Photopolymerisierbares Gemisch und lichtempfindliches Schichtübertragungsmaterial
申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
公开号:EP0006125A1
公开(公告)日:1980-01-09
Es werden Weichmacher für photopolymerisierbare Gemische aus alkalilöslichen Bindemittein, Monomeren und Photoinitiatpren beschrieben, die der Formel
entsprechen, worin
R, ein Wasserstoff- oder Halogenatom oder ein Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen,
R2 ein Wasserstoffatom, eine OH-Gruppe oder ein Alkylrest mit 1-4 Kohlenstoffatomen,
R3 ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe,
R4 einen Alkyl- oder Alkenylrest mit 1 bis 20 C-Atomen und
n Null oder eine Zahl von 1 bis 20 bedeutet,
wobei R4 mindestens 4 C-Atome hat, wenn n Null oder 1 ist.
Die Gemische ergeben lichtempfindliche Schichten, besonders für Trockenresistmaterialien, mit guter Flexibilität und geringem Kaltfluß.
描述了用于碱溶性粘合剂、单体和光引发剂的可光聚合混合物的增塑剂,其对应的式中 R 是氢原子、卤素原子或具有 1 至 4 个碳原子的烷基,R2 是氢原子、OH 基团或具有 1 至 4 个碳原子的烷基,R3 是氢原子或甲基,R4 是具有 1 至 20 个碳原子的烷基或烯基,n 是零或一个数字、 一个 OH 基团或一个具有 1-4 个碳原子的烷基,R3 是一个氢原子或一个甲基,R4 是一个具有 1-20 个碳原子的烷基或烯基且 n 为零或 1-20 的数字,其中当 n 为零或 1 时,R4 具有至少 4 个碳原子。 这些混合物可生产出具有良好柔韧性和低冷流性的光敏层,尤其适用于干抗蚀剂材料。