2-(n-hexyloxy)-5-tert-butylthiophenol | 746652-30-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-(n-hexyloxy)-5-tert-butylthiophenol
• 英文别名: 5-Tert-butyl-2-hexoxybenzenethiol
• CAS: 746652-30-2
• 化学式: C₁₆H₂₆OS
• 分子量: 266.448
• InChiKey: OVSRCEWPQBWGCI-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  358.5±42.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.967±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.62
• 拓扑面积：
  10.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(n-hexyloxy)-5-tert-butylthiophenol 、 二氯甲烷 在 sodium hydroxide 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 反应 3.0h， 生成 formaldehyde bis(2-(n-hexyloxy)-5-tert-butylbenzenethio)acetal
  参考文献：
  名称：

  Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process

  摘要：

  一种化学放大型抗蚀组合物，包括在苯环上的2-位含有长链烷氧基基团的特定苯磺酰二氮甲烷，具有许多优点，包括提高分辨率，改善焦点宽度，即使在长期PED上也减少线宽变化或形状退化，涂层、显影和剥离后减少残留物，并在显影后改善图案轮廓，因此适用于微加工。

  公开号：

  US20040167322A1
• 作为产物：
  描述：

  2-bromo-4-tert-butyl-1-n-hexyloxybenzene 在 magnesium 、 sulfur 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 2.0h， 以64%的产率得到2-(n-hexyloxy)-5-tert-butylthiophenol
  参考文献：
  名称：

  Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process

  摘要：

  一种化学放大型抗蚀组合物，包括在苯环上的2-位含有长链烷氧基基团的特定苯磺酰二氮甲烷，具有许多优点，包括提高分辨率，改善焦点宽度，即使在长期PED上也减少线宽变化或形状退化，涂层、显影和剥离后减少残留物，并在显影后改善图案轮廓，因此适用于微加工。

  公开号：

  US20040167322A1

文献信息

• US7109311B2
  申请人：——

  公开号：US7109311B2

  公开（公告）日：2006-09-19
• Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20040167322A1

  公开（公告）日：2004-08-26

  A chemical amplification type resist composition comprising a specific benzenesulfonyldiazomethane containing a long-chain alkoxyl group at the 2-position on benzene ring has many advantages including improved resolution, improved focus latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized debris left after coating, development and peeling, and improved pattern profile after development and is thus suited for microfabrication.

  一种化学放大型抗蚀组合物，包括在苯环上的2-位含有长链烷氧基基团的特定苯磺酰二氮甲烷，具有许多优点，包括提高分辨率，改善焦点宽度，即使在长期PED上也减少线宽变化或形状退化，涂层、显影和剥离后减少残留物，并在显影后改善图案轮廓，因此适用于微加工。