4,6-methyl-2-guanidinobenzimidazole | 70590-34-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并咪唑类
• 英文名称: 4,6-methyl-2-guanidinobenzimidazole
• 英文别名: 4,6-dimethyl-2-guanidinobenzimidazole；2-(4,6-dimethyl-1H-benzimidazol-2-yl)guanidine
• CAS: 70590-34-0
• 化学式: C₁₀H₁₃N₅
• 分子量: 203.247
• InChiKey: FTVKSWRWZFSLFO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.2
• 拓扑面积：
  93.1
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  2

文献信息

• Cleaning formulation for removing residues on surfaces
  申请人：Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc.

  公开号：US10253282B2

  公开（公告）日：2019-04-09

  This disclosure relates to a cleaning composition that contains 1) at least one redox agent; 2) at least one first chelating agent, the first chelating agent being a polyaminopolycarboxylic acid; 3) at least one second chelating agent different from the first chelating agent, the second chelating agent containing at least two nitrogen-containing groups; 4) at least one metal corrosion inhibitor, the metal corrosion inhibitor being a substituted or unsubstituted benzotriazole; 5) at least one organic solvent selected from the group consisting of water soluble alcohols, water soluble ketones, water soluble esters, and water soluble ethers; 6) water; and 7) optionally, at least one pH adjusting agent, the pH adjusting agent being a base free of a metal ion. This disclosure also relates to a method of using the above composition for cleaning a semiconductor substrate.

  本公开涉及一种清洁组合物，其中包含：1）至少一种氧化还原剂；2）至少一种第一螯合剂，第一螯合剂为聚氨基多羧酸；3）至少一种不同于第一螯合剂的第二螯合剂，第二螯合剂含有至少两个含氮基团；4) 至少一种金属缓蚀剂，该金属缓蚀剂为取代或未取代的苯并三唑； 5) 至少一种有机溶剂，该有机溶剂选自由水溶性醇、水溶性酮、水溶性酯和水溶性醚组成的组； 6) 水；以及 7) 可选地，至少一种 pH 值调节剂，该 pH 值调节剂为不含金属离子的碱。本公开还涉及一种使用上述组合物清洗半导体基底的方法。
• CLEANING FORMULATION FOR REMOVING RESIDUES ON SURFACES
  申请人：FujiFilm Electronic Materials USA, Inc.

  公开号：EP3077129B1

  公开（公告）日：2020-11-11
• CLEANING FORMULATION AND METHOD FOR REMOVING RESIDUES ON SURFACES
  申请人：Fujifilm Electronic Materials USA, Inc.

  公开号：EP3104398B1

  公开（公告）日：2020-03-11
• US5326779A
  申请人：——

  公开号：US5326779A

  公开（公告）日：1994-07-05
• US9562211B2
  申请人：——

  公开号：US9562211B2

  公开（公告）日：2017-02-07