(3,4-dihydroxyphenyl)(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone | 61445-51-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: (3,4-dihydroxyphenyl)(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone
• 英文别名: 2,3,4,3',4'-pentahydroxy-benzophenone；2,3,4,3',4'-Pentahydroxy-benzophenon；2,3,3',4,4'-pentahydroxybenzophenone；(3,4-dihydroxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone
• CAS: 61445-51-0
• 化学式: C₁₃H₁₀O₆
• 分子量: 262.219
• InChiKey: REIZMDJZLFAPQU-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  590.4±50.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.641±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  118
• 氢给体数：
  5
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  藜芦酸 在 三溴化硼 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 25.5h， 生成 (3,4-dihydroxyphenyl)(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone
  参考文献：
  名称：

  (3,4-二羟基苯基)(2,3,4-三羟基苯基)甲酮及其衍生物的合成及抗氧化性能

  摘要：

  (3,4-二羟基苯基)(2,3,4-三羟基苯基)甲酮(5)及其与溴的两种衍生物是由(3,4-二甲氧基苯基)(2,3,4-三甲氧基苯基）甲酮（6）。获得了 6 及其三个衍生物与溴的 Wolf-Kishner 还原产物 (9)。4-(3,4-二羟基苄基)苯-1,2,3-三醇及其二溴化物衍生物(16)也由9和相应的二溴化物衍生物合成。通过分析溴酚对 2,2'-叠氮基-双 (3-乙基苯并噻唑啉-6-磺酸) (ABTS)、1,1- 的自由基清除活性，确定了在这些反应中合成的 9 种新化合物的体外抗氧化活性。二苯基-2-苦基-肼（DPPH），N，N-二甲基-对苯二胺（DMPD），和超氧阴离子自由基 (${\rm O}_{2}^{\bullet - } $) 并通过 Fe3+-Fe2+ 转化、FRAP 和 CUPRAC 测定以及亚铁离子 (Fe2+) 螯合活性检查总还原能力。此外，将这些活性的结果与标准抗氧化化合物如丁基羟基茴香醚

  DOI：

  10.1002/ardp.201100272

文献信息

• Method for producing 1,2-naphthoquinonediazide photosensitive agent
  申请人：——

  公开号：US20010049433A1

  公开（公告）日：2001-12-06

  A method for producing a high-purity 1,2-naphthoquinonediazide photosensitive agent containing a low level of impurities, by condensing, in an organic solvent other than amide, polyhydric phenolic compound and 1,2-naphthoquinonediazide-sulfonic acid halide in the presence of organic amine; subsequently adding amide solvent to the resultant reaction mixture; and separating the resulting organic amine acid salt through filtration.

  一种生产高纯度的1,2-萘醌二氮化酯感光剂的方法，其中含有低水平的杂质，通过在除酰胺以外的有机溶剂中，将多羟基酚类化合物和1,2-萘醌二氮化酯磺酸氯化物在有机胺的存在下缩合；随后向所得反应混合物中加入酰胺溶剂；并通过过滤分离产生的有机胺酸盐。
• [EN] COMPOSITIONS OF POLYHYDROXYLATED BENZOPHENONES AND METHODS OF TREATMENT OF NEURODEGENERATIVE DISORDERS<br/>[FR] COMPOSITIONS DE BENZOPHÉNONES POLYHYDROXYLÉS ET MÉTHODES DE TRAITEMENT DE TROUBLES NEURODÉGÉNÉRATIFS
  申请人：MASSACHUSETTS INST TECHNOLOGY

  公开号：WO2017106861A1

  公开（公告）日：2017-06-22

  The present invention relates to polyhydroxylated benzophenone compounds useful in the treatment of neurodegenerative, neurological, psychiatric, and cognitive diseases, in particular those associated with a deficiency in HDAC1 deacetylase activity.

  本发明涉及聚羟基苯酮类化合物，其在治疗神经退行性、神经学、精神病和认知疾病中有用，特别是那些与HDAC1脱乙酰化酶活性缺乏有关的疾病。
• Styryl compounds, process for preparing the same and photoresist compositions comprising the same
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：EP0323631A2

  公开（公告）日：1989-07-12

  A styryl compound of the formula: wherein R₁, R₂ and R₁₁ are the same or different and a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl, alkenyl or aralkyl group or R₁ and R₂ may form a ring together with the nitrogen atom to which they are bonded, which ring may inc­lude at least one hetero atom in addition to said nitrogen atom; R₁₀ is an optionally substituted alkylene group; R₃ is -OH, -OCOR₅ or -OSi(R₅)₃ in which R⁵ is an alkyl group; R₁₂ and R₁₃ are independently a hydrogen atom, an optionally substituted lower alkyl or alkoxy group, an amide group or a halogen atom; X, Y, W and Z are the same or different and an electron attracting group, and n is a number of 2-15, which is suitable as a light absorber in a photoresist composi­tion.

  式中的苯乙烯基化合物： 其中R₁、R₂和R₁₁是相同或不同的氢原子、任选取代的烷基、烯基或芳烷基，或者R₁和R₂可与它们所键合的氮原子一起形成一个环，该环除所述氮原子外还可包括至少一个杂原子；R₁₀是任选取代的亚烷基；R₃是-OH、-OCOR₅或-OSi(R₅)₃，其中 R⁵ 是烷基；R₁₂和 R₁₃ 独立地是氢原子、任选取代的低级烷基或烷氧基、酰胺基或卤素原子；X、Y、W 和 Z 是相同或不同的引电子基团，n 是 2-15 之间的数字，适合用作光刻胶组合物中的光吸收剂。
• Photoresist compositions comprising styryl compounds
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：EP0510726A1

  公开（公告）日：1992-10-28

  A photoresist composition which comprises a compound of the general formula: wherein W and Z are the same or different and an electron attractive group; R₁₀ is an optionally substituted C₁-C₁₀ alkylene group, R₁₁ is a hydrogen atom, an optionally substituted C₁-C₁₀ alkyl, alkenyl or aralkyl group; and each of R₁₂ and R₁₃ is independently a hydrogen atom, an optionally substituted lower alkyl group, an optionally substituted lower alkoxy group, an amide group or a halogen atom.

  一种光致抗蚀剂组合物，由通式如下的化合物组成： 其中 W 和 Z 是相同或不同的引电子基团；R₁₀ 是任选取代的 C₁-C₁₀ 亚烷基，R₁₁ 是氢原子、任选取代的 C₁-C₁₀ 烷基、烯基或芳基；R₁₂ 和 R₁₃ 中的每一个独立地为氢原子、任选取代的低级烷基、任选取代的低级烷氧基、酰胺基或卤原子。
• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
  申请人：Kansai Research Institute (KRI)

  公开号：EP0962825A1

  公开（公告）日：1999-12-08

  A photosensitive resin composition comprises a base resin (e.g., novolak resins, polyvinylphenol-series polymers), a first photoactive ingredient (e.g., diazobenzoquinone derivatives, diazonaphthoquinone derivatives) and a second photoactive ingredient (e.g., mixtures with azide compounds) each having an absorption range at wavelength λ1 or λ2, the wavelengths thereof being different from each other. Between the first and second photoactive ingredients, at least one photoactive ingredient is substantially inert at the absorption wavelength of the other. After exposing the photosensitive resin composition to a light to form a pattern, the whole surface of the photosensitive layer is exposed to a light of the other wavelength to make the surface hardly soluble (in the case a positive pattern is formed) or readily soluble (in the case a negative pattern is formed) in a developer, and developed, thereby forming a pattern of high resolution. Utilizing an existing exposure system, there can be obtained photosensitive resin compositions (especially, resists for semiconductor production) having improved sensitivity and resolution.

  光敏树脂组合物包括基体树脂（如酚醛树脂、聚乙烯基苯酚系列聚合物）、第一种光活性成分（如重氮苯醌衍生物、重氮萘醌衍生物）和第二种光活性成分（如与叠氮化合物的混合物），每种光活性成分在波长λ1或λ2处均有吸收范围，其波长互不相同。在第一种和第二种光活性成分之间，至少有一种光活性成分在另一种光活性成分的吸收波长处基本上是惰性的。将感光树脂组合物曝光形成图案后，将感光层的整个表面曝光在另一波长的光下，使其表面难溶于显影剂（在形成正图案的情况下）或易溶于显影剂（在形成负图案的情况下），然后进行显影，从而形成高分辨率的图案。利用现有的曝光系统，可以获得具有更高灵敏度和分辨率的光敏树脂组合物（特别是用于半导体生产的抗蚀剂）。