已经显示某些官能的甲
硅烷基基团在合成上等同于OH基团。在
DMF中的间
氯过
苯甲酸(MCPBA)裂解有机
氟化
硅中的所有C-Si键K 2(RSiF 5 ]和R n SiF 4-n(n = 1,2,3)裂解,得到相应的尽管与RSiF 5 2-和RSiF 3的反应在没有任何添加剂的情况下进行,但R 2 SiF 2和R 3 SiF的裂解分别需要催化量或过量的KF。存在过量KF的反应。MCPBA-氧化外-和内--
2-降冰片基硅酸酯和-三
氟硅烷立体定向地进行,并保留在碳上的构型。在RSiF 3的氧化裂解中观察到了显着的溶剂作用。可能的机理涉及六配位
硅物质,其中有机基团从分子内从Si迁移到配位MCPBA的O。