Imino-[4-[4-[2-[4-[4-(iminoazaniumylideneamino)phenoxy]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]phenyl]iminoazanium | 71550-57-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: Imino-[4-[4-[2-[4-[4-(iminoazaniumylideneamino)phenoxy]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]phenyl]iminoazanium
• CAS: 71550-57-7
• 化学式: C27H24N6O2+2
• 分子量: 464.5
• InChiKey: DRGCZJGYFVTMKO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.96
• 重原子数：
  35
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.11
• 拓扑面积：
  92.9
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  6

文献信息

• [EN] RADIATION SENSITIVE TERPOLYMER, PHOTORESIST COMPOSITIONS THEREOF AND 193 nm BILAYER SYSTEMS<br/>[FR] TERPOLYMERE RADIOSENSIBLE, COMPOSITIONS DE RESINE PHOTOSENSIBLE A BASE DE CE TERPOLYMERE ET SYSTEMES A DEUX COUCHES DE 193 NM
  申请人：OLIN MICROELECTRONIC CHEMICALS, INC.

  公开号：WO1999042903A1

  公开（公告）日：1999-08-26

  (EN) A terpolymer with chemically amplified (acid labile) moieties and organosilicon moieties suitable for use as the binder resin for a photoimageable resist photoresist composition suitable for use in 193 nm photolithographic processes. The terpolymers have structural units: (I), (II), (III), where R is a methyl or hydroxyethyl group, R1 is a hydrogen atom, a methyl group or a -CH2COOCH3 group and R2 and R3 are each independently a hydrogen atom or a methyl group.(FR) Terpolymère avec fractions amplifiées chimiquement (instabilité acide) et fractions organosiliciées convenant comme liant résine pour une composition de résine photosensible/résine photoimageable pouvant être utilisée pour des procédés photolithographiques de 193 nm. Les terpolymères possèdent les unités structurelles (I), (II), (III) où R est un groupe méthyle ou hydroxyméthyle, R1 est un atome d'hydrogène, un groupe méthyle ou un groupe -CH2COOCH3 et R2 et R3 sont chacun et indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle.