希夫碱与
金属离子的电子转移和配位机理,电
化学和光学性质的相关性及其在
化学和
生物化学各个领域中的潜在应用都未得到研究。因此,通过本体循环伏安法和可控电库仑法研究了四
氟硼酸四丁基
铵(TBA + BF 4 -)-二甲基甲酰胺(
DMF)中某些Co 2 +,Ni 2+和Cu 2+
硫代半
碳酸盐配合物的氧化还原行为的详细分配。电极对的氧化还原行为(M + / M 2+和M 2+ / M 3+,M = Co,Ni或Cu)的依赖于所述缩
氨基
硫脲基团的供电子性(或撤消)取代基(N 1 H和/或N 4 2H),P ķ一个Schiff碱的,和d Ñ的电子
金属离子。随着(TBA + BF 4 -)-
DMF中复合物浓度的增加,复合物的循环伏安图显示扩散系数(D)(0.27-0.29)×10 -6 cm 2的值无明显变化。s -1。该Ë PA和Ë PCN 1 H和N 4 H取代基,Hammett参数(σ)和
金属离子的d