4,6-bis-[1-(4-hydroxyphenyl)-1-methyl ethyl]-1,3-benzenediol | 147504-92-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 二芳基庚烷
• 英文名称: 4,6-bis-[1-(4-hydroxyphenyl)-1-methyl ethyl]-1,3-benzenediol
• 英文别名: 1,3-dihydroxy-4,6-bis(α-methyl-α(4'-hydroxyphenyl)ethyl)benzene；4,6-Bis[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]benzene-1,3-diol
• CAS: 147504-92-5
• 化学式: C₂₄H₂₆O₄
• 分子量: 378.468
• InChiKey: SGJZXXPWUDGJSV-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  563.4±45.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.222±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.1
• 重原子数：
  28
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  80.9
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-异丙基苯酚 、 间苯二酚 在 styrene-type strong acid ion exchange resin 作用下， 以 乙酸乙酯 为溶剂， 反应 6.0h， 以61.5%的产率得到4,6-bis-[1-(4-hydroxyphenyl)-1-methyl ethyl]-1,3-benzenediol
  参考文献：
  名称：

  一种4,6-双[1-（4-羟苯基）-1-甲基乙基]-1,3-苯二醇的制备方法

  摘要：

  本发明涉及多羟基酚类物质的制备技术领域，提供了一种4,6‑双[1‑(4‑羟苯基)‑1‑甲基乙基]‑1,3‑苯二醇的制备方法，包括以下步骤：将4‑异丙烯基苯酚和/或4‑异丙烯基苯酚线性二聚体与间苯二酚溶于质子性溶剂或非质子性溶剂中；使用强酸性离子交换树脂催化，反应后所得反应液经过浓缩、萃取、析晶等后处理程序即可得到4,6‑双[1‑(4‑羟苯基)‑1‑甲基乙基]‑1,3‑苯二醇。本发明具有制备方法简单、对环境污染小、对人体健康危害小、对设备要求低的特点，同时所使用的溶剂为低毒性溶剂，反应过程中加入的强酸性离子交换树脂能够回收再利用；该方法更加的安全、经济、实用，更加符合产业化生产的要求。

  公开号：

  CN113307725A

文献信息

• PHOTOACID GENERATOR, AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTOLITHOGRAPHY
  申请人：SAN-APRO LTD.

  公开号：US20160368879A1

  公开（公告）日：2016-12-22

  Provided is a non-ionic photoacid generator (A) expressed by general formula (1). R1 and R2 each independently represents an alkyl group having 1-18 carbons or a fluoroalkyl group having 1-18 carbons, an alkenyl group having 2-18 carbons, an alkynyl group having 2-18 carbons, an aryl group having 6-18 carbons, a silyl group, or the like; m and n respectively represent the number of R1s and R2s, each number being an integer from 0 to 3, and the total number (m+n) of R1s and R2s being an integer from 1 to 6. The m number of R1s and the n number of R2s may each be the same or different. R3 represents a hydrocarbon having 1-18 carbons wherein one part or all of the hydrogen may be substituted by fluorine.

  提供的非离子光酸发生剂（A）由通式（1）表示。R1和R2分别独立表示具有1-18个碳原子的烷基基团或具有1-18个碳原子的氟烷基基团，具有2-18个碳原子的烯基基团，具有2-18个碳原子的炔基基团，具有6-18个碳原子的芳基基团，硅基团等；m和n分别表示R1和R2的数量，每个数字为0到3的整数，R1和R2的总数（m+n）为1到6的整数。R1的数量m和R2的数量n可以相同也可以不同。R3表示具有1-18个碳原子的碳氢化合物，其中氢的一部分或全部可以被氟取代。
• SULFONATE COMPOUND, PHOTOACID GENERATOR, AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTOLITHOGRAPHY
  申请人：SAN-APRO LIMITED

  公开号：US20170233336A1

  公开（公告）日：2017-08-17

  Provided are: a non-ionic photoacid generator containing a sulfonate compound having a high photosensitivity to i lines, exhibiting excellent heat-resistance stability, and exhibiting excellent solubility in a hydrophobic material; and a resin composition for photolithography containing the same. The present invention is a sulfonate compound characterized by being represented by general formula (1). [In formula (1), R1 represents an aryl group having 6 to 18 carbon atoms or a heterocyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms. R2 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 18 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms. R3 represents a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms (in which some or all hydrogen atoms may be substituted with fluorine).]

  提供的是：一种非离子光酸发生剂，含有对i线具有高光敏度的磺酸化合物，表现出优异的耐热稳定性，并在疏水材料中表现出优异的溶解性；以及含有该化合物的光刻树脂组合物。本发明是一种磺酸化合物，其特征在于由通式（1）表示。[在式（1）中，R1表示具有6至18个碳原子的芳基基团或具有4至20个碳原子的杂环烃基团。R2表示氢原子，具有1至18个碳原子的烷基基团，具有2至18个碳原子的烯基基团，具有2至18个碳原子的炔基基团或具有6至18个碳原子的芳基基团。R3表示具有1至18个碳原子的烃基团（其中一些或全部氢原子可以被氟代替）。]
• CROSSLINKING AGENT, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE NEGATIVE RESIST COMPOSITION
  申请人：Okuyama Kenichi

  公开号：US20120115084A1

  公开（公告）日：2012-05-10

  Disclosed are a negative resist composition which shows excellent sensitivity and resolution in pattern formation by exposure to electron beams or EUV, a novel crosslinking agent suitable for the resist composition, and a pattern forming method using the resist composition. The negative resist composition comprises: (A) a polyphenol compound comprising two or more phenolic hydroxyl groups in a molecule thereof and having a molecular weight of 300 to 3,000, (B) an acid generator which directly or indirectly produces acid by exposure to active energy rays having a wavelength of 248 nm or less, and (C) a crosslinking agent represented by the following chemical formula (1). (The symbols shown in the formula (1) are defined in the Description).

  本发明涉及一种负型光阻组合物，通过暴露于电子束或极紫外线下表现出优异的感光性和分辨率，以及适用于该光阻组合物的新型交联剂和使用该光阻组合物的图案形成方法。该负型光阻组合物包括：（A）一种聚酚化合物，其分子中包含两个或更多酚羟基，并且分子量为300至3,000，（B）一种酸发生剂，通过暴露于波长为248nm或更短的活性能量射线而直接或间接产生酸，以及（C）一种由以下化学式（1）表示的交联剂。（化学式（1）中所示的符号在说明中有定义）。
• 一种4,6-双[1-(4-羟基苯基)-1-甲基乙 基]-1,3-苯二酚的制备方法
  申请人：苏州市吴赣药业有限公司

  公开号：CN104276928B

  公开（公告）日：2016-04-13

  本发明涉及一种4,6-双[1-(4-羟基苯基)-1-甲基乙基]-1,3-苯二酚的制备方法，依次包括以下步骤：（a）向反应容器中依次投入对异丙烯基苯酚、间苯二酚、复合催化剂，混合均匀后在30~50℃下反应5~8小时，接着升温至50~70℃趁热过滤，得到滤液和滤渣；（b）将所述滤液置于200~700Pa、75~90℃条件下蒸发除去对异丙烯基苯酚得到粗产品；（c）将所述粗产品溶于醇类溶剂中进行结晶即可；所述对异丙烯基苯酚、间苯二酚和复合催化剂的质量比为20~25:8~10:1。一方面使用复合催化剂对对异丙烯基苯酚和间苯二酚进行催化，在反应后不需要使用碱液中和且催化剂能够重复利用，节约了成本；另一方面直接通过蒸发除去对异丙烯基苯酚再进行精制即可，不需要使用水对产物进行冲洗，有利于降低对环境的污染。
• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：Chiba Takashi

  公开号：US20090221777A1

  公开（公告）日：2009-09-03

  Disclosed is a photosensitive resin composition comprising (A) a polyimide resin, (B) a photo-acid generator, and (C) a crosslinking agent having an alkoxyalkylated amino group.

  公开了一种光敏树脂组合物，包括（A）聚酰亚胺树脂，（B）光酸发生剂，以及（C）具有烷氧基烷基化氨基基团的交联剂。