1-(tert-butyl)-4-iodosylbenzene | 64297-74-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1-(tert-butyl)-4-iodosylbenzene
• 英文别名: 4-tert-butyl-1-iodosylbenzene；1-tert-Butyl-4-jodosyl-benzol；1-Tert-butyl-4-iodosylbenzene
• CAS: 64297-74-1
• 化学式: C₁₀H₁₃IO
• 分子量: 276.117
• InChiKey: UBCHMRBGHHNPEN-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  182-184 °C

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.7
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-叔丁基-3-碘苯 在 水 、 lithium perchlorate 作用下， 以 2,2,2-三氟乙醇 为溶剂， 反应 1.5h， 以75%的产率得到1-(tert-butyl)-4-iodosylbenzene
  参考文献：
  名称：

  阳极氧化法合成多种Aryliodine（III）试剂†

  摘要：

  证明了可以从芳基碘化物进行阳极氧化合成高价碘（III）试剂。在温和的电化学条件下，可以有效地合成和衍生出包括碘代芳烃，（双官能碘）芳烃，苯并恶唑和双芳基碘鎓盐在内的多种芳基碘（III）试剂，并具有很高的选择性和高收率。由于仅电子充当氧化剂，因此该方法提供了一种更直接和可持续的方式，从而避免了使用昂贵或危险的化学氧化剂。

  DOI：

  10.1002/cjoc.202000501

文献信息

• New and Direct Approach to Hypervalent Iodine Compounds from Arenes and Iodine. Straightforward Synthesis of (Diacetoxyiodo)arenes and Diaryliodonium Salts Using Potassium μ-Peroxo-hexaoxodisulfate
  作者：Md. Delwar Hossain、Tsugio Kitamura

  DOI：10.1246/bcsj.80.2213

  日期：2007.11.15

  The reaction of arenes with elemental iodine, acetic acid, and potassium μ-peroxo-hexaoxodisulfate (K2S2O8) in the presence of concentrated sulfuric acid, efficiently generated the corresponding (d...

  芳烃与元素碘、乙酸和μ-过氧-六氧二硫酸钾（K2S2O8）在浓硫酸存在下反应，有效地生成了相应的（d...
• Willgerodt; Rampacher, Chemische Berichte, 1901, vol. 34, p. 3670
  作者：Willgerodt、Rampacher

  DOI：——

  日期：——
• ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING A PATTERN USING THE SAME
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP2478415A1

  公开（公告）日：2012-07-25
• PATTERN FORMING METHOD AND RESIST COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP2539769A1

  公开（公告）日：2013-01-02
• [EN] ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING A PATTERN USING THE SAME<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT OU À DES RAYONS ACTINIQUES ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF AU MOYEN D'UNE TELLE COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2011034213A1

  公开（公告）日：2011-03-24

  According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin containing a repeating unit (A) containing both a structural moiety (S1) that is decomposed by an action of an acid to thereby generate an alkali-soluble group and a structural moiety (S2) that is decomposed by an action of an alkali developer to thereby increase its rate of dissolution into the alkali developer, and a compound that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation.