4,4'-diamino-3,3'-dimethoxy-benzophenone | 47072-78-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4,4'-diamino-3,3'-dimethoxy-benzophenone
• 英文别名: 4,4'-Diamino-3,3'-dimethoxy-benzophenon；Bis(4-amino-3-methoxyphenyl)methanone
• CAS: 47072-78-6
• 化学式: C₁₅H₁₆N₂O₃
• 分子量: 272.304
• InChiKey: WVGKWPSLUCXKHL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.8
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.13
• 拓扑面积：
  87.6
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4,4'-diamino-3,3'-dimethoxy-benzophenone 在 sodium amalgam 、 乙醇 作用下， 生成 4.4'-diamino-3.3'-dimethoxy-diphenylcarbinol
  参考文献：
  名称：

  Finger, Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1909, vol. <2>79, p. 493

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  bis-(4-acetylamino-3-methoxy-phenyl)-methane 在 硫酸 、 联铬酸盐 作用下， 生成 4,4'-diamino-3,3'-dimethoxy-benzophenone
  参考文献：
  名称：

  Finger, Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1909, vol. <2>79, p. 493

  摘要：

  DOI：

文献信息

• AROMATIC ETHER AND ALKYNYL CONTAINING PHTHALONITRILES
  申请人：Laskoski Matthew

  公开号：US20110288254A1

  公开（公告）日：2011-11-24

  Compounds having the formulas below. R is an aromatic-containing group. Each M is an alkali metal. Each m is a positive integer. The value of n is a positive integer. The value p is 0 or 1. If p is 0 then n is 1. A thermoset made by curing a composition containing the below phthalonitrile monomers. A method of reacting a diphenyl acetylene compound with an excess of an aromatic diol in the presence of an alkali metal carbonate to form the above oligomer. A method of reacting a phenoxyphthalonitrile with an acetylene compound to form the phthalonitrile monomer below.

  具有以下化学式的化合物。其中R是含芳香基团的基团。每个M是一种碱金属。每个m是正整数。n的值为正整数。p的值为0或1。如果p为0，则n为1。通过固化含有以下邻苯二腈单体的组合物制成的热固性材料。一种方法是在碱金属碳酸盐的存在下，将二苯乙炔化合物与过量的芳香二醇反应，形成上述寡聚物。一种方法是将苯氧基邻苯二腈与乙炔化合物反应，形成以下邻苯二腈单体。
• Oligomeric hydroxy arylether phthalonitiles and synthesis thereof
  申请人：——

  公开号：US20040181028A1

  公开（公告）日：2004-09-16

  An aromatic ether oligomer or polyaromatic ether comprising the formula: 1 wherein Ar is an independently selected divalent aromatic radical; formed by reacting a dihydroxyaromatic with a dihaloaromatic; and wherein the reaction is performed in the presence of a copper compound and cesium carbonate. The polyaromatic ether is formed when neither the dihydroxyaromatic nor the dihaloaromatic is present in an excess amount. The aromatic ether oligomer is formed by using an excess of either dihydroxyaromatic or dihaloaromatic. A phthalonitrile monomer comprising the formula: 2 formed by reacting a 3- or 4-nitrophthalonitrile with a hydroxy-terminated aromatic ether oligomer. A thermoset formed by curing the phthalonitrile monomer. Processes for forming all the above.

  一种芳香醚寡聚物或聚芳香醚，包括以下公式： 1 其中Ar是独立选择的二价芳香基团；通过将二羟基芳香与二卤代芳香反应形成；反应在铜化合物和碳酸铯的存在下进行。当二羟基芳香和二卤代芳香均不以过量存在时，形成聚芳香醚。当使用过量的二羟基芳香或二卤代芳香时，形成芳香醚寡聚物。一种酞菁单体，包括以下公式： 2 通过将3-或4-硝基酞菁与羟基终止的芳香醚寡聚物反应形成。通过固化酞菁单体形成热固性物。以上所有的形成过程。
• Photopolymerisierbare Zusammensetzung, damit beschichtetes Material und Verfahren zur Herstellung von Reliefabbildungen
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0119162A2

  公开（公告）日：1984-09-19

  Photopolymerisierbare Zusammensetzungen aus (a) einer Polymer-Vorstufe mit photopolymerisierbaren olefinischen Doppelbindungen, (b) einem Photoinitiator der Formel worin R1, R2 und R3 die im Patentanspruch 1 angegebene Bedeutung haben, und gegebenenfalls (c) einem Acrylsäure- oder Methacrylsäureester, Allyläther oder Allylester eines Polyols eignen sich dank ihrer hohen Lichtempfindlichkeit zur wirtschaftlichen Herstellung hochtemperaturbeständiger Schutzschichten und Reliefstrukturen mit hoher Auflösung und guter Kantenschärfe.

  可光聚合的组合物，包括(a) 具有可光聚合烯烃双键的聚合物前体，(b) 式中的光引发剂 其中 R1、R2 和 R3 的含义如权利要求 1 所述，以及可选的 (c) 一种多元醇的丙烯酸或甲基丙烯酸酯、烯丙基醚或烯丙基酯，由于其光敏性高，适用于经济地生产具有高分辨率和良好边缘清晰度的耐高温保护涂层和浮雕结构。
• Polyimide, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0132221A1

  公开（公告）日：1985-01-23

  Homo- und Copolyimide aus aromarischen Tetracarbonsäuren und aromatischen Diaminen, die in beiden Orthostellungen mindestens eines N-Atomes durch Alkyl, Alkoxy, Alkoxyalkyl, Cycloalkyl oder Aralkyl substituiert sind, sind in organischen Lösungsmitteln löslich und weisen erhöhte Glasumwandlungstemperaturen und damit sehr gute Thermostabilitäten auf. Solche Polyimide, die Reste von einer Banzophenontetracarbonsäure enthalten, sind strahlungsempfindlich und autophotovernetzbar. Die Polyimide eignen sich zur Herstellung von Filmen, Schutzüberzügen und photographischen Reliefabbildungen.

  芳香族四羧酸和芳香族二胺的均聚酰亚胺和共聚酰亚胺（在至少一个 N 原子的两个正交位置上被烷基、烷氧基、烷氧基烷基、环烷基或芳烷基取代）可溶于有机溶剂，并显示出较高的玻璃化转变温度，因此具有非常好的热稳定性。这种聚酰亚胺含有二苯甲酮四羧酸残基，对辐射敏感，可自光交联。这种聚酰亚胺适用于生产薄膜、保护涂层和照相浮雕图像。
• Beschichtetes Material und seine Verwendung
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0134752A1

  公开（公告）日：1985-03-20

  Beschichtetes Material aus einem Träger auf dem eine strahlungsempfindliche aus einem Homo- oder Copolymer mit mindestens 5 Mol.-%, bezogen auf das Polymer, Struktureinheiten der Formel 1 worin R ein zweiwertiger aliphatischer Rest, der durch Heteroatome, aromatische, heterocyclische oder cycloaliphatische Gruppen unterbrochen sein kann, ein cycloaliphatischer, heterocyclischer oder araliphatischer Rest, ein aromatischer Rest, bei dem zwei Arylkerne über eine aliphatische Gruppe verknüpft sind, oder ein durch mindestens eine Alkylgruppe, Cycloalkylgruppe, Alkoxygruppe, Alkoxyalkylgruppe, Alkylthiogruppe, Alkylthioalkylgruppe, Hydroxyalkylgruppe, Hydroxyalkoxygruppe, Hydroxyalkylthiogruppe, Aralkylgruppe oder zwei benachbarte C-Atome des aromatischen Restes durch eine Alkylengruppe substituierter aromatischer Rest ist, R' unabhängig die gleiche Bedeutung wie R hat und q für 0 oder 1 steht, wobei R als aromatischer Rest nicht durch Alkylen und nicht durch die zuvor genannten Reste substituiert ist, wenn q = 0 ist, aufgebracht ist. Die Schicht kann direkt durch Strahlungseinwirkung vernetzt werden. Das Material eignet sich z.B zur Herstellung von Schutzfilmen und von Reliefabbildungen.

  一种涂层材料，包括一种支撑物，在该支撑物上有一种辐射敏感的均聚物或共聚物，该均聚物或共聚物含有至少 5 摩尔%的式 1 结构单元（以聚合物为基数）。 烷硫基、羟基烷基、羟基烷氧基、羟基烷硫基、芳基或被亚烷基取代的芳香基的两个相邻 C 原子，R'独立地具有与 R 相同的含义，q 为 0 或 1，其中作为芳香基的 R 在 q = 0 时未被亚烷基取代，也未被前面提到的基取代。该层可通过辐射直接交联。这种材料适用于制作保护膜和浮雕图像等。