N-benzyl-N,N-dimethyl-anilinium; dimethylphenylbenzylammonium hydroxide | 500-32-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: N-benzyl-N,N-dimethyl-anilinium; dimethylphenylbenzylammonium hydroxide
• 英文别名: N-Benzyl-N,N-dimethyl-anilinium; Dimethylphenylbenzylammmoniumhydroxyd；N-Benzyl-N,N-dimethyl-anilinium; Hydroxid；Benzyl Dimethyl Anilinium Hydroxide；benzyl-dimethyl-phenylazanium;hydroxide
• CAS: 500-32-3
• 化学式: C₁₅H₁₈N*HO
• 分子量: 229.322
• InChiKey: UBDGMRDHUDZBEA-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.28
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.2
• 拓扑面积：
  1
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  烟酸 、 N-benzyl-N,N-dimethyl-anilinium; dimethylphenylbenzylammonium hydroxide 在 乙醇 、 N,N-二甲基甲酰胺 作用下， 生成 烟酸苄酯
  参考文献：
  名称：

  Wuest et al., Proceedings of the Koninklijke Nederlandse Akademie van Wetenschappen, Series B: Physical Sciences, 1958, vol. 61, p. 150,152

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid 在 silver(l) oxide 作用下， 生成 N-benzyl-N,N-dimethyl-anilinium; dimethylphenylbenzylammonium hydroxide
  参考文献：
  名称：

  Wedekind, Chemische Berichte, 1899, vol. 32, p. 3567

  摘要：

  DOI：

文献信息

• 3-(1-amino-1,3-dicarboxy-3-hydroxy-but-4-yl)-indole compounds
  申请人：South African Inventions Development Corporation

  公开号：US04975298A1

  公开（公告）日：1990-12-04

  The invention provides a compound of the formula: ##STR1## and which is: 3-(1-amino-1,3-dicarboxy-3-hydroxy-but-4-yl)-indole, including the isomers, salts and specified internal condensation derivatives thereof, and in particular those which have enhanced sweetening powers relative to sucrose and which are useful as sweeteners for foods and beverages.

  该发明提供了一种化合物，其化学式为：##STR1## 该化合物是：3-(1-氨基-1,3-二羧基-3-羟基-丁-4-基)-吲哚，包括其异构体、盐和特定内部缩合衍生物，特别是那些相对于蔗糖具有增强甜味能力的化合物，可用作食品和饮料的甜味剂。
• Synthese von<i>threo</i>-<i>cis</i>/<i>threo</i>-<i>trans</i>- und<i>erythro</i>-<i>cis</i>/<i>erythro</i>-<i>trans</i>-Dihydropalustrin. 17. Mitteilung über Schachtelhalmalkaloide
  作者：Elisabeth Wälchli-Schaer、Conrad Hans Eugster

  DOI：10.1002/hlca.19780610240

  日期：1978.3.8

  Synthesis of threo-cis/threo-trans- and erythro-cis/erythro-trans-dihydropalustrin

  合成苏-顺/苏-反式-和赤-顺/赤-反式-dihydropalustrin
• Neue 2-Mercaptothiazolderivate, Verfarhen zu deren Herstellung sowie die Verwendung von 2-Mercaptothiazolderivaten in Arzneimitteln
  申请人：BAYER AG

  公开号：EP0137426A2

  公开（公告）日：1985-04-17

  Die vorliegende Erfindung betrifft neue 2-Mercaptothiazolderivate, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie die Verwendung von 2-Mercaptothiazolderivaten in Arzneimitteln, insbesondere in thromboembolischen Mitteln.

  本发明涉及新的 2-巯基噻唑衍生物、其制备工艺以及 2-巯基噻唑衍生物在药物中的用途，特别是在血栓栓塞剂中的用途。
• THERMOSETTING SILICON-CONTAINING COMPOUND, COMPOSITION FOR FORMING A SILICON-CONTAINING FILM, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3680275A1

  公开（公告）日：2020-07-15

  A thermosetting silicon-containing compound contains one or more of structural units shown by the following general formulae (Sx-1), (Sx-2), and (Sx-3): where R1 represents a monovalent organic group containing both a phenyl group optionally having a substituent and a non-aromatic ring having 3 to 10 carbon atoms; and R2, R3 each represent the R1 or a monovalent organic group having 1 to 30 carbon atoms. Thus, the present invention provides a thermosetting silicon-containing compound usable in a silicon-containing resist underlayer film material capable of achieving contradictory properties of having both alkaline developer resistance and improved solubility in an alkaline stripping liquid containing no hydrogen peroxide.

  热固性含硅化合物包含一个或多个结构单元，结构单元的通式如下（Sx-1）、（Sx-2）和（Sx-3）： 其中，R1 代表一个一价有机基团，该基团包含一个可选具有取代基的苯基和一个具有 3 至 10 个碳原子的非芳香环；R2、R3 分别代表 R1 或一个具有 1 至 30 个碳原子的一价有机基团。因此，本发明提供了一种可用于含硅抗蚀剂底层薄膜材料的热固性含硅化合物，该化合物能够实现既具有抗碱性显影剂性能又能在不含过氧化氢的碱性剥离液中提高溶解性的矛盾特性。
• COMPOSITION FOR FORMING SILICON-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3731017A1

  公开（公告）日：2020-10-28

  The present invention provides a resist underlayer film capable of improving LWR and CDU in a fine pattern formed by a chemically-amplified resist which uses an acid as a catalyst. A composition for forming a silicon-containing resist underlayer film, including a thermosetting silicon-containing material (Sx), a curing catalyst (Xc), and a solvent, in which a distance of diffusion of the curing catalyst (Xc) from a resist underlayer film formed from the composition for forming a silicon-containing resist underlayer film to a resist upper layer film to be formed on the resist underlayer film is 5 nm or less.

  本发明提供了一种抗蚀剂底层薄膜，它能够提高由化学放大抗蚀剂形成的精细图案的 LWR 和 CDU，该抗蚀剂使用酸作为催化剂。一种用于形成含硅光刻胶下层膜的组合物，包括热固性含硅材料 (Sx)、固化催化剂 (Xc) 和溶剂，其中固化催化剂 (Xc) 从由该用于形成含硅光刻胶下层膜的组合物形成的光刻胶下层膜扩散到将在该光刻胶下层膜上形成的光刻胶上层膜的距离为 5 nm 或以下。