[3-(Anthracen-9-yl)propyl](diphenyl)sulfanium | 132399-87-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 蒽
• 英文名称: [3-(Anthracen-9-yl)propyl](diphenyl)sulfanium
• 英文别名: 3-anthracen-9-ylpropyl(diphenyl)sulfanium
• CAS: 132399-87-2
• 化学式: C29H25S+
• 分子量: 405.6
• InChiKey: KHLNDOWNDDVJCE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  8.8
• 重原子数：
  30
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  5.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.1
• 拓扑面积：
  1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

文献信息

• POSITIVE WORKING RESIST COMPOSITIONS AND THEIR UTILITY IN DRY FILM PHOTORESISTS
  申请人：E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY

  公开号：EP0524187A1

  公开（公告）日：1993-01-27
• RESIST MATERIAL FOR USE IN THICK FILM RESISTS
  申请人：E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY

  公开号：EP0524250A1

  公开（公告）日：1993-01-27
• US5077174A
  申请人：——

  公开号：US5077174A

  公开（公告）日：1991-12-31
• US5120633A
  申请人：——

  公开号：US5120633A

  公开（公告）日：1992-06-09
• [EN] RESIST MATERIAL FOR USE IN THICK FILM RESISTS
  申请人：E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY

  公开号：WO1991015808A1

  公开（公告）日：1991-10-17

  (EN) Excellent resolution and sensitivity in the patterning of resists utilized in device and mask manufacture is obtained with a specific composition. In particular this composition involves polymers having recurring pendant acid labile $g(a)-alkoxyalkyle carboxylique acid ester and/or hydroxyaromatique ether moieties in the presence of a substance that is an acid generator upon exposure to actinic radiation.(FR) On obtient une résolution et une sensibilité excellentes dans la configuration de réserves utilisées dans la fabrication de dispositifs et de masques, à l'aide d'une composition spécifique. Cette composition met notamment en ÷uvre des polymères présentant des fractions d'esters $g(a)-alkoxyalkyle d'acide carboxylique et/ou d'éther hydroxyaromatique labiles d'acides pendants récurrents, en présence d'une substance constituant un générateur d'acide lors d'une exposition à un rayonnement actinique.