3-sulfobenzophenone | 63113-58-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 3-sulfobenzophenone
• 英文别名: 3-Benzophenon-sulfonsaeure；Benzophenon-sulfonsaeure-3；3-benzoyl-benzenesulfonic acid；3-Benzoyl-benzolsulfonsaeure；3-benzoylbenzenesulfonic Acid
• CAS: 63113-58-6
• 化学式: C₁₃H₁₀O₄S
• 分子量: 262.286
• InChiKey: MGVDSBGNZUMFRD-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  1.378±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.1
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  79.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  二苯甲酮 在 三氧化硫 、 水 作用下， 生成 3-sulfobenzophenone 、 3,3'-disulfobenzophenone
  参考文献：
  名称：

  10.1002/recl.19941130906

  摘要：

  DOI：

  10.1002/recl.19941130906

文献信息

• Photocurable resins and their use
  申请人：Jotun Polymer (UK) LTD.

  公开号：EP0097012A1

  公开（公告）日：1983-12-28

  A photocurable composition comprising polymerisable ethylenically unsaturated material, such as unsaturated polyester, is rendered polymerisable upon exposure to daylight or tungsten filament lamp or fluorescent tube by incorporating a photosensitive catalyst system comprising an acetophenone photosensitiser, a dye such as an eosin dye and a reducing agent such as tribenzylamine.

  一种由可聚合的乙烯基不饱和材料（如不饱和聚酯）组成的光固化组合物，通过加入由苯乙酮光敏剂、染料（如曙红染料）和还原剂（如三苄胺）组成的光敏催化剂系统，使其在日光或钨丝灯或荧光灯照射下可聚合。
• Improvements in or relating to radiation sensitive material
  申请人：E.I. du Pont de Nemours and Company (a Delaware corporation)

  公开号：EP0233072A2

  公开（公告）日：1987-08-19

  Radiation sensitive material suitable for the production of radiation sensitive plates for lithographic printing plate manufacture is based on a polymer including a plurality of structural units represented by the formula: in which, R represents H or CH₃; each R₁, which may be the same or different represents H or alkyl; R₂ represents a single bond or a substituted or unsubsti­tuted divalent radical; Ar represents a substituted or unsubstituted divalent radical derived from an aromatic or heteroaromatic compound; X represents O, S or NH; A represents an anion; Y represents a carbonyl oxy or aromatic radical; and n is an integer equal to or greater than 1.

  适用于平版印刷板制造的辐射敏感板生产的辐射敏感材料基于一种聚合物，该聚合物包括由式表示的多个结构单元：其中，R 代表 H 或 CH₃；每个 R₁，可以相同或不同地代表 H 或烷基；R₂代表单键或取代或未取代的二价基；Ar 代表从芳香族或杂芳香族化合物衍生的取代或未取代的二价基；X 代表 O、S 或 NH；A 代表阴离子；Y 代表羰基氧基或芳香族基；以及 n 是等于或大于 1 的整数。
• Die Säurechloride der m-Sulfo-benzoesäure und ihre Umsetzungen mit Aminen und Phenolen. (1. Mitteilung über Sulfo-carbonsäuren)
  作者：Paul Ruggli、Franz Grün

  DOI：10.1002/hlca.19410240128

  日期：——
• Pyridyl compounds
  申请人：THE WELLCOME FOUNDATION LIMITED

  公开号：EP0133534B1

  公开（公告）日：1990-10-10
• Weather-resistant polyacetal resin composition
  申请人：POLYPLASTICS CO. LTD.

  公开号：EP0172691B1

  公开（公告）日：1988-10-26