in H2O2 formation during FA degradation on F–TiO2. In fact, surface fluoride, having a shielding effect at the semiconductor–water interface, not only inhibits the photocatalytic decomposition of H2O2, but also favours CO2˙− desorption and reaction with dissolved O2, generating H2O2. By contrast, CO2˙− mainly gives electron transfer to the conduction band of naked TiO2 and surface reduction of the photocatalytically
TiO 2的效果2在光催化运行中发生的
过氧化氢释放表面
氟化进行了研究采用的偶氮
染料酸性红1(AR1)和两个模型的有机分子具有酸性性质,我。e。
甲酸(FA)和
苯甲酸(BA),作为氧化降解的底物。尽管AR1和BA在
氟化
二氧化钛(F–TiO 2)上的光催化降解明显快于未改性TiO 2,但是由于增强了羟基自由基的形成,在F–TiO 2上两种底物的光降解过程中H 2 O 2的浓度较低,可能是由于界面电子转移速率降低。相比之下,接受FA慢光催化降解上F-的TiO 2,但是,在同一时间,
过氧化氢浓度为相对较高,而不包括H 2 ö 2可以在未修饰的TiO FA的光降解期间检测2。在
硝酸根阴离子的存在下光催化运行时,能够与CO反应2 ˙ -从FA氧化产
生物种,但不与导带电子,表明CO 2 ˙ -起着H中相应的作用2 ö 2 FA期间形成F–TiO 2上的降解。事实上,表面
氟化,具有在半导体-
水界面的屏蔽效果,不仅抑制H的光催化分解2