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(p-C6H4Me)2PS2H | 35353-99-2

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
(p-C6H4Me)2PS2H
英文别名
Di--dithiophosphonigsaeure;Di-<4-tolyl>-dithiophosphinsaeure;Di--dithiophosphinsaeure;Bis-p-tolyl-dithio-unterphosphorigsaeure;Di-(p-tolyl)-dithiophosphinsaeure;Di-(4-tolyl)-dithiophosphinsaeure;Bis(4-methylphenyl)-sulfanyl-sulfanylidene-lambda5-phosphane;bis(4-methylphenyl)-sulfanyl-sulfanylidene-λ5-phosphane
(p-C6H4Me)2PS2H化学式
CAS
35353-99-2
化学式
C14H15PS2
mdl
——
分子量
278.379
InChiKey
GRDFFMLZUPRMLS-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
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物化性质

  • 熔点:
    80-81 °C
  • 沸点:
    385.4±45.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.20±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    5.4
  • 重原子数:
    17
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.14
  • 拓扑面积:
    33.1
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    2

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    (p-C6H4Me)2PS2H 在 NaOMe 、 THF 作用下, 以 四氢呋喃甲醇二氯甲烷 为溶剂, 生成 {Fe(S2P(p-C6H4Me)2)2(THF)2}
    参考文献:
    名称:
    Kirschbaum, Kristin; Greiwe, Klaus; Mueller, Kay, Zeitschrift fur Naturforschung, B: Chemical Sciences, 1990, vol. 45, # 4, p. 497 - 507
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • Use of dithiophosphinic acid and/or its salts for producing anti-corrosion coatings that are devoid of chrome
    申请人:BASF SE
    公开号:US10472525B2
    公开(公告)日:2019-11-12
    Use of dithiophosphinic acids of the general formula HS2P(R1)(R2) and/or salts thereof for producing chrome-free, polymer-containing corrosion control layers on metallic surfaces, R1 and R2 independently of one another each being organic radicals having 1 to 30 C atoms.
    使用通式 HS2P(R1)(R2)的二硫代膦酸和/或其盐在金属表面生成无铬、含聚合物的腐蚀控制层,其中 R1 和 R2 各自独立地为具有 1 至 30 个 C 原子的有机基。
  • Kirschbaum, Kristin; Boennighausen, Uta; Gesing, Ewald, Zeitschrift fur Naturforschung, B: Chemical Sciences, 1990, vol. 45, # 2, p. 245 - 257
    作者:Kirschbaum, Kristin、Boennighausen, Uta、Gesing, Ewald、Greiwe, Klaus、Kuhlmann, Ulrich、et al.
    DOI:——
    日期:——
  • Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Rh: SVol.B3, 1.2.2.2, page 17 - 18
    作者:
    DOI:——
    日期:——
  • Mukherjee, R. N.; Shanbag, S. V.; Angadi, R. P., Indian journal of chemistry, 1973, vol. 11, p. 64 - 65
    作者:Mukherjee, R. N.、Shanbag, S. V.、Angadi, R. P.、Srivastava, H. N.
    DOI:——
    日期:——
  • NISIXARA, AKIO;XANDA, TAKURO;TANAKA, NORIESI;YAMAMOTO, GORO
    作者:NISIXARA, AKIO、XANDA, TAKURO、TANAKA, NORIESI、YAMAMOTO, GORO
    DOI:——
    日期:——
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