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diphenyliodonium 1,1-difluoro-2-((3-hydroxyadamantan-1-yl)methoxy)-2-oxoethane-1-sulfonate | 1307627-86-6

中文名称
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中文别名
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英文名称
diphenyliodonium 1,1-difluoro-2-((3-hydroxyadamantan-1-yl)methoxy)-2-oxoethane-1-sulfonate
英文别名
——
diphenyliodonium 1,1-difluoro-2-((3-hydroxyadamantan-1-yl)methoxy)-2-oxoethane-1-sulfonate化学式
CAS
1307627-86-6
化学式
C12H10I*C13H17F2O6S
mdl
——
分子量
620.453
InChiKey
URNXANGYPKUTSC-UHFFFAOYSA-M
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
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  • 反应信息
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  • 表征谱图
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  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.81
  • 重原子数:
    35.0
  • 可旋转键数:
    6.0
  • 环数:
    6.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.48
  • 拓扑面积:
    103.73
  • 氢给体数:
    1.0
  • 氢受体数:
    6.0

反应信息

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文献信息

  • COATING COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM FOR EUV LITHOGRAPHY PROCESS
    申请人:ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS KOREA LTD.
    公开号:US20200133126A1
    公开(公告)日:2020-04-30
    A monomer represented by Chemical Formula (1): wherein, X, Y, and Z are the same as described in the specification, and the polymer including repeat units derived from the monomer.
    一种单体,化学式表示为(1):其中,X、Y和Z与说明书中描述的相同,且聚合物包括从该单体导出的重复单元。
  • 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
    申请人:住友化学株式会社
    公开号:JP2018024652A
    公开(公告)日:2018-02-15
    【課題】良好なマスクエラーファクター(MEF)を有するレジストパターンを製造することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される塩。[R1〜R11は夫々独立に、H、OH基又は炭化水素基;nは0又は1;Q1及びQ2は夫々独立に、F又はペルフルオロアルキル基;Lb1は飽和炭化水素基;Yはメチル基又は置換/非置換の脂環式飽和炭化水素基、該脂環式飽和炭化水素基のCH2はO、SO2或いは(C=O)に置き換っても良い]【選択図】なし
    【问题】提供一种含有盐的光阻组合物,可以制造具有良好的掩模误差因子(MEF)的光刻胶图案。 【解决方案】所述盐由式(I)表示。 其中,[R1-R11分别独立地表示H、OH基或烷基;n为0或1;Q1和Q2分别独立地表示F或全氟烷基;Lb1表示饱和烷基;Y表示甲基基团或取代/未取代的脂环烷基,该脂环烷基的CH2可以被O、SO2或(C=O)取代]。【选择图】无
  • JP5879834
    申请人:——
    公开号:——
    公开(公告)日:——
  • JP6011095
    申请人:——
    公开号:——
    公开(公告)日:——
  • JP6011096
    申请人:——
    公开号:——
    公开(公告)日:——
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