(4-methylcyclohex-3-en-1-yl)methyl benzoate | 1629637-04-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: (4-methylcyclohex-3-en-1-yl)methyl benzoate
• CAS: 1629637-04-2
• 化学式: C₁₅H₁₈O₂
• 分子量: 230.307
• InChiKey: MZDFNOLHBAMXJL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.59
• 重原子数：
  17.0
• 可旋转键数：
  3.0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  2.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (4-methylcyclohex-3-en-1-yl)methyl benzoate 、 在 1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 3.0h， 以59%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  由环烯烃合成1,3-环烷二烯：前所未有的氧铵盐反应性

  摘要：

  很少有方法能够将环烯烃直接转化为具有高化学和区域选择性的环烷二烯。在此，我们提出一个方便的一锅法用于该转化，其涉及的前所未有的N-优先基团转移Ñ -oxoammonium盐环烯烃，随后柯普消除，以得到在室温和压力环二烯。

  DOI：

  10.1002/anie.201607752
• 作为产物：
  描述：

  天然橡胶 在 aluminum (III) chloride 、 lithium aluminium tetrahydride 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 12.0h， 生成 (4-methylcyclohex-3-en-1-yl)methyl benzoate
  参考文献：
  名称：

  由环烯烃合成1,3-环烷二烯：前所未有的氧铵盐反应性

  摘要：

  很少有方法能够将环烯烃直接转化为具有高化学和区域选择性的环烷二烯。在此，我们提出一个方便的一锅法用于该转化，其涉及的前所未有的N-优先基团转移Ñ -oxoammonium盐环烯烃，随后柯普消除，以得到在室温和压力环二烯。

  DOI：

  10.1002/anie.201607752

文献信息

• Facile Synthesis of N-Substituted Amides from Alkenes and Amides by a Brønsted Acid Mediated Electrophilic Addition Reaction
  作者：Yoshikazu Kitano、Karin Mihara、Iku Okada、Kazuhiro Chiba

  DOI：10.1055/s-0033-1338605

  日期：——

  demonstrated by the synthesis of an intermediate of a bioactive compound on a large scale. A facile and widely applicable method for the synthesis of N-substituted amides from alkenes and amides using Brønsted acids was developed. Treatment of various alkenes with amides and an alkali metal halide or methanesulfonic acid in trifluoroacetic acid afforded the corresponding N-substituted amides in good to high

  摘要 开发了一种使用布朗斯台德酸从烯烃和酰胺合成N-取代酰胺的简便且广泛适用的方法。用酰胺和碱金属卤化物或甲磺酸在三氟乙酸中处理各种烯烃，以高至高收率得到相应的N-取代酰胺。该反应通过将酰胺直接亲电加成到烯烃上而进行。在反应条件下可耐受各种官能团，例如酯，醚，酰亚胺，酰胺和卤素。高底物依赖性顺式对于在4-位具有取代基的亚甲基环己烷和甲基环己烯衍生物，还观察到了合成中的立体选择性。此外，通过大规模合成生物活性化合物的中间体已经证明了该反应的实际应用。 开发了一种使用布朗斯台德酸从烯烃和酰胺合成N-取代酰胺的简便且广泛适用的方法。用酰胺和碱金属卤化物或甲磺酸在三氟乙酸中处理各种烯烃，以高至高收率得到相应的N-取代酰胺。该反应通过将酰胺直接亲电加成到烯烃上而进行。在反应条件下可耐受各种官能团，例如酯，醚，酰亚胺，酰胺和卤素。高底物依赖性顺式对于在4-位具有取代基的亚甲基环己烷和甲基环己烯衍生物，