2,2-bis[4,4-cyclohexylidenebis(4-hydroxyphenyl)]propane | 53091-58-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,2-bis[4,4-cyclohexylidenebis(4-hydroxyphenyl)]propane
• 英文别名: 4-[4-[2-[4,4-Bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexyl]propan-2-yl]-1-(4-hydroxyphenyl)cyclohexyl]phenol
• CAS: 53091-58-0
• 化学式: C₃₉H₄₄O₄
• 分子量: 576.776
• InChiKey: IQNDEQHJTOJHAK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  11.2
• 重原子数：
  43
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  6.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.38
• 拓扑面积：
  80.9
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  聚合甲醛 、 2,2-bis[4,4-cyclohexylidenebis(4-hydroxyphenyl)]propane 在 sodium hydroxide 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 18.37h， 生成 2,2-bis[4,4-cyclohexylidenebis(4-hydroxy-3,5-dihydroxymethylphenyl)]propane
  参考文献：
  名称：

  Hydroxymethyl-substituted polyfunctional phenols

  摘要：

  羟甲基取代的多官能酚，由以下结构表示：通用结构（I）1（其中X代表：二价基团（a），由以下结构表示：通用结构（II）2（其中R1、R2、R3和R4各自独立地表示氢原子或碳原子数为1至4的烷基基团）；四价基团（b），由以下结构表示：通用结构（III）3（其中R5和R6各自独立地表示氢原子或碳原子数为1至4的烷基基团）；或二价基团（c），由以下结构表示：通用结构（IV）4（其中R7和R8各自独立地表示氢原子或单氟甲基、二氟甲基或三氟甲基基团；但是，R7和R8不能同时为氢原子）；其中n在X为二价基团（a）时取2，在X为四价基团（b）时取4，在X为二价基团（c）时取2。

  公开号：

  US20030204117A1

文献信息

• [EN] USE OF 4-CYANO-NAPHTHALENE-1, 8-DICARBOXIMIDE DERIVATIVES AND RELATED COMPOUNDS TO PROTECT ORGANIC MATERIAL FROM THE DAMAGING EFFECTS OF LIGHT<br/>[FR] UTILISATION DE DERIVES 4-CYANO-NAPHTHALENE-1, 8-DICARBOXIMIDE ET COMPOSES ASSOCIES POUR LA PROTECTION DE MATIERE ORGANIQUE CONTRE LES EFFETS NUISIBLES DE LA LUMIERE
  申请人：BASF AG

  公开号：WO2005047265A1

  公开（公告）日：2005-05-26

  A description is given of the use of naphthalene-1,8-dicarboxylic monoimides of the formula (I), in which R1 is hydrogen, alkyl, alkenyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, heterocycloalkyl, aryl or heteroaryl and R2 is a radical containing at least one π electron system containing a carbon atom and at least one further atom selected from carbon, oxygen, and nitrogen, with the proviso that the radical contains at least one atom other than carbon; to protect organic material from the damaging effects of light, of compositions which comprise at least one naphthalene-1,8-dicarboxylic monoimide of the formula (I) in an amount which provides protection from the damaging effects of light, and at least one organic material, and of new naphthalene-1,8-dicarboxylic monoimides (I).

  描述了使用式(I)的萘-1,8-二羧酸单亚胺，其中R1是氢、烷基、烯基、环烷基、环烯基、杂环烷基、芳基或杂芳基，R2是一个含有至少一个π电子体系的基团，其中包含一个碳原子和至少一个来自碳、氧和氮的其他原子，但基团至少包含一个碳以外的原子；用于保护有机材料免受光的破坏作用的组合物的描述，该组合物包括至少一种式(I)的萘-1,8-二羧酸单亚胺，其含量提供了对光的破坏作用的保护，以及至少一种有机材料，以及新的萘-1,8-二羧酸单亚胺(I)。
• COPOLYMERS AND COMPOSITIONS WITH ANTI-ADHESIVE AND ANTIMICROBIAL PROPERTIES
  申请人：BASF SE

  公开号：US20160235062A1

  公开（公告）日：2016-08-18

  The invention relates to a copolymer exhibiting both antimicrobial and anti-adhesive properties as well as to a hydrogel. Said hydrogel is obtained from the inventive copolymer and a substrate. Another part of the invention is a process for making the hydrogel, as well as different uses of the inventive copolymer as well as of the hydrogel.

  该发明涉及一种既具有抗菌和抗粘附性能的共聚物，又涉及一种水凝胶。所述水凝胶是由该创新共聚物和基质制得的。该发明的另一部分是制备水凝胶的方法，以及该创新共聚物和水凝胶的不同用途。
• COMPOUND FOR FORMING ORGANIC FILM, COMPOSITION FOR FORMING ORGANIC FILM, METHOD FOR FORMING ORGANIC FILM, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20170184968A1

  公开（公告）日：2017-06-29

  A compound for forming an organic film shown by the formula (1A), R—(—X) m1 (1A) wherein R represents a single bond or an organic group having 1 to 50 carbon atoms; X represents a group shown by formula (1B); and ml represents an integer satisfying 2≦m1≦10, wherein X 2 represents a divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms; n1 represents 0 or 1; n2 represents 1 or 2; X 3 represents a group shown by the formula (1C); and n5 represents 0, 1, or 2, wherein R 10 represents a hydrogen atom or a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, wherein a hydrogen atom of the benzene ring in formula (1C) may be substituted with a methyl group or methoxy group. This compound for forming an organic film can provide organic film composition having good dry etching resistance, heat resistance to 400° C. or higher, high filling and planarizing properties.

  一种用于形成有机薄膜的化合物，其化学式为(1A)，R—(—X)m1(1A)，其中R代表一个单键或具有1至50个碳原子的有机基团；X代表化学式(1B)所示的基团；m1代表满足2≦m1≦10的整数，其中X2代表具有1至10个碳原子的二价有机基团；n1代表0或1；n2代表1或2；X3代表化学式(1C)所示的基团；n5代表0、1或2，其中R10代表氢原子或具有1至10个碳原子的饱和或不饱和碳氢基团，化学式(1C)中苯环的氢原子可能被甲基基团或甲氧基取代。这种用于形成有机薄膜的化合物可以提供具有良好干法刻蚀抗性、耐高温至400°C或更高、高填充和平整化性能的有机薄膜组合物。
• PURIFICATION OF TRIS-HYDROXYARYL COMPOUNDS
  申请人：Münnich Christian

  公开号：US20110251438A1

  公开（公告）日：2011-10-13

  The present invention is directed to a composition comprising a tris-hydroxyaryl compound having a metal ion impurity content of less than 10 ppm and to a process for the purification of tris-hydroxyaryl compound having a metal ion impurity, comprising at least the following steps: a) conditioning a sulphonic acid group-containing active ion exchanger with a solvent which is suitable for the handling of the tris-hydroxyaryl compounds, b) producing a solution of the tris-hydroxyaryl compounds to be purified in a solvent which is suitable for the handling of the tris-hydroxyaryl compounds, c) contacting the tris-hydroxyaryl compound-containing solution from b) with the conditioned ion exchanger from a), d) separating the tris-hydroxyaryl compound-containing solution from c) from the conditioned ion exchanger, e) removing at least part of the solvent from the solution of the tris-hydroxyaryl compound separated in d) under low temperature stress.

  本发明涉及一种组合物，包括一种三羟基芳基化合物，其金属离子杂质含量低于10 ppm，以及用于纯化具有金属离子杂质的三羟基芳基化合物的方法，包括至少以下步骤：a)用适合处理三羟基芳基化合物的溶剂调节含有磺酸基团的活性离子交换剂，b)在适合处理三羟基芳基化合物的溶剂中制备待纯化的三羟基芳基化合物的溶液，c)将步骤b)中含有三羟基芳基化合物的溶液与步骤a)中的调节离子交换剂接触，d)将步骤c)中含有三羟基芳基化合物的溶液与调节离子交换剂分离，e)在低温应力下从步骤d)中分离的三羟基芳基化合物的溶液中至少去除部分溶剂。
• [DE] VERWENDUNG VON PYRIDINDION-DERIVATEN ZUM SCHUTZ VON ORGANISCHEM MATERIAL VOR DER SCHÄDIGENDEN EINWIRKUNG VON LICHT<br/>[EN] USE OF PYRIDINDIONE DERIVATIVES FOR PROTECTING ORGANIC MATERIAL AGAINST DETRIMENTAL EFFECTS OF LIGHT<br/>[FR] UTILISATION DE DÉRIVÉS DE PYRIDINEDIONE POUR LA PROTECTION DE MATIÈRE ORGANIQUE CONTRE LES EFFETS NOCIFS DE LA LUMIÈRE
  申请人：BASF AG

  公开号：WO2005100319A1

  公开（公告）日：2005-10-27

  Die vorliegende Erfindung betrifft die Verwendung von Pyridindion-Derivaten der allgemeinen Formel (I) und gegebenenfalls ihren Tautomeren, worin bedeuten R1 Wasserstoff, gegebenenfalls substituiertes und/oder gegebenenfalls Heteroatome enthaltendes Alkyl, Alkenyl oder Alkinyl oder gegebenenfalls substituiertes Cycloalkyl, Cycloalkenyl, Heterocycloalkyl, Aryl oder Heteroaryl, R2 unabhängig von R1 die Bedeutung von R1 oder NR4R5, R4, R5 unabhängig voneinander und unabhängig von R1 die Bedeutung von R1 oder COR6, A CN, COR7, COOR7 oder CONR7R8, R6, R7, R8 unabhängig voneinander und unabhängig von R1 die Bedeutung von R1, n Werte von 1, 2, 3 oder 4, R3 für n gleich 1: Wasserstoff, gegebenenfalls substituiertes und/oder gegebenenfalls Heteroatome enthaltendes Alkyl, Alkenyl oder Alkinyl oder gegebenenfalls substituiertes Cycloalkyl, Cycloalkenyl oder Heterocycloalkyl, für n ungleich 1: ein n-wertiger aliphatischer oder cycloaliphatischer Rest, welcher gegebenenfalls Heteroatome enthalten kann, zum Schutz von organischem Material vor der schädigenden Einwirkung von Licht, Zusammensetzungen, die eine vor der schädigenden Einwirkung von Licht schützende Menge wenigstens eines solchen Pyridindion-Derivats der Formel (I) und wenigstens ein organisches Material enthalten, und Pyridindion-Derivate der Formel (I).

  本发明涉及使用通式（I）的吡啶二酮衍生物及其互变异构体，其中R1代表氢、可能被取代和/或含有杂原子的烷基、烯基或炔基，或者可能被取代的环烷基、环烯基、杂环烷基、芳基或杂芳基；R2独立于R1表示R1或NR4R5，R4、R5相互独立且独立于R1表示R1或COR6，A为CN、COR7、COOR7或CONR7R8，R6、R7、R8相互独立且独立于R1表示R1，n取1、2、3或4的值，R3对于n等于1时为氢、可能被取代和/或含有杂原子的烷基、烯基或炔基，或者可能被取代的环烷基、环烯基或杂环烷基，对于n不等于1时为一个n价的脂肪或环脂肪基团，该基团可能含有杂原子，用于保护有机材料免受光的有害影响，包含一定量至少一种上述通式（I）的吡啶二酮衍生物和至少一种有机材料的组合物，以及通式（I）的吡啶二酮衍生物。