1-(trichlorosilyl)-1-(dichloroboryl)ethane | 214635-76-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 硼酸衍生物
• 英文名称: 1-(trichlorosilyl)-1-(dichloroboryl)ethane
• 英文别名: trichloro(1-dichloroboranylethyl)silane
• CAS: 214635-76-4
• 化学式: C₂H₄BCl₅Si
• 分子量: 244.215
• InChiKey: PWJTUTWHLZLFBD-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  178.6±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.383±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.54
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(trichlorosilyl)-1-(dichloroboryl)ethane 、 六甲基二硅氮烷 以91%的产率得到2,4,6-Tris-(1-trichlorosilanyl-ethyl)-[1,3,5,2,4,6]triazatriborinane
  参考文献：
  名称：

  A new borazine-type single source precursor for Si/B/N/C ceramics

  摘要：

  新的硼嗪衍生物[B{CH(CH3)(SiCl3)}NH]3 (TSEB)是通过在室温条件下将Cl3Si–CH(CH3)–BCl2 (TSDE)与六甲基二硅胺烷（hmds）反应制备而成的。TSEB通过红外光谱（IR）、核磁共振（NMR）和质谱（MS）进行了表征。这种特殊设计的分子作为单一来源前体，通过众所周知的“聚合物路线”合成高度耐用的Si/B/N/C陶瓷材料。根据这一理念，以甲胺为交联试剂对TSEB进行聚合，得到高度均质的预陶瓷聚合物，并通过光谱方法进一步表征。随后，通过DTA/TG/MS对所得聚硼碳硅氮烷在1400°C下的热降解进行监测。所得的无定形硅硼碳氮化物具有Si3B3N5C4的近似元素组成，在惰性条件下在2000°C下表现出卓越的热稳定性，并且在纯氧中至少在1300°C下保持稳定。这种陶瓷材料仍然包含来自TSEB前体分子的硼嗪环，嵌入共价的Si/B/N/C网络中，作为刚性结构单元，在原子尺度上增强陶瓷材料的强度。

  DOI：

  10.1039/b601939k
• 作为产物：
  描述：

  三乙基硅烷 、 乙烯基三氯硅烷 、 三氯化硼 以 neat (no solvent) 为溶剂， 以64%的产率得到1-(trichlorosilyl)-1-(dichloroboryl)ethane
  参考文献：
  名称：

  [(三氯甲硅烷基)二氯硼基]乙烷：基于实验和理论的合成和表征

  摘要：

  已经发现并描述了一种用于高需求 Si/B/N/C 陶瓷的分子合成路线的新化合物。我们报告了[（三氯甲硅烷基）二氯硼基]乙烷（TSDE，Cl3Si-CH[（CH3）（BCl2）]）的优雅“一锅”合成及其通过核磁共振和（理论和实验）的结构表征红外光谱。已执行密度泛函和 Hartree-Fock 计算以及电子相关的微扰处理。两种方法都产生了理论和实验光谱的良好一致性，微扰方法略胜一筹。与氨基化合物 [(三氯甲硅烷基) 氨基] 二氯硼烷 (TADB) 类似，TSDE 表现出二氯硼基末端的平面配位，但碳和硅的四面体邻域。

  DOI：

  10.1002/(sici)1099-0682(199901)1999:1<75::aid-ejic75>3.0.co;2-6

文献信息

• [(Trichlorosilyl)dichloroboryl]ethane: Synthesis and Characterisation by Means of Experiment and Theory
  作者：Marcus Gastreich、Christel M. Marian、Hardy Jüngermann、Martin Jansen

  DOI：10.1002/(sici)1099-0682(199901)1999:1<75::aid-ejic75>3.0.co;2-6

  日期：1999.1

  A new compound for the molecular synthesis route to high-demand Si/B/N/C ceramics has been found and is described in this work. We report on an elegant “one-pot” synthesis of [(trichlorosilyl)dichloroboryl]ethane (TSDE, Cl3Si−CH[(CH3)(BCl2)]) and its structural characterisation by means of nuclear magnetic resonance and (theoretical and experimental) infra-red spectroscopy. Density functional and Hartree-Fock

  已经发现并描述了一种用于高需求 Si/B/N/C 陶瓷的分子合成路线的新化合物。我们报告了[（三氯甲硅烷基）二氯硼基]乙烷（TSDE，Cl3Si-CH[（CH3）（BCl2）]）的优雅“一锅”合成及其通过核磁共振和（理论和实验）的结构表征红外光谱。已执行密度泛函和 Hartree-Fock 计算以及电子相关的微扰处理。两种方法都产生了理论和实验光谱的良好一致性，微扰方法略胜一筹。与氨基化合物 [(三氯甲硅烷基) 氨基] 二氯硼烷 (TADB) 类似，TSDE 表现出二氯硼基末端的平面配位，但碳和硅的四面体邻域。
• A new borazine-type single source precursor for Si/B/N/C ceramics
  作者：Thomas Jäschke、Martin Jansen

  DOI：10.1039/b601939k

  日期：——

  The new borazine derivative [BCH(CH3)(SiCl3)}NH]3 (TSEB) was prepared by reacting Cl3Si–CH(CH3)–BCl2 (TSDE) with hexamethyldisilazane (hmds) at ambient conditions. TSEB was characterized by infrared spectroscopy (IR), nuclear magnetic resonance (NMR), and by mass spectrometry (MS). The specially designed molecule serves as a single source precursor for the synthesis of a highly durable Si/B/N/C ceramic material via the well known ‘polymer route’. Pursuing this philosophy, polymerization of TSEB with methylamine as the cross-linking reagent has lead to a highly homogeneous pre-ceramic polymer, which was further characterized by spectroscopic methods. Subsequent thermal degradation of the as-obtained polyborocarbosilazane was monitored by means of DTA/TG/MS up to 1400 °C. The resulting amorphous silicon boron carbonitride of the approximate elemental composition Si3B3N5C4 exhibits an outstanding thermal durability at 2000 °C under inert conditions and is also stable in pure oxygen up to at least 1300 °C. The ceramic material still contains borazine rings from the TSEB precursor molecule embedded in the covalent Si/B/N/C network, acting as rigid structural units which reinforce the ceramic material on an atomic scale.

  新的硼嗪衍生物[BCH(CH3)(SiCl3)}NH]3 (TSEB)是通过在室温条件下将Cl3Si–CH(CH3)–BCl2 (TSDE)与六甲基二硅胺烷（hmds）反应制备而成的。TSEB通过红外光谱（IR）、核磁共振（NMR）和质谱（MS）进行了表征。这种特殊设计的分子作为单一来源前体，通过众所周知的“聚合物路线”合成高度耐用的Si/B/N/C陶瓷材料。根据这一理念，以甲胺为交联试剂对TSEB进行聚合，得到高度均质的预陶瓷聚合物，并通过光谱方法进一步表征。随后，通过DTA/TG/MS对所得聚硼碳硅氮烷在1400°C下的热降解进行监测。所得的无定形硅硼碳氮化物具有Si3B3N5C4的近似元素组成，在惰性条件下在2000°C下表现出卓越的热稳定性，并且在纯氧中至少在1300°C下保持稳定。这种陶瓷材料仍然包含来自TSEB前体分子的硼嗪环，嵌入共价的Si/B/N/C网络中，作为刚性结构单元，在原子尺度上增强陶瓷材料的强度。