2,8,14,20-Tetrakis(4-cyclohexylcyclohexyl)pentacyclo[19.3.1.13,7.19,13.115,19]octacosa-1(25),3(28),4,6,9(27),10,12,15,17,19(26),21,23-dodecaene-4,6,10,12,16,18,22,24-octol | 1289377-48-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 英文名称: 2,8,14,20-Tetrakis(4-cyclohexylcyclohexyl)pentacyclo[19.3.1.13,7.19,13.115,19]octacosa-1(25),3(28),4,6,9(27),10,12,15,17,19(26),21,23-dodecaene-4,6,10,12,16,18,22,24-octol
• 英文别名: 2,8,14,20-tetrakis(4-cyclohexylcyclohexyl)pentacyclo[19.3.1.13,7.19,13.115,19]octacosa-1(25),3(28),4,6,9(27),10,12,15,17,19(26),21,23-dodecaene-4,6,10,12,16,18,22,24-octol
• CAS: 1289377-48-5
• 化学式: C₇₆H₁₀₄O₈
• 分子量: 1145.66
• InChiKey: PGVBDVAQOIKQIM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  24.8
• 重原子数：
  84
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  13.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.68
• 拓扑面积：
  162
• 氢给体数：
  8
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  对苯基苯甲醛 在 ruthenium on aluminium oxide 盐酸 、 氢气 、 对甲苯磺酸 作用下， 以 乙醇 、 水 、 N,N-二甲基甲酰胺 、 异丙醇 、 甲苯 为溶剂， 80.0~160.0 ℃ 、10.0 MPa 条件下， 反应 15.17h， 生成 2,8,14,20-Tetrakis(4-cyclohexylcyclohexyl)pentacyclo[19.3.1.13,7.19,13.115,19]octacosa-1(25),3(28),4,6,9(27),10,12,15,17,19(26),21,23-dodecaene-4,6,10,12,16,18,22,24-octol
  参考文献：
  名称：

  CYCLIC COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING SAME, RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN

  摘要：

  公开号：

  EP2487148B1

文献信息

• CYCLIC COMPOUND, METHOD OF PRODUCING THE SAME, RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
  申请人：Hayashi Hiromi

  公开号：US20120251947A1

  公开（公告）日：2012-10-04

  This invention addresses problems to provide a cyclic compound having a high solubility in safety solvents and a high sensitivity and being good in the shape of the resulting resist pattern, a method of producing the same, a radiation sensitive composition comprising the same, and a method of forming a resist pattern using the radiation sensitive composition. As means for solving the problem, there are provided a cyclic compound having a specific structure, a radiation sensitive composition comprising the compound, and a method of forming a resist pattern using the composition.
• US8829247B2
  申请人：——

  公开号：US8829247B2

  公开（公告）日：2014-09-09
• [EN] CYCLIC COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING SAME, RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN<br/>[FR] COMPOSÉ CYCLIQUE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, COMPOSITION SENSIBLE AU RAYONNEMENT, ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE
  申请人：MITSUBISHI GAS CHEMICAL CO

  公开号：WO2011043029A1

  公开（公告）日：2011-04-14

  　本発明は、安全溶媒に対する溶解性が高く、高感度でかつ、得られるレジストパターン形状が良好な環状化合物、その製造方法、それを含む感放射線性組成物、および該感放射線性組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供することを課題とし、解決手段として、特定構造を有する環状化合物、該化合物を含む感放射性組成物、および該組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
• CYCLIC COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING SAME, RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP2487148B1

  公开（公告）日：2014-12-31