methylpropenoic acid (4-hydroxyphenyl)methyl ester | 57468-94-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: methylpropenoic acid (4-hydroxyphenyl)methyl ester
• 英文别名: (methaneyl)propenoic acid 4-hydroxybenzyl ester；(methyl)propenoic acid 4-hydroxybenzyl ester；methacrylic acid 4-hydroxyphenylmethyl ester；methylpropenoic acid-p-hydroxybenzyl ester；methacrylic acid-4-hydroxybenzyl ester；4-hydroxybenzyl (methyl)propenoate；(4-Hydroxyphenyl)methyl 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 57468-94-7
• 化学式: C₁₁H₁₂O₃
• 分子量: 192.214
• InChiKey: QQAUGDODGCJHBJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.18
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  methylpropenoic acid (4-hydroxyphenyl)methyl ester 、 米托拉酮 在 三乙胺 、 N-[(dimethylamino)-3-oxo-1H-1,2,3-triazolo[4,5-b]pyridin-1-yl-methylene]-N-methylmethanaminium hexafluorophosphate 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 12.0h， 以59.4%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  肿瘤纳米疫苗、其制备方法及用途

  摘要：

  本发明涉及一种肿瘤纳米疫苗、其制备方法及用途。本发明的肿瘤纳米疫苗是由酸敏感性聚合物免疫佐剂偶联物与肿瘤相关抗原/抗原肽所构成的复合纳米胶束，所述酸敏感性聚合物免疫佐剂偶联物具有如下式1所示的结构。本发明的肿瘤纳米疫苗能够选择性靶向淋巴结并将肿瘤新生抗原和免疫佐剂高效递送到树突细胞，激活抗原特异性T细胞免疫效应，高效抑制肿瘤生长和转移。

  公开号：

  CN113577255B
• 作为产物：
  描述：

  对羟基苯甲醇 、 甲基丙烯酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 12.0h， 以97%的产率得到methylpropenoic acid (4-hydroxyphenyl)methyl ester
  参考文献：
  名称：

  肿瘤纳米疫苗、其制备方法及用途

  摘要：

  本发明涉及一种肿瘤纳米疫苗、其制备方法及用途。本发明的肿瘤纳米疫苗是由酸敏感性聚合物免疫佐剂偶联物与肿瘤相关抗原/抗原肽所构成的复合纳米胶束，所述酸敏感性聚合物免疫佐剂偶联物具有如下式1所示的结构。本发明的肿瘤纳米疫苗能够选择性靶向淋巴结并将肿瘤新生抗原和免疫佐剂高效递送到树突细胞，激活抗原特异性T细胞免疫效应，高效抑制肿瘤生长和转移。

  公开号：

  CN113577255B

文献信息

• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20140045123A1

  公开（公告）日：2014-02-13

  A polymer comprising recurring units derived from a (meth)acrylate monomer of tertiary ester type having branched alkyl on alicycle is used to form a resist composition. When subjected to exposure, PEB and organic solvent development, the resist composition is improved in dissolution contrast.

  一种聚合物，包括由具有支链烷基的萜酸酯单体衍生的重复单元，用于形成抗蚀组合物。在经过曝光、PEB和有机溶剂显影处理后，抗蚀组合物在溶解对比度方面得到改善。
• RESIST COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, AND BARIUM, CESIUM AND CERIUM SALTS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20170115566A1

  公开（公告）日：2017-04-27

  A resist composition comprising a base resin comprising acid labile group-containing recurring units and preferably acid generator-containing recurring units, and a sodium, magnesium, potassium, calcium, rubidium, strontium, yttrium, cesium, barium or cerium salt of α-fluorinated sulfonic acid bonded to an alkyl, alkenyl, alkynyl or aryl group exhibits a high resolution and sensitivity and forms a pattern of satisfactory profile with minimal LWR after exposure and development.

  一种抗蚀组合物包括基树脂，其中包含含酸敏感基团的重复单元，最好包含含酸发生剂的重复单元，以及与烷基、烯基、炔基或芳基结合的α-氟磺酸的钠、镁、钾、钙、铷、锶、钇、铯、钡或铈盐，表现出高分辨率和灵敏度，并在曝光和显影后形成具有最小LWR的满意轮廓图案。
• Polymerizable compound, polymer, positive resist composition, and patterning process using the same
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20090297979A1

  公开（公告）日：2009-12-03

  The present invention provides; a polymer suitable as a base resin for a positive resist composition, in particular a chemically amplified positive resist composition, having a higher resolution, a larger exposure allowance, a smaller sparse-dense size difference, a better process applicability, a better pattern configuration after exposure, and in addition, a further excellent etching resistance, than a conventional positive resist; a positive resist composition using the same; a patterning process; and a novel polymerizable compound to obtain a polymer like this. The present invention was accomplished by a polymer whose hydrogen atom of at least a carboxyl group is substituted by an acid labile group represented by the following general formula (2), a positive resist composition using the same, a patterning process, and a novel polymerizable compound to obtain a polymer like this.

  本发明提供了一种聚合物，适用于作为正向光刻胶组成的基础树脂，特别是化学放大正向光刻胶组成，具有更高的分辨率、更大的曝光容差、更小的稀密差异、更好的工艺适用性、曝光后更好的图案构形，以及比传统正向光刻胶更出色的蚀刻抗性；使用该聚合物的正向光刻胶组成；一种图案化工艺；以及一种新型的可聚合化合物，以获得类似的聚合物。本发明通过一种聚合物实现，其至少一个羧基的氢原子被下述通式（2）所表示的酸敏感基团所取代，使用该聚合物的正向光刻胶组成，一种图案化工艺，以及一种新型的可聚合化合物，以获得类似的聚合物。
• NITROGEN-CONTAINING MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Sagehashi Masayoshi

  公开号：US20120183904A1

  公开（公告）日：2012-07-19

  A chemically amplified positive resist composition of better performance can be formulated using a polymer having a quencher incorporated therein, specifically a polymer comprising recurring units having a carbamate structure which is decomposed with an acid to generate an amino group and optionally recurring units having an acid labile group capable of generating a carboxyl and/or hydroxyl group under the action of an acid. The polymer is highly effective for suppressing diffusion of acid and diffuses little itself, and the composition forms a pattern of rectangular profile at a high resolution.

  一种化学增感正向光阻组合物可以使用具有淬灭剂的聚合物制备，具体来说，该聚合物包含具有碳酸酯结构的重复单元，该碳酸酯结构在酸的作用下分解生成氨基团，并且可以包含具有酸敏感基团的重复单元，该酸敏感基团在酸的作用下能够生成羧基和/或羟基团。该聚合物对于抑制酸的扩散非常有效，并且本身扩散很少，组合物形成高分辨率的矩形剖面图案。
• RESIST COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, MONOMER, AND COPOLYMER
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20130309606A1

  公开（公告）日：2013-11-21

  A polymer is obtained from copolymerization of a recurring unit having a carboxyl and/or phenolic hydroxyl group substituted with an acid labile group and a recurring unit having formula (1) wherein R 1 is methyl, ethyl, propyl, methoxy, ethoxy or propoxy, R 2 is H or CH 3 , and m is 1 to 4. The polymer is used as a base resin to formulate a resist composition, which is improved in contrast of alkali dissolution rate before and after exposure, acid diffusion control, resolution, and profile and edge roughness of a pattern after exposure.

  一种聚合物是通过共聚反应获得的，其中具有羧酸和/或酚羟基的重复单元被取代为酸易裂解基团，而具有公式（1）的重复单元的R1为甲基，乙基，丙基，甲氧基，乙氧基或丙氧基，R2为H或CH3，m为1到4。该聚合物用作基础树脂来制备抗蚀剂组合物，该组合物在曝光前后的碱溶解速率对比、酸扩散控制、分辨率以及曝光后图案的轮廓和边缘粗糙度方面得到改善。