2,2,2-trifluoro-1-(4-methylsulfanyl-phenyl)-ethanone oxime | 166831-86-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机硫化合物 - 硫醚类
• 英文名称: 2,2,2-trifluoro-1-(4-methylsulfanyl-phenyl)-ethanone oxime
• 英文别名: 2,2,2-trifluoro-1-(4-methylthiophenyl)-ethanone oxime；(NZ)-N-[2,2,2-trifluoro-1-(4-methylsulfanylphenyl)ethylidene]hydroxylamine
• CAS: 166831-86-3
• 化学式: C₉H₈F₃NOS
• 分子量: 235.23
• InChiKey: SBRHCHJCSMZWOZ-JYRVWZFOSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.5
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.22
• 拓扑面积：
  57.9
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  盐酸羟胺 、 2,2,2-三氟-1-[4-(甲硫基)苯基]乙酮 在 sodium acetate 作用下， 以 乙醇 、 水 为溶剂， 以54%的产率得到2,2,2-trifluoro-1-(4-methylsulfanyl-phenyl)-ethanone oxime
  参考文献：
  名称：

  Oxime derivatives and the use thereof as latent acids

  摘要：

  式I、II和III的化合物，其中R1例如是氢、C1-C12烷基、C3-C30环烷基、C2-C12烯基、C4-C8环烯基、苯基（未取代或取代）、萘基、蒽基或菲基（未取代或取代）、未取代或取代的杂环芳基；其中除氢外，所有基团R1还可以通过具有—O—C键或—O—Si键的基团取代，该基团在酸的作用下断裂；R′1例如是苯基、萘基、二苯基或氧二苯基，这些基团未取代或取代；R2是卤素或C1-C10卤代烷基；R3例如是C1-C18烷基磺酰基、苯基磺酰基、萘基磺酰基、蒽基磺酰基或菲基磺酰基，这些基团未取代或取代，或者R3例如是C2-C6卤代烷酰基或卤苯甲酰基，R′3例如是苯基二磺酰基、萘基二磺酰基、二苯基二磺酰基或氧二苯基二磺酰基，这些基团未取代或取代，X是卤素；在化学增感胶的配方中，这些化合物特别适用作为光敏酸供体。

  公开号：

  US06512020B1

文献信息

• O-acyloxime photoinitiators
  申请人：Ciba Specialty Chemicals Corporation

  公开号：US06596445B1

  公开（公告）日：2003-07-22

  Oximeester compounds of the formulae I, II, III and IV wherein R1 is phenyl, C1-C20alkyl or C2-C20alkyl optionally interrupted by —O—, C2-C20alkanoyl or benzoyl, or R1 is C2-C12alkoxycarbonyl or phenoxycarbonyl; R1′ is C2-C12alkoxycarbonyl, or R1′ is phenoxycarbonyl, or R1′ is —CONR10R11 or CN; R2 is C2-C12alkanoyl, C4-C6alkenoyl, benzoyl, C2-C6alkoxycarbonyl or phenoxycarbonyl; R3, R4, R5, R6 and R7 are hydrogen, halogen, C1-C12alkyl, cyclopentyl, cyclohexyl, phenyl, benzyl, benzoyl, C2-C12alkanoyl, C2-C12alkoxycarbonyl, phenoxycarbonyl or a group OR8, SR9, SOR9, SO2R9 or NR10R11; R4′, R5′ and R6′ are hydrogen, halogen, C1-C12alkyl, cyclopentyl, cyclohexyl, phenyl, benzyl, benzoyl, C2-C12-alkanoyl, C2-C12alkoxycarbonyl, phenoxycarbonyl, or are a group OR8, SR9, SOR9, SO2R9, NR10R11; provided that at least one of R3, R4, R5, R6, R7, R′4, R′5 and R′6 is OR8, SR9 or NR10R11; R8, R9, R10 and R11 are for example hydrogen, C1-C12alkyl, phenyl; are suitable as initiators for the photopolymerization of radically polymerizable compounds.

  氧肟化合物的公式I、II、III和IV，其中R1是苯基、C1-C20烷基或C2-C20烷基，可选地由—O—、C2-C20烷酰基或苯甲酰基中断，或者R1是C2-C12烷氧羰基或苯氧羰基；R1'是C2-C12烷氧羰基，或者R1'是苯氧羰基，或者R1'是—CONR10R11或CN；R2是C2-C12烷酰基、C4-C6烯酰基、苯甲酰基、C2-C6烷氧羰基或苯氧羰基；R3、R4、R5、R6和R7是氢、卤素、C1-C12烷基、环戊基、环己基、苯基、苄基、苯甲酰基、C2-C12烷酰基、C2-C12烷氧羰基、苯氧羰基或者一个OR8、SR9、SOR9、SO2R9或NR10R11基团；R4'、R5'和R6'是氢、卤素、C1-C12烷基、环戊基、环己基、苯基、苄基、苯甲酰基、C2-C12烷酰基、C2-C12烷氧羰基、苯氧羰基，或者是一个OR8、SR9、SOR9、SO2R9、NR10R11基团；但至少其中一个R3、R4、R5、R6、R7、R'4、R'5和R'6是OR8、SR9或NR10R11；R8、R9、R10和R11例如是氢、C1-C12烷基、苯基；适用作为引发剂用于自由基聚合可聚合化合物的光聚合。
• US6261738B1
  申请人：——

  公开号：US6261738B1

  公开（公告）日：2001-07-17
• US6512020B1
  申请人：——

  公开号：US6512020B1

  公开（公告）日：2003-01-28
• US6596445B1
  申请人：——

  公开号：US6596445B1

  公开（公告）日：2003-07-22
• Oxime derivatives and the use thereof as latent acids
  申请人：Ciba Specialty Chemicals Corporation

  公开号：US06512020B1

  公开（公告）日：2003-01-28

  Compounds of formula I, II and III, wherein wherein R1 is for example hydrogen, C1-C12alkyl, C3-C30cycloalkyl, C2-C12alkenyl, C4-C8cycloalkenyl, phenyl, which is unsubstituted or substituted, naphthyl, anthracyl or phenanthryl, unsubstituted or substituted, heteroaryl radical which is unsubstituted or substituted; wherein all radicals R1 with the exception of hydrogen can additionally be substituted by a group having a —O—C-bond or a —O—Si-bond which cleaves upon the action of an acid; R′1 is for example phenylene, naphthylene, diphenylene or oxydiphenylene, wherein these radicals are unsubstituted or substituted; R2 is halogen or C1-C10haloalkyl; R3 is for example C1-C18alkylsulfonyl, phenylsulfonyl, naphthylsulfonyl, anthracylsulfonyl or phenanthrylsulfonyl, wherein the groups are unsubstituted or substituted, or R3 is e.g. C2-C6haloalkanoyl, or halobenzoyl, R′3 is for example phenylenedisulfonyl, naphthylenedisulfonyl, diphenylenedisulfonyl, or oxydiphenylenedisulfonyl, wherein these radicals are unsubstituted or substituted, X is halogen; are especially suitable as photosensitive acid-donors in chemically amplified resist formulations.

  式I、II和III的化合物，其中R1例如是氢、C1-C12烷基、C3-C30环烷基、C2-C12烯基、C4-C8环烯基、苯基（未取代或取代）、萘基、蒽基或菲基（未取代或取代）、未取代或取代的杂环芳基；其中除氢外，所有基团R1还可以通过具有—O—C键或—O—Si键的基团取代，该基团在酸的作用下断裂；R′1例如是苯基、萘基、二苯基或氧二苯基，这些基团未取代或取代；R2是卤素或C1-C10卤代烷基；R3例如是C1-C18烷基磺酰基、苯基磺酰基、萘基磺酰基、蒽基磺酰基或菲基磺酰基，这些基团未取代或取代，或者R3例如是C2-C6卤代烷酰基或卤苯甲酰基，R′3例如是苯基二磺酰基、萘基二磺酰基、二苯基二磺酰基或氧二苯基二磺酰基，这些基团未取代或取代，X是卤素；在化学增感胶的配方中，这些化合物特别适用作为光敏酸供体。