2-(sec-butyl)benzo[d]oxazole | 56367-23-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并恶唑类
• 英文名称: 2-(sec-butyl)benzo[d]oxazole
• 英文别名: 2-Butan-2-yl-1,3-benzoxazole
• CAS: 56367-23-8
• 化学式: C₁₁H₁₃NO
• 分子量: 175.23
• InChiKey: DCBRAZXJZADCJS-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.36
• 拓扑面积：
  26
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-巯基苯并恶唑 在 palladium on activated charcoal 二氯化二硫 、 氢气 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 1.0h， 生成 2-(sec-butyl)benzo[d]oxazole
  参考文献：
  名称：

  2-氯苯并恶唑与β，γ-不饱和格氏试剂的交叉偶联：区域选择性合成2-烯丙基-，2-烯基-和2-炔丙基-苯并恶唑

  摘要：

  β，γ-不饱和格氏试剂与2-氯苯并恶唑在区域上选择性反应，从而获得高至优异的2-烯丙基-，2-烯基-和2-炔丙基-苯并恶唑的收率。2-烯丙基苯并恶唑的还原导致支链2-烷基苯并恶唑的定量收率。

  DOI：

  10.1016/s0040-4020(01)87545-1

文献信息

• Visible Light‐Induced Decarboxylative Alkylation of Heterocyclic Aromatics with Carboxylic Acids via Anthocyanin as a Photocatalyst
  作者：Rui Guo、Minghui Zuo、Qinye Tian、Chuanfu Hou、Shouneng Sun、Weihao Guo、Hongfeng Wu、Wenyi Chu、Zhizhong Sun

  DOI：10.1002/asia.202000277

  日期：2020.7

  A visible light‐induced decarboxylative alkylation of heterocyclic aromatics with aliphatic carboxylic acids was developed by using anthocyanins as a photocatalyst under mild conditions. A series of alkylated heterocyclic compounds were obtained in moderate to good yields by using the metal‐free decarboxylative coupling reaction under blue light. This strategy uses cheap and readily available carboxylic

  花青素作为光催化剂，在温和的条件下，开发了可见光诱导的杂环芳烃与脂肪族羧酸的脱羧烷基化反应。通过在蓝光下使用无金属的脱羧偶联反应，以中等至良好的收率获得了一系列烷基化杂环化合物。该策略使用廉价且容易获得的羧酸作为烷基化试剂，具有良好的官能团耐受性和环境友好性。值得注意的是，这是花青素首次用于催化Minisci型CH烷基化反应。通过捕获烷基自由基和氢醌的加合物来研究脱羧烷基化的机理，从而证实了自由基机理。
• Silver catalyzed decarboxylative direct C2-alkylation of benzothiazoles with carboxylic acids
  作者：Wei-Ming Zhao、Xiao-Lan Chen、Jin-Wei Yuan、Ling-Bo Qu、Li-Kun Duan、Yu-Fen Zhao

  DOI：10.1039/c3cc48069k

  日期：——

  A novel and efficient silver catalyzed decarboxylative direct C2-alkylation of benzothiazoles with carboxylic acids for the synthesis of 2-alkyl benzothiazoles was developed.

  开发了一种新颖且高效的银催化脱羧直接C2烷基化苯并噻唑与羧酸的反应，用于合成2-烷基苯并噻唑。
• (Meth) acrylamide derivative, polymer, chemically amplified photosensitive resin composition, and patterning method
  申请人：Maeda Katsumi

  公开号：US20090068587A1

  公开（公告）日：2009-03-12

  The present invention relates to a novel (meth)acrylamide compound represented by the general formula (1), a (co)polymer of the (meth)acrylamide compound, and a chemically amplified photosensitive resin composition composed of the polymer and a photoacid generator. In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group; R 2 represents an acid-decomposable group; and R 3 to R 6 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

  本发明涉及一种由通式（1）表示的新型（甲基）丙烯酰胺化合物，该化合物的（共）聚合物，以及由聚合物和光酸发生剂组成的化学增感光敏树脂组合物。在该式中，R1代表氢原子或甲基基团；R2代表可分解酸基团；R3至R6独立地代表氢原子、卤素原子或具有1至4个碳原子的烷基基团。
• 一种制备苯并恶唑类化合物的方法
  申请人：中国科学院大连化学物理研究所

  公开号：CN110963978B

  公开（公告）日：2022-05-31

  本发明涉及一种制备苯并恶唑类化合物的方法。该方法采用2‑氨基苯酚、烯烃和一氧化碳作为反应底物，有机溶剂作为溶剂，在钌负载的金属氧化物的催化作用下，制备苯并恶唑类化合物。其反应过程如下：将有机溶剂、2‑氨基苯酚、烯烃与催化剂加入压力容器中，充入一氧化碳，密闭，搅拌，反应温度不低于120℃，反应时间不少于0.5小时，反应后催化剂与反应体系易分离且可以多次循环使用，苯并恶唑类化合物的收率最高达到100％。
• ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
  申请人：Takahashi Hidenori

  公开号：US20120156618A1

  公开（公告）日：2012-06-21

  According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin (P) containing not only at least one repeating unit (A) that when exposed to actinic rays or radiation, is decomposed to thereby generate an acid and is expressed by any of general formulae (I) to (III) below but also a repeating unit (B) containing at least an aromatic ring group provided that the repeating unit (B) does not include any of those of general formulae (I) to (III). (The characters used in general formulae (I) to (III) have the meanings mentioned in the description.)

  根据一种实施例，一种感光射线或辐射敏感的树脂组合物包括树脂（P），该树脂不仅包含至少一个重复单元（A），当暴露于感光射线或辐射时，分解从而产生酸，并由下列任一通式（I）至（III）表示，而且还包括一个重复单元（B），其中至少包含一个芳香环基团，前提是重复单元（B）不包括通式（I）至（III）中的任何一个。（通式（I）至（III）中使用的字符在描述中有所提及。）