4,4',4",4'''-(ethane-1,1,2,2-tetrayl)tetrabenzenethiol | 361344-94-7

• 分子结构分类: 有机化合物
• 英文名称: 4,4',4",4'''-(ethane-1,1,2,2-tetrayl)tetrabenzenethiol
• 英文别名: 1,1,2,2-tetrakis(4-mercaptophenyl)ethane；4-[1,2,2-Tris(4-sulfanylphenyl)ethyl]benzenethiol
• CAS: 361344-94-7
• 化学式: C₂₆H₂₂S₄
• 分子量: 462.725
• InChiKey: PFRFQQXMXVWGLO-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  572.9±50.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.281±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.6
• 重原子数：
  30
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  4
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4,4',4",4'''-(ethane-1,1,2,2-tetrayl)tetrabenzenethiol 、 在 偶氮二异丁腈 作用下， 反应 3.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  화합물, 이를 포함하는 포토레지스트 조성물, 이를 포함하는 포토레지스트 패턴 및 포토레지스트 패턴의 제조 방법

  摘要：

  本规范提供了有关化合物、包含该化合物的光刻胶组合物、包含该光刻胶组合物的光刻胶图案以及制备该光刻胶图案的方法。

  公开号：

  KR20200041287A

文献信息

• Novel sulfur compounds and intermolecular compounds containing the same as the component compounds
  申请人：——

  公开号：US20030130358A1

  公开（公告）日：2003-07-10

  The invention aims at providing novel sulfur compounds, molecular compounds containing the same as the component compound, and so on. The above aim is achieved by using sulfur compounds of the general formula (I) wherein Rs are each independently hydrogen, optionally substituted C 1-6 alkyl, optionally substituted C 2-6 alkenyl, optionally substituted aryl, chloro, or bromo; m is an integer of 0, 1, or 2; and Z is a group represented by any of the general formulae (II) to (V) (wherein R and m are each as defined above; W is hydrogen or C 1-6 alkyl; and Y is a direct bond, C 1-3 alkylene, or phenylene). 1

  本发明旨在提供新型硫化合物、包含其作为组分化合物的分子化合物等。上述目的通过使用通式（I）的硫化合物实现，其中Rs分别独立地为氢、可选取代的C1-6烷基、可选取代的C2-6烯基、可选取代的芳基、氯或溴；m为0、1或2的整数；Z为由通式（II）至（V）中的任何一种表示的基团（其中R和m如上所定义；W为氢或C1-6烷基；Y为直接键、C1-3烷基或苯基）。
• NOVEL SULFUR COMPOUNDS AND INTERMOLECULAR COMPOUNDS CONTAINING THE SAME AS THE COMPONENT COMPOUND
  申请人：NIPPON SODA CO., LTD.

  公开号：EP1306369A1

  公开（公告）日：2003-05-02

  The invention aims at providing novel sulfur compounds, molecular compounds containing the same as the component compound, and so on. The above aim is achieved by using sulfur compounds of the general formula (I) wherein Rs are each independently hydrogen, optionally substituted C1-6 alkyl, optionally substituted C2-6 alkenyl, optionally substituted aryl, chloro, or bromo; m is an integer of 0, 1, or 2; and Z is a group represented by any of the general formulae (II) to (V) (wherein R and m are each as defined above; W is hydrogen or C1-6 alkyl; and Y is a direct bond, C1-3 alkylene, or phenylene).

  本发明旨在提供新型硫化合物、含有与组分化合物相同的分子化合物等。上述目的通过使用通式（I）的硫化合物来实现，其中 Rs 各自独立地为氢、任选取代的 C1-6 烷基、任选取代的 C2-6 烯基、任选取代的芳基、氯或溴；m 为 0、1 或 2 的整数；Z 为通式（II）至（V）中任一式所代表的基团（其中 R 和 m 各自如上所定义；W 为氢或 C1-6 烷基；Y 为直接键、C1-3 亚烷基或亚苯基）。
• COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING SAME, PHOTORESIST PATTERN COMPRISING SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：LG CHEM, LTD.

  公开号：US20210017127A1

  公开（公告）日：2021-01-21

  The present specification provides a compound, a photoresist composition comprising the same, a photoresist pattern comprising the same, and a method for preparing a photoresist pattern.
• US6740782B2
  申请人：——

  公开号：US6740782B2

  公开（公告）日：2004-05-25
• US6927309B2
  申请人：——

  公开号：US6927309B2

  公开（公告）日：2005-08-09