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1-(trichlorosilyl)-1-(dichloroboryl)ethane
1-(trichlorosilyl)-1-(dichloroboryl)ethane | 214635-76-4
分子结构分类
有机化合物
-
有机酸及其衍生物
-
硼酸衍生物
中文名称
——
中文别名
——
英文名称
1-(trichlorosilyl)-1-(dichloroboryl)ethane
英文别名
trichloro(1-dichloroboranylethyl)silane
CAS
214635-76-4
化学式
C
2
H
4
BCl
5
Si
mdl
——
分子量
244.215
InChiKey
PWJTUTWHLZLFBD-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
物化性质
计算性质
ADMET
安全信息
SDS
制备方法与用途
上下游信息
反应信息
文献信息
表征谱图
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物化性质
沸点:
178.6±40.0 °C(Predicted)
密度:
1.383±0.06 g/cm3(Predicted)
计算性质
辛醇/水分配系数(LogP):
3.54
重原子数:
9
可旋转键数:
0
环数:
0.0
sp3杂化的碳原子比例:
1.0
拓扑面积:
0
氢给体数:
0
氢受体数:
0
反应信息
作为反应物:
描述:
1-(trichlorosilyl)-1-(dichloroboryl)ethane
、
六甲基二硅氮烷
以91%的产率得到2,4,6-Tris-(1-trichlorosilanyl-ethyl)-[1,3,5,2,4,6]triazatriborinane
参考文献:
名称:
A new borazine-type single source precursor for Si/B/N/C ceramics
摘要:
新的硼嗪衍生物[B{CH(CH3)(SiCl3)}NH]3 (TSEB)是通过在室温条件下将Cl3Si–CH(CH3)–BCl2 (TSDE)与六甲基二硅胺烷(hmds)反应制备而成的。TSEB通过红外光谱(IR)、核磁共振(NMR)和质谱(MS)进行了表征。这种特殊设计的分子作为单一来源前体,通过众所周知的“聚合物路线”合成高度耐用的Si/B/N/C陶瓷材料。根据这一理念,以甲胺为交联试剂对TSEB进行聚合,得到高度均质的预陶瓷聚合物,并通过光谱方法进一步表征。随后,通过DTA/TG/MS对所得聚硼碳硅氮烷在1400°C下的热降解进行监测。所得的无定形硅硼碳氮化物具有Si3B3N5C4的近似元素组成,在惰性条件下在2000°C下表现出卓越的热稳定性,并且在纯氧中至少在1300°C下保持稳定。这种陶瓷材料仍然包含来自TSEB前体分子的硼嗪环,嵌入共价的Si/B/N/C网络中,作为刚性结构单元,在原子尺度上增强陶瓷材料的强度。
DOI:
10.1039/b601939k
作为产物:
描述:
三乙基硅烷
、
乙烯基三氯硅烷
、
三氯化硼
以 neat (no solvent) 为溶剂, 以64%的产率得到1-(trichlorosilyl)-1-(dichloroboryl)ethane
参考文献:
名称:
[(三氯甲硅烷基)二氯硼基]乙烷:基于实验和理论的合成和表征
摘要:
已经发现并描述了一种用于高需求 Si/B/N/C 陶瓷的分子合成路线的新化合物。我们报告了[(三氯甲硅烷基)二氯硼基]乙烷(TSDE,Cl3Si-CH[(CH3)(BCl2)])的优雅“一锅”合成及其通过核磁共振和(理论和实验)的结构表征红外光谱。已执行密度泛函和 Hartree-Fock 计算以及电子相关的微扰处理。两种方法都产生了理论和实验光谱的良好一致性,微扰方法略胜一筹。与氨基化合物 [(三氯甲硅烷基) 氨基] 二氯硼烷 (TADB) 类似,TSDE 表现出二氯硼基末端的平面配位,但碳和硅的四面体邻域。
DOI:
10.1002/(sici)1099-0682(199901)1999:1<75::aid-ejic75>3.0.co;2-6
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