4-cyclohexyloxymethoxyphenyl methacrylate | 1351230-44-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚酯
• 英文名称: 4-cyclohexyloxymethoxyphenyl methacrylate
• 英文别名: [4-(Cyclohexyloxymethoxy)phenyl] 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 1351230-44-8
• 化学式: C₁₇H₂₂O₄
• 分子量: 290.359
• InChiKey: QSCINBXJNXZWDD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.4
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.47
• 拓扑面积：
  44.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  氯甲基环己基醚 以89%的产率得到4-cyclohexyloxymethoxyphenyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  MONOMER, POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  一种聚合物是由一种具有酸敏感基团的羟基苯甲酸甲酯单体合成得到的。该聚合物作为基础树脂的正性光阻组合物具有极高的曝光前后碱溶解速率对比度、高分辨率、曝光后图案的良好轮廓和极小的线边粗糙度、缓慢的酸扩散速率和良好的蚀刻抗性。

  公开号：

  US20110294070A1

文献信息

• US9017918B2
  申请人：——

  公开号：US9017918B2

  公开（公告）日：2015-04-28
• MONOMER, POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20110294070A1

  公开（公告）日：2011-12-01

  A polymer is obtained from a hydroxyphenyl methacrylate monomer having an acid labile group substituted thereon. A positive resist composition comprising the polymer as a base resin has a very high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure, a high resolution, a good profile and minimal line edge roughness of a pattern after exposure, a retarded acid diffusion rate, and good etching resistance.

  一种聚合物是由一种具有酸敏感基团的羟基苯甲酸甲酯单体合成得到的。该聚合物作为基础树脂的正性光阻组合物具有极高的曝光前后碱溶解速率对比度、高分辨率、曝光后图案的良好轮廓和极小的线边粗糙度、缓慢的酸扩散速率和良好的蚀刻抗性。