tris(diethyl amide)aluminum | 15742-18-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: tris(diethyl amide)aluminum
• 英文别名: tris(diethylamino)aluminium；Aluminium-tris-diethylamid；Tris-(diethylamino)-alan；Diethylaminoaluminum(2+)
• CAS: 15742-18-4
• 化学式: C₁₂H₃₀AlN₃
• 分子量: 243.372
• InChiKey: DMDWCZVTOJGTRS-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.41
• 重原子数：
  6
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  3.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  二氧化碳 、 tris(diethyl amide)aluminum 以 苯 为溶剂， 以72.2 %的产率得到
  参考文献：
  名称：

  CO2 插入 Al−N 键合成 N,N-二烷基氨基甲酸铝

  摘要：

  通过将 CO 2插入到 Al−N 键中，合成了一系列N , N -二烷基氨基甲酸酯。这些化合物的结构解析主要通过固态核磁共振光谱（27 Al和13 C）进行。通过在反应过程中进行的原位 IR 和溶液 NMR 光谱获得对插入机制的洞察。分离出部分水解的氨基甲酸铝簇并通过单晶 X 射线衍射进行研究。

  DOI：

  10.1002/ejic.202200568
• 作为产物：
  描述：

  二乙胺 在 正丁基锂 、 aluminum (III) chloride 作用下， 以 正己烷 、 乙醚 为溶剂， 反应 1.5h， 以84.4%的产率得到tris(diethyl amide)aluminum
  参考文献：
  名称：

  Tris(dialkylamide)aluminum compound, and method for producing aluminum-containing thin film using same

  摘要：

  本发明涉及一种三(二烷基酰胺)铝化合物，以及利用该铝化合物制备含铝薄膜的方法，所述三(二烷基酰胺)铝化合物由下式表示(1)：其中R代表具有1至6个碳原子的直链烷基基团；R1、R2和R3可以相同也可以不同，且每个独立地代表氢原子，或者具有1至6个碳原子的直链或支链烷基基团，或者R1、R2和R3可以连接在一起形成一个环，但排除其中两个或两个以上的R1、R2和R3是氢原子的化合物，且三个二烷基酰胺配体可以相同也可以不同。

  公开号：

  US09194041B2

文献信息

• ALD and Characterization of Aluminum Oxide Deposited on Si(100) using Tris(diethylamino) Aluminum and Water Vapor
  作者：Rajesh Katamreddy、Ronald Inman、Gregory Jursich、Axel Soulet、Christos Takoudis

  DOI：10.1149/1.2239258

  日期：——

  Electrochemical Society (ECS). The archival version of this work was published in Katamreddy, R., R. Inman, G. Jursich, A. Soulet, and C. Takoudis, 2006, ALD and characterization of aluminum oxide deposited on Si (100) using tris(diethylamino) aluminum and water vapor: Journal of the Electrochemical Society, v. 153, no. 10, p. C701-C706.

  © The Electrochemical Society, Inc. 2006。保留所有权利。除美国版权法规定外，未经电化学学会 (ECS) 明确许可，不得复制、转售、分发或修改本作品。这项工作的档案版本发表在 Katamreddy, R.、R. Inman、G. Jursich、A. Soulet 和 C. Takoudis，2006 年，ALD 和使用三（二乙氨基）沉积在 Si (100) 上的氧化铝的表征铝和水蒸气：电化学学会杂志，第 153 卷，编号。10，第。C701-C706。
• Chang, Chung-Cheng; Li, Mung-Dar; Chiang, Michael Y., Inorganic Chemistry, 1997, vol. 36, # 9, p. 1955 - 1960
  作者：Chang, Chung-Cheng、Li, Mung-Dar、Chiang, Michael Y.、Peng, Shie-Ming、Wang, Yu、Lee, Gene-Hsiang

  DOI：——

  日期：——