methacryloyl sulfabenzamide | 744215-86-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: methacryloyl sulfabenzamide
• 英文别名: N-[4-(2-methylprop-2-enoylamino)phenyl]sulfonylbenzamide
• CAS: 744215-86-9
• 化学式: C₁₇H₁₆N₂O₄S
• 分子量: 344.391
• InChiKey: YXJJTPITNPEZIJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.06
• 拓扑面积：
  101
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  苯甲酸苯酯 在 N-苯基-2-萘胺 、 potassium carbonate 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 反应 3.33h， 生成 methacryloyl sulfabenzamide
  参考文献：
  名称：

  一系列基于磺酰亚胺的新型质子传导膜酸性单体的合成，表征和共聚

  摘要：

  描述了基于具有不同酸度的磺酰亚胺的一系列新型酸单体的合成和表征。进行酸单体与丙烯腈的共聚，并从所得共聚物的溶液流延质子交换膜。可以制备具有不同当量的柔性，机械强度高且透明的膜。与较低的当量重量和较低的酸度相比，较低的当量重量和较高的酸度的膜在加湿条件下表现出较高的质子传导性。膜电极组件是使用合成的磺酰亚胺共聚物制造的。H 2 / O 2 在单个电池中测试了燃料电池的性能，这揭示了磺酰亚胺膜对聚合物电解质燃料电池的潜在适用性。

  DOI：

  10.1021/ma0498058

文献信息

• Tunable pH- and CO₂-Responsive Sulfonamide-Containing Polymers by RAFT Polymerization
  作者：Brooks A. Abel、Michael B. Sims、Charles L. McCormick

  DOI：10.1021/acs.macromol.5b01453

  日期：2015.8.25

  The controlled RAFT polymerization of a library of pH- and CO2-responsive methacryloyl sulfonamides (MSAs) that possess pK(a) values in the biologically relevant regime (pH = 4.5-7.4) is reported. Initial polymerizations were conducted at 70 degrees C in DMF with 4-cyano-4-(ethylsulfanylthiocarbonylsulfanyl)pentanoic acid (CEP) or 4-cyanopentanoic acid dithiobenzoate (CTP), resulting in polymers of broad molecular weight distributions (K-w/M-n > 1.20). As well, chain extension of a poly(methacryloyl sulfacetamide) (pSAC) macro-CTA at 70 degrees C was unsuccessful, indicating a loss of "living" chain ends during polymerization. However, by conducting the RAFT polymerization of MSAs at 30 degrees C with 2,2'-azobis(4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), polymers with narrow molecular weight distributions (M-w/M-n < 1.15) and improved chain end retention were obtained. Homopolymers of each MSA derivative were synthesized, and the influence of the sulfonamide R group on monomer pK(a) and pH-dependent polymer solubility was determined during these studies. The facility by which these controlled poly(MSAs) can be prepared via low-temperature RAFT without the need for functional group protection and the resulting pK(a)-dependent pH- and CO2-responsive properties point to significant potential in areas including drug and gene delivery and environmental remediation.
• [EN] ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, FILM SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE<br/>[JA] 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2021065549A1

  公开（公告）日：2021-04-08

  本発明は、（Ａ）特定の部分構造及び芳香族基を有する繰り返し単位（ａ１）を含み特定の繰り返し単位を有さない樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、とを含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いる感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。