1,3-bis-hydroxymethyl-5-methyl-2-(toluene-4-sulfonyloxy)-benzene | 153904-93-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1,3-bis-hydroxymethyl-5-methyl-2-(toluene-4-sulfonyloxy)-benzene
• 英文别名: 1,3-Bis-hydroxymethyl-5-methyl-2-(toluol-4-sulfonyloxy)-benzol；2,6-Bis(hydroxymethyl)-4-methylphenyl P-toluenesulfonate；[2,6-bis(hydroxymethyl)-4-methylphenyl] 4-methylbenzenesulfonate
• CAS: 153904-93-9
• 化学式: C₁₆H₁₈O₅S
• mdl: MFCD00185858
• 分子量: 322.382
• InChiKey: VSWDJKLFSONQJD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  92.2
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,3-bis-hydroxymethyl-5-methyl-2-(toluene-4-sulfonyloxy)-benzene 在 sodium dichromate 、 溶剂黄146 作用下， 反应 0.75h， 生成 5-methyl-2-tosyl-isophthalaldehyde
  参考文献：
  名称：

  The synthesis, redox properties, and ligand binding of heterobinuclear transition-metal macrocyclic ligand complexes. Measurement of an apparent delocalization energy in a mixed-valent copper(I)copper(II) complex

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja00404a017
• 作为产物：
  描述：

  对甲酚 在 sodium hydroxide 、 苯 作用下， 生成 1,3-bis-hydroxymethyl-5-methyl-2-(toluene-4-sulfonyloxy)-benzene
  参考文献：
  名称：

  Ullmann; Brittner, Chemische Berichte, 1909, vol. 42, p. 2546

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Pulsed 2-Dimensional Raman Spectroscopy on Microdroplets
  作者：H. Moritz、G. Schweiger

  DOI：10.1002/(sici)1521-4125(200004)23:4<361::aid-ceat361>3.0.co;2-g

  日期：2000.4

  Raman spectroscopy to determine the average concentration in the liquid phase and concentration distribution in the gas phase surrounding desorbing linear arrays of binary microdroplets. For this study, monodisperse microdroplets consisting of acetylene dissolved in acetone were generated by a modified vibrating orifice aerosol generator (VOAG). The 2-dimensional concentration fields of acetylene desorbed

  在这项研究中，我们使用基于脉冲拉曼光谱的技术来确定液相中的平均浓度和气相中围绕解吸线性二元微滴阵列的浓度分布。在这项研究中，由溶解在丙酮中的乙炔组成的单分散微滴是通过改进的振动孔气溶胶发生器 (VOAG) 产生的。从液滴中解吸的乙炔二维浓度场的空间分辨率约为 40 μm，沿液滴链方向和垂直于液滴链的方向。气相和液相浓度的检测限分别约为 100 ppm 和 1 mmol/l。
• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION METHOD OF CURED RELIEF PATTERN USING THE SAME AND SEMICONDUCTOR DEVICE
  申请人：YAMANAKA Tsukasa

  公开号：US20080081294A1

  公开（公告）日：2008-04-03

  A photosensitive resin composition contains: a polymer represented by the formula (I) as defined herein, in which 0.5 mol % or more of A in the polymer represented by the formula (I) is a protective group; a photosensitizing agent; a compound containing a methacryloyl or acryloyl group within a molecule of the compound; and a solvent.