芳基)-α-取代烷醇化合物的金属化或利用该烷醇化合物制备所述对称1,4-二醇；新颖的对映纯形式的C2对称1,4-二醇；以及它们在合成手性配体中的应用或用于制备各种不对称转化的催化剂，例如氢化反应。
• Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, mask blank including actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10545405B2

  公开（公告）日：2020-01-28

  Provided are an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including a compound (A) whose dissolution rate in an alkali developer decreases by the action of an acid, a resin (B) having a group that decomposes by the action of an alkali developer to increase the solubility in the alkali developer and having at least one of a fluorine atom or a silicon atom, and a resin (C) having a phenolic hydroxyl group, different from the resin (B), an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a mask blank, each formed using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a pattern forming method using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a method for manufacturing an electronic device.

  本发明提供了一种感光性或辐射敏感性树脂组合物，包括在酸的作用下在碱显影剂中的溶解度降低的化合物 (A)、具有在碱显影剂中分解以增加在碱显影剂中的溶解度的基团且至少具有一个氟原子或硅原子的树脂 (B) 以及具有与树脂 (B) 不同的酚羟基的树脂 (C)、使用感光性或辐射敏感性胶片和掩膜坯形成的感光性或辐射敏感性胶片和掩膜坯、和一种具有不同于树脂（B）的酚羟基的树脂（C），一种感光胶片或感光胶片和一种掩膜坯，它们分别使用感光胶片或感光胶片树脂组合物形成，一种使用感光胶片或感光胶片树脂组合物的图案形成方法，以及一种制造电子设备的方法。
• Phenolic resin and method of producing the same
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20040044161A1

  公开（公告）日：2004-03-04

  A phenolic resin obtainable by reacting a dihydroxy compound of the following formula (1) with a phenolic compound, 1 wherein the dihydroxy compound is partially dehydrated.

  一种酚醛树脂，可通过下式(1)的二羟基化合物与酚类化合物反应获得、 1 其中二羟基化合物已部分脱水。