4-(4-sulfophenyl)dodecane | 47229-92-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-(4-sulfophenyl)dodecane
• 英文别名: 4-(Dodecan-4-yl)benzene-1-sulfonic acid；4-dodecan-4-ylbenzenesulfonic acid
• CAS: 47229-92-5
• 化学式: C₁₈H₃₀O₃S
• 分子量: 326.5
• InChiKey: YNJLGQRDQAQAHR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.7
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  11
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.67
• 拓扑面积：
  62.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-(4-sulfophenyl)dodecane 、 3-[(Z)-pyridin-3-yliminomethyl]phenol 以 异丙醇 、 丙酮 为溶剂， 生成
  参考文献：
  名称：

  Co（II），Cu（II）和Zn（II）与（Z）-3-（（（3-羟基苄叉基）氨基）吡啶-1-鎓4-（dodecan-4）的配合物的合成，结构表征和生物活性-基）苯磺酸盐表面活性剂

  摘要：

  合成了（Z）-3-（（3-羟基亚苄基）氨基）吡啶-1-鎓4-十二烷基苯磺酸盐阴离子表面活性剂及其钴，铜和锌络合物（I，I-Co，I-Cu和I-Zn）。它的化学结构通过元素分析，FTIR，1 H-NMR，UV-Vis光谱和原子吸附来表征。本文介绍了合成的阴离子表面活性剂的化学结构和过渡金属类型对表面活性的影响。热力学参数表明吸附和胶束化过程是自发的。生物学活性测定结果表明，所合成的化合物对革兰氏阳性（枯草芽孢杆菌和金黄色葡萄球菌）有很大的抑制作用。），革兰氏阴性细菌（铜绿假单胞菌和大肠杆菌）和真菌（白色念珠菌和黑曲霉）以及硫酸盐还原菌（德氏单胞菌）。阴离子表面活性剂与Co 2 +，Cu 2+和Zn 2+的络合增加了抗菌活性值。

  DOI：

  10.1007/s11743-015-1700-z

文献信息

• Glycerin ethoxylate as an active ingredient in removing make-up stain
  申请人：SABIC GLOBAL TECHNOLOGIES B.V.

  公开号：US11535815B2

  公开（公告）日：2022-12-27

  A composition for removing a cosmetic material from a substrate includes glycerin ethoxylate and linear alkyl benzene sulfonate (LABS). An application of the composition to a stain including a deposit of a cosmetic material at a white polyester-cotton blend fabric to provide a stained polyester-cotton blend fabric exhibits an increased stain removal measured as reflectance observed at 460 nm by at least about 35% compared to a reflectance observed at the stained polyester-cotton blend fabric prior to the application. A treatment including the composition applied to the stained polyester-cotton blend fabric provides a reflectance at the stained polyester-cotton blend fabric that is greater than a reflectance observed at a white polyester-cotton blend fabric stained with a deposit of a cosmetic material and that has been treated with either the glycerin ethoxylate alone or that has been treated with the linear alkyl benzene sulfonate alone.

  一种用于从基材上去除化妆品材料的组合物包括甘油聚氧乙烯醚和线性烷基苯磺酸盐（LABS）。将该组合物用于白色涤棉混纺织物上的污渍，包括化妆品材料的沉积物，以提供染色涤棉混纺织物，与施用前在染色涤棉混纺织物上观察到的反射率相比，以在 460 纳米波长下观察到的反射率测量，去污效果至少提高了约 35%。包括施用到染色涤棉混纺织物上的组合物在内的处理方法在染色涤棉混纺织物上提供的反射率大于在白色涤棉混纺织物上观察到的反射率，该白色涤棉混纺织物上有化妆品材料的沉积物，并且已经单独用甘油聚氧乙烯醚处理过或单独用线性烷基苯磺酸盐处理过。
• NOVEL SURFACTANTS WITH LOWER CMC, AND SURFACTANT SYSTEMS AND DETERGENTS CONTAINING SAID SURFACTANTS
  申请人：Henkel AG & Co. KGaA

  公开号：US20150337237A1

  公开（公告）日：2015-11-26

  The invention relates to surfactants of the formula (I), in which R 1 stands for —H or —CH 3 ; R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 independently stand for —H, —CH 3 , —CH 2 CH 3 , —CH 2 CH 2 CH 3 , —CH(CH 3 ) 2 , —CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 , —CH 2 CH(CH 3 ) 2 , —CH(CH 3 )CH 2 CH 3 , —C(CH 3 ) 3 , —OH, —OCH 3 , —OCH 2 CH 3 , —OCH 2 CH 2 CH 3 , —OCH(CH 3 ) 2 , a linear or branched alkyl group containing 8 to 20 C atoms, or —SO 3 − X + ; X + stands for a monovalent cation or the nth part of an n-valent cation; exactly one radical R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 stands for —SO 3 − X + ; and exactly one radical R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 stands for a linear or branched alkyl radical containing 8 to 20 C atoms.
• METHOD OF PRODUCING BIODIESEL
  申请人：BASF SE

  公开号：US20210380900A1

  公开（公告）日：2021-12-09

  The present invention relates to a method of producing fatty acid alkyl ester from an organic oil source containing at least one free fatty acid, wherein the oil source has an acid number of at least 30 mg KOH/g oil source and wherein the method comprises the steps of a) reacting the oil source with glycerol at a temperature, which does not exceed 180° C. during the reaction, in the presence of a catalyst comprising at least one alkyl or aryl sulfonic acid or an homoanhydride thereof; and b) transesterification of the reaction product from step a) with an alkanol; and c) isolating the fatty acid alkyl ester from the reaction product of step b).
• US9593295B2
  申请人：——

  公开号：US9593295B2

  公开（公告）日：2017-03-14
• [DE] NEUE TENSIDE MIT NIEDRIGER CMC SOWIE TENSIDSYSTEME UND WASCHMITTEL ENTHALTEND DIESE<br/>[EN] NOVEL SURFACTANTS WITH LOWER CMC, AND SURFACTANT SYSTEMS AND DETERGENTS CONTAINING SAID SURFACTANTS<br/>[FR] NOUVEAUX TENSIOACTIFS À FAIBLE CMC, SYSTÈMES DE TENSIOACTIFS ET DÉTERGENTS LES CONTENANT
  申请人：HENKEL AG & CO KGAA

  公开号：WO2014117973A1

  公开（公告）日：2014-08-07

  Tenside der Formel (I), in der R1 für –H oder –CH3 steht, R2, R3, R4, R5, R6 unabhängig voneinander für –H, –CH3, –CH2CH3, -CH2CH2CH3, -CH(CH3)2, –CH2CH2CH2CH3, –CH2CH(CH3)2, –CH(CH3)CH2CH3, -C(CH3)3, –OH, –OCH3, –OCH2CH3, -OCH2CH2CH3, –OCH(CH3)2, einen linearen oder verzweigten Alkylrest mit 8 bis 20 C-Atomen oder – SO3- X+ stehen, X für ein einwertiges Kation oder den n-ten Teil eines n-wertigen Kations steht, genau ein Rest R2, R3, R4, R5, R6 für –SO3- X+ steht und - genau ein Rest R2, R3, R4, R5, R6 für einen linearen oder verzweigten Alkylrest mit 8 bis 20 C-Atomen steht,