2,8,14,20-Tetrakis(4-propan-2-ylphenyl)pentacyclo[19.3.1.13,7.19,13.115,19]octacosa-1(25),3(28),4,6,9(27),10,12,15,17,19(26),21,23-dodecaene-4,6,10,12,16,18,22,24-octol | 1021604-60-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 二芳基庚烷
• 英文名称: 2,8,14,20-Tetrakis(4-propan-2-ylphenyl)pentacyclo[19.3.1.13,7.19,13.115,19]octacosa-1(25),3(28),4,6,9(27),10,12,15,17,19(26),21,23-dodecaene-4,6,10,12,16,18,22,24-octol
• CAS: 1021604-60-3
• 化学式: C₆₄H₆₄O₈
• 分子量: 961.207
• InChiKey: GSBWFSYHFUZYGD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  15.2
• 重原子数：
  72
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  9.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  162
• 氢给体数：
  8
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-异丙基苯甲醛 、 间苯二酚 在 盐酸 作用下， 以 乙醇 、 水 为溶剂， 反应 3.5h， 以95%的产率得到2,8,14,20-Tetrakis(4-propan-2-ylphenyl)pentacyclo[19.3.1.13,7.19,13.115,19]octacosa-1(25),3(28),4,6,9(27),10,12,15,17,19(26),21,23-dodecaene-4,6,10,12,16,18,22,24-octol
  参考文献：
  名称：

  Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition used therein, resist film, manufacturing method of electronic device using the same, and electronic device

  摘要：

  提供了一种图案形成方法，包括：(i)使用含有(A)分子量为500至5000的芳香环和非聚合酸分解化合物和(B)能够在接受活性射线或辐射照射后生成酸的化合物的活性射线敏感或辐射敏感组合物形成薄膜的步骤；(ii)曝光薄膜；以及(iii)使用含有有机溶剂的显影剂进行显影，以形成负图案。

  公开号：

  US09417523B2

文献信息

• BICYCLOHEXANE DERIVATIVE AND PRODUCTION METHOD FOR SAME
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP2524907A1

  公开（公告）日：2012-11-21

  A bicyclohexane derivative compound useful in the field of photoresist, the field of intermediate of drugs and pesticides, and the like, and a manufacturing method of the same are provided. A bicyclohexane derivative compound represented by the following general formula (II) is provided. (In formula (II), Y independently represents an alkyl group of 1 to 10 carbons, a halogen atom, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group or a hydroxyl group, X1 represents a halogen atom, m represents an integer of 0 to 11, and m' represents an integer of 0 to 10.)

  提供了一种在光刻胶领域、药物和杀虫剂的中间体领域等领域中有用的一种萜环己烷衍生物化合物，以及其制备方法。提供了由下述通用公式（II）表示的一种萜环己烷衍生物化合物。（在公式（II）中，Y独立表示1至10个碳原子的烷基、卤素原子、酰氧基、烷氧羰基或羟基，X1表示卤素原子，m表示0至11的整数，m'表示0至10的整数。）
• BICYCLOHEXANE DERIVATIVE COMPOUND AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME
  申请人：Echigo Masatoshi

  公开号：US20130030211A1

  公开（公告）日：2013-01-31

  A bicyclohexane derivative compound useful in the field of photoresist, the field of intermediate of drugs and pesticides, and the like, and a manufacturing method of the same are provided. A bicyclohexane derivative compound represented by the following general formula (II) is provided. (In formula (II), Y independently represents an alkyl group of 1 to 10 carbons, a halogen atom, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group or a hydroxyl group, X 1 represents a halogen atom, m represents an integer of 0 to 11, and m represents an integer of 0 to 10.)

  提供了一种在光刻领域、药物和农药中间体领域等方面有用的双环己烷衍生物化合物，以及其制造方法。提供了一种由以下通式（II）表示的双环己烷衍生物化合物。（在式（II）中，Y独立表示1至10个碳原子的烷基，卤素原子，酰氧基，烷氧羰基或羟基，X1表示卤素原子，m表示0至11的整数，n表示0至10的整数。）
• COMPOUND, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：Echigo Masatoshi

  公开号：US20130122423A1

  公开（公告）日：2013-05-16

  The object is to provide a compound having high dissolvability in a safe solvent and high sensitivity, and also capable of obtaining a good resist pattern shape, a radiation-sensitive composition containing the same, and a resist pattern formation method using the composition. For this purpose, a compound (B) obtained by reaction between a polyphenol based cyclic compound (A) and a compound (C) having a particular structure, a radiation-sensitive composition containing the same, and a resist pattern formation method using the composition are provided.

  本发明的目的是提供一种在安全溶剂中具有高溶解度和高灵敏度的化合物，同时还能获得良好的抗蚀图案形状，包含该化合物的辐射敏感组合物以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。为此，提供了通过多酚基环状化合物（A）和具有特定结构的化合物（C）反应得到的化合物（B），包含该化合物的辐射敏感组合物以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。
• RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP2080750B1

  公开（公告）日：2020-07-29
• EP2781501
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——