1-(4,4-dimethylcyclohexa-1,5-dienyl)-4-methylbenzene | 913541-28-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1-(4,4-dimethylcyclohexa-1,5-dienyl)-4-methylbenzene
• 英文别名: 3-p-tolyl-6,6-dimethylcyclohexa-1,3-diene；1-(4,4-Dimethylcyclohexa-1,5-dien-1-yl)-4-methylbenzene
• CAS: 913541-28-3
• 化学式: C₁₅H₁₈
• 分子量: 198.308
• InChiKey: HQTFYMGYHUGRJE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.6
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(4,4-dimethylcyclohexa-1,5-dienyl)-4-methylbenzene 、 di-μ-chlorodichlorobis[(1-3η:6-8η)-2,7-dimethyloctadienyl]diruthenium 在 lithium carbonate 作用下， 以 乙醇 、 乙腈 为溶剂， 以55%的产率得到bis(3-(p-tolyl)-6,6-dimethylcyclohexadienyl)ruthenium
  参考文献：
  名称：

  Synthesis, characterization and electrochemistry of bis(3-aryl-6,6-dimethylcyclohexadienyl)ruthenium complexes

  摘要：

  Five bis(3-aryl-6,6-dimethylcyclohexadienyl)ruthenium complexes (4a-4e) are prepared by reactions between di-mu-chlorodichlorobis[(1-3 eta:6-8 eta)-2,7-dimethyl-octadienyl]diruthenium and the corresponding dienes. The larger aryl substituents increase the barrier to rotation in 4a-4e relative to bis(3-methyl-6,6-cyclohexadienyl) ruthenium (5b). The activation parameters were determined by line-shape analysis for the exchange process in 4a: Delta G(dagger) (183 K), 8.0 +/- 0.2 kcal/mol; Delta H-dagger, 10.3 kcal/mol; and Delta S-dagger, 13 cal/mol/K. The electronic effect of the aryl substituents on the cyclohexadienyl ligand on the oxidation potential of the complex are compared to the effect of methyl substituents. (c) 2006 Elsevier B.V. All rights reserved.

  DOI：

  10.1016/j.ica.2006.06.045
• 作为产物：
  描述：

  4,4-二甲基-2-环己基-1-酮 、 对氯甲苯 在 tris-(dibenzylideneacetone)dipalladium(0) 、 对甲苯磺酰肼 、 lithium tert-butoxide 、 2-二环己基磷-2,4,6-三异丙基联苯 作用下， 以 1,4-二氧六环 为溶剂， 反应 0.02h， 以92%的产率得到1-(4,4-dimethylcyclohexa-1,5-dienyl)-4-methylbenzene
  参考文献：
  名称：

  甲苯磺酰hydr与芳基和烯基卤化物的钯催化偶联合成二烯

  摘要：

  偶联伙伴的两种不同组合可用于通过钯催化与甲苯磺酰hydr的交叉偶联来合成共轭二烯：α，β-不饱和酮和芳基卤化物或烯基卤化物和非共轭甲苯磺酰zone。取决于基材，乙烯基二氢化物的消除是最终二烯形成的原因。

  DOI：

  10.1002/adsc.201000700