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(E)-N-(6,6-Dimethyl-2-hepten-4-ynyl)propylamine hydrochloride | 134865-44-4

中文名称
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中文别名
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英文名称
(E)-N-(6,6-Dimethyl-2-hepten-4-ynyl)propylamine hydrochloride
英文别名
(E)-N-(6,6-Dimethyl-2-hepten-4-ynyl)-propylamine hydrochloride;(E)-6,6-dimethyl-N-propylhept-2-en-4-yn-1-amine;hydrochloride
(E)-N-(6,6-Dimethyl-2-hepten-4-ynyl)propylamine hydrochloride化学式
CAS
134865-44-4
化学式
C12H21N*ClH
mdl
——
分子量
215.766
InChiKey
ITRKQGIYNSBUCV-WVLIHFOGSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.01
  • 重原子数:
    14
  • 可旋转键数:
    5
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.67
  • 拓扑面积:
    12
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    1

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    (E)-N-(3-chloro-2-propenyl)propylamine hydrochloride三苯基膦正丁胺3,3-二甲基-1-丁炔碘化亚铜醋酸钯 甲醇盐酸盐酸 、 same solvent 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 反应 20.0h, 以to obtain 780 mg (yield: 72%) of the的产率得到(E)-N-(6,6-Dimethyl-2-hepten-4-ynyl)propylamine hydrochloride
    参考文献:
    名称:
    Process for producing enyne derivatives
    摘要:
    一种生产enyne衍生物的方法和中间体,该方法对制备表现出强烈抑制真菌类squale烷环氧化酶和强烈抗胆固醇活性的化合物有用。该过程包括在钯催化剂的存在下,将公式为:##STR1## 其中W是卤素原子的化合物与乙炔衍生物反应,以获得公式为:##STR2## 的化合物,并在必要时对该化合物进行N-烷基化。
    公开号:
    US05296612A1
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文献信息

  • Intermediates for producing enyne derivatives
    申请人:Banyu Pharmaceutical Co., Ltd.
    公开号:US05436354A1
    公开(公告)日:1995-07-25
    (E)-N-(3-Chloro-2-propenyl)-N-methyl-1naphthylenemethanamine and (E)-3-chloro-N-(3-chloro-2-propenyl)-N-methylbenzo[b]thiophene-7-methanami ne which are useful as intermediates in the production of enyne compounds which exhibit squalene epoxidase inhibiting activity and anti-Eumycetes activity.
    (E)-N-(3--2-丙烯基)-N-甲基-1-萘甲胺和(E)-3--N-(3--2-丙烯基)-N-甲基苯并[b]噻吩-7-甲胺是在生产具有角鲨烷环氧酶抑制活性和抗真菌活性的炔烃化合物中有用的中间体。
  • Process for producing enyne Derivatives
    申请人:BANYU PHARMACEUTICAL CO., LTD.
    公开号:EP0645369A2
    公开(公告)日:1995-03-29
    The invention relates to compounds of the formula wherein R11 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a halo lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group or a cycloalkyl group; R21 is a hydrogen atom or a group of the formula wherein each of R3, R31 and R32, which may be the same or different, is a hydrogen atom or a lower alkyl group, each of R4, R5, R41 and R51, which may be the same or different, is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group or a lower alkoxy group, and R42 is a hydroxyl group, a halogen atom, a group of the formula B-O (wherein B is a protecting group for a hydroxyl group), a hydroxy methyl group, a formyl group, a carboxyl group, a lower alkoxy carbonyl group, a lower alkanoyl group, an amino group, a mercapto group or a group of the formula R6-X-Y-(wherein R6 is a phenyl or thienyl group which may have one or two substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a hydroxyl group, a lower one or two substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, a cyano group, a lower alkoxy group and a heterocyclic group, each of X and Y, which may be the same or different, is an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a group of the formula -CHRa- (wherein Ra is a hydrogen atom or a lower alkyl group) or a group of the formula -NRb- (wherein Rb is a hydrogen atom or a lower alkyl group), or X and Y together form a vinylene group or an ethynylene group), provided that when either one of X and Y is an oxygen atom, a sulfur atom or a group of the formula -NRb- (wherein Rb is as defined above), the other is a carbonyl group or a group of the formula -CHRa- (wherein Ra is as defined above), and W is a halogen atom, and a process for preparing such compounds.
    本发明涉及式如下的化合物 其中 R11 是氢原子、低级烷基、卤代低级烷基、低级烯基、低级炔基或环烷基; R21 是氢原子或式中的基团 其中 R3、R31 和 R32(可以相同或不同)各自是氢原子或低级烷基,R4、R5、R41 和 R51(可以相同或不同)各自是氢原子、卤素原子、羟基、低级烷基或低级烷氧基,R42 是羟基、卤素原子、式 B-O 的基团(其中 B 是羟基的保护基)、羟甲基、甲酰基、羧基、低级烷氧基羰基、低级烷酰基、基、巯基或式 R6-X-Y- (其中 R6 为苯基或噻吩基,可具有一个或两个选自卤素原子、羟基、一个或两个选自卤素原子的低级取代基、羟基、低级烷基、基、低级烷氧基和杂环基,X 和 Y(可以相同或不同)分别是氧原子、原子、羰基、式 -CHRa-(其中 Ra 是氢原子或低级烷基)或式 -NRb-(其中 Rb 是氢原子或低级烷基)、或X和Y共同形成乙烯基乙炔基),条件是当X和Y中的一个是氧原子、原子或式-NRb-(其中Rb如上所定义)的基团时,另一个是羰基或式-CHRa-(其中Ra如上所定义)的基团,而W是卤素原子,以及制备此类化合物的工艺。
  • US5231183A
    申请人:——
    公开号:US5231183A
    公开(公告)日:1993-07-27
  • US5296612A
    申请人:——
    公开号:US5296612A
    公开(公告)日:1994-03-22
  • US5359091A
    申请人:——
    公开号:US5359091A
    公开(公告)日:1994-10-25
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