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4-(1-adamantyl)-2-hydroxynaphthalene | 124551-04-8

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
4-(1-adamantyl)-2-hydroxynaphthalene
英文别名
1-adamantanyl-3-naphthol;4-(1-Adamantyl)naphthalen-2-ol
4-(1-adamantyl)-2-hydroxynaphthalene化学式
CAS
124551-04-8
化学式
C20H22O
mdl
——
分子量
278.394
InChiKey
OYLBEDUFWJWECM-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    6.2
  • 重原子数:
    21
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    6.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.5
  • 拓扑面积:
    20.2
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    1

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    参考文献:
    名称:
    一种金属配合物、有机电致发光元件及消费型产品
    摘要:
    本发明涉及一种金属配合物、有机电致发光元件及消费型产品,本发明所述的金属配合物用作发光材料能够获得发光效率高的红色磷光材料,且制备的发光材料的热稳定性好,本发明制备的有机电致发光元件发红色磷光,具有发射光谱窄、稳定性高和效率高的优点;本发明的电子设备通过含有本发明的有机电致发光元件,从而能够获得电致发光为红色光且发光效率提高的消费型产品。
    公开号:
    CN114989224A
  • 作为产物:
    描述:
    1-溴金刚烷2-萘酚 以85%的产率得到
    参考文献:
    名称:
    HO, B. I.;ZOTOV, YU. L.;SHISHKIN, E. V.;KAREV, V. N., ZH. OBSHCH. XIMII, 59,(1989) N, S. 81-84
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • COMPOSITION FOR FORMING BASE FILM FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING MULTILAYER RESIST PATTERN
    申请人:Oguro Dai
    公开号:US20100316950A1
    公开(公告)日:2010-12-16
    A composition for forming an underlayer film for lithography for imparting excellent optical characteristics and etching resistance to an underlayer film for lithography, an underlayer film being formed of the composition and having a high refractive index (n) and a low extinction coefficient (k), being transparent, having high etching resistance, containing a significantly small amount of a sublimable component, and a method for forming a pattern using the underlayer film are provided. The composition for forming an underlayer film contains a naphthalene formaldehyde polymer having a specific unit obtained by reacting naphthalene and/or alkylnaphthalene with formaldehyde, and an organic solvent.
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