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4-Chloro-N-hydroxy-N-phenyl-benzenesulfonamide | 32234-29-0

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
4-Chloro-N-hydroxy-N-phenyl-benzenesulfonamide
英文别名
——
4-Chloro-N-hydroxy-N-phenyl-benzenesulfonamide化学式
CAS
32234-29-0
化学式
C12H10ClNO3S
mdl
——
分子量
283.735
InChiKey
JUFCGXGPAMLBMA-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
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  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.92
  • 重原子数:
    18.0
  • 可旋转键数:
    3.0
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    57.61
  • 氢给体数:
    1.0
  • 氢受体数:
    3.0

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    硝基苯氯化铵 作用下, 以 aq. phosphate buffer 、 乙醇 为溶剂, 反应 0.67h, 生成 4-Chloro-N-hydroxy-N-phenyl-benzenesulfonamide
    参考文献:
    名称:
    钴酞菁和氮掺杂有序介孔碳的强相互作用用于 CO2 还原以及磺酰胺衍生物的电氧化合成
    摘要:
    在这项工作中,开发了一种基于钴酞菁与氮掺杂有序介孔碳(CoPc@GIOMC)相结合的高性能混合电催化剂,用于CO 2还原。为了实现这一目标,我们设计了一种创新的配对电解槽,它将 CO 2还原为 CO 与某些苯基羟胺的高效氧化偶联相结合,以生产具有生物学重要意义的磺酰胺和有机砜衍生物。混合电极在0.57 V vs. RHE的过电势(起始电势为0.3 V vs. RHE)下将CO 2选择性还原为CO时表现出33 mA cm -2的显着部分电流密度和90的法拉第效率% 接近天然的水溶液(pH = 7.4)。这种优异的性能可归因于我们的氮掺杂介孔碳材料的高氮含量、大量缺陷位点和大表面积,这有利于CoPc在GIOMC上牢固而稳定的附着。此外,在阴极CO 2还原与合成具有重要生物学意义的磺酰胺和有机砜衍生物耦合的背景下,电解系统表现出高阳极法拉第效率,在电解135分钟后在6 mA cm -2下达到近100%。令人满意的能源效率高达70%。
    DOI:
    10.1039/d3gc02977h
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文献信息

  • Paired electrochemical conversion of nitroarenes to sulfonamides, diarylsulfones and bis(arylsulfonyl)aminophenols
    作者:Banafsheh Mokhtari、Davood Nematollahi、Hamid Salehzadeh
    DOI:10.1039/c7gc03576d
    日期:——
    A paired electrochemical method using nitrobenzene (NB) derivatives and arylsulfinic acids (ASAs) as starting materials was developed for the synthesis of some new sulfonamides, diarylsulfones and bis(arylsulfonyl)aminophenols. The synthetic strategy was designed using the data provided by electrochemical studies involving cyclic voltammetry on NB oxidation in the absence and presence of ASAs. The
    开发了一种以硝基苯(NB)衍生物和芳基亚磺酸(ASAs)为起始原料的成对电化学方法,用于合成一些新的磺酰胺,二芳基砜和双(芳基磺酰基)。合成策略是根据在不存在和存在ASA的情况下,电化学研究提供的数据(涉及循环伏安法对NB氧化)设计的。通过在室温下恒流电解,该反应已成功地在不分隔的槽中,在碳棒电极上,在溶液中进行。该策略不需要催化剂,有毒溶剂和具有挑战性的后处理。它也适用于各种硝基芳烃
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