2-(2,3,5-Triiodophenyl)acetic acid | 714252-44-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-(2,3,5-Triiodophenyl)acetic acid
• CAS: 714252-44-5
• 化学式: C₈H₅I₃O₂
• 分子量: 513.84
• InChiKey: VWDVIVPCQVEHTB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.12
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(2,3,5-Triiodophenyl)acetic acid 在 氯化亚砜 作用下， 反应 3.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  Synthesis, Antimycobacterial, Antiviral, Antimicrobial Activity and QSAR Studies of N2-acyl isonicotinic Acid Hydrazide Derivatives

  摘要：

  合成了一系列N2-酰基异烟酸肼（1-17），并对其在体外对抗结核分枝杆菌的活性进行了测试，结果表明，化合物异烟酸N'-十四酰肼（12）的活性优于参考化合物异烟肼。合成化合物对金黄色葡萄球菌、枯草芽孢杆菌、大肠杆菌、白念珠菌和黑曲霉的抗菌活性结果表明，含有二氯、羟基、三碘和N2-十四酰取代基的化合物是活性最强的。抗病毒活性研究表明，所测试的化合物对DNA或RNA病毒均未表现出活性。多靶点QSAR模型有效地描述了N2-酰基异烟酸肼的抗菌活性。

  DOI：

  10.2174/157340613804488404

文献信息

• Resist composition and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US10295904B2

  公开（公告）日：2019-05-21

  A resist composition comprising a base polymer and a sulfonium salt of iodized benzoic acid offers a high sensitivity and minimal LWR independent of whether it is of positive or negative tone.

  抗蚀剂组合物由基质聚合物和碘化苯甲酸锍盐组成，具有高灵敏度和最小 LWR，与正负色调无关。
• X射线显影化合物及其制备方法、X射线显影栓塞材料及其制备方法
  申请人：科睿驰（深圳）医疗科技发展有限公司

  公开号：CN115490639A

  公开（公告）日：2022-12-20

  本申请涉及一种X射线显影化合物及其制备方法、X射线显影栓塞材料及其制备方法，属于X射线下可视化的栓塞技术领域。X射线显影化合物的结构式如下： 其中，X为由至少一个碘取代的C5‑12芳基或C5‑12杂芳基；Y不存在；或者，Y为C1‑6亚烷基、C2‑6亚烯基、C2‑6亚炔基、C1‑6亚烷氧基和C1‑6烷氧基亚烷基的一种。该显影化合物通过酰胺键直接或间接将咪唑基团或苯并咪唑基团与碘取代的芳基或杂芳基连接起来，形成X射线显影化合物，该显影化合物中的酰胺键处的C‑N键容易发生断裂，以便将断裂处的C与栓塞材料键接(断裂和键接可以一步反应)，以便使栓塞材料具有X射线显影功能。
• RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20170351177A1

  公开（公告）日：2017-12-07

  A resist composition comprising a base polymer and a sulfonium salt of iodized benzoic acid offers a high sensitivity and minimal LWR independent of whether it is of positive or negative tone.
• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20200241418A1

  公开（公告）日：2020-07-30

  A positive resist composition comprising a base polymer comprising recurring units (a) having the structure of an ammonium salt of a carboxylic acid having an iodized or brominated aromatic ring exhibits a high sensitivity, high resolution, low edge roughness (LER, LWR) and small size variation, and forms a pattern of good profile after exposure and development.
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US20220299875A1

  公开（公告）日：2022-09-22

  A radiation-sensitive resin composition includes: a resin including a structural unit represented by formula (1); and a solvent containing propylene glycol monomethyl ether and alkyl lactate. The solvent does not contain propylene glycol monomethyl ether acetate or contains propylene glycol monomethyl ether acetate in a content of 5% by mass or less in the solvent. The radiation-sensitive resin composition further includes a radiation-sensitive acid generator, or the resin further includes a structural unit having a radiation-sensitive acid generating structure. In the formula (1), R T is a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group. R X is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. Cy represents an alicyclic structure having 3 to 20 ring members formed together with the carbon atom to which Cy is bonded.