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1,1-bis(benzenesulphonyl)cyclobutane | 28246-89-1

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
1,1-bis(benzenesulphonyl)cyclobutane
英文别名
1,1-bis(phenylsulphonyl)cyclobutane;1,1-bis(phenylsulfonyl)cyclobutane;[1-(benzenesulfonyl)cyclobutyl]sulfonylbenzene
1,1-bis(benzenesulphonyl)cyclobutane化学式
CAS
28246-89-1
化学式
C16H16O4S2
mdl
——
分子量
336.433
InChiKey
HKWKDDOIDZKGMN-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    117-118 °C(Solv: benzene (71-43-2); hexane (110-54-3))
  • 沸点:
    584.1±46.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.379±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.9
  • 重原子数:
    22
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.25
  • 拓扑面积:
    85
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    1,1-bis(benzenesulphonyl)cyclobutane 、 naphthalen-1-yl-lithium 作用下, 生成 (cyclobutylsulfonyl)benzene
    参考文献:
    名称:
    Reductive lithiation of bis-phenylsulfones
    摘要:
    Reductive cleavage of geminal bis-phenylsulfones using lithium naphthalenide in THF at -78 degrees C selectively affords alpha-sulfonyl carbanions which participate in typical reaction with electrophiles.
    DOI:
    10.1016/s0040-4039(00)73519-2
  • 作为产物:
    描述:
    4,4-Bis-benzenesulfonyl-butan-1-ol 在 三苯基膦偶氮二甲酸二乙酯 作用下, 以 为溶剂, 反应 1.0h, 以89%的产率得到1,1-bis(benzenesulphonyl)cyclobutane
    参考文献:
    名称:
    Stereospecific dehydrative alkylation of bis-sulfones: synthesis of a lesser tea tortrix pheromone
    摘要:
    The intra- and intermolecular condensation of alcohols with bis-sulfone methylenes, i.e., dehydrative alkylation, using DEAD and Ph3P proceeds stereospecifically at room temperature under essentially neutral conditions affording good to excellent yields of alkylation/annulation products.
    DOI:
    10.1021/jo00074a010
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文献信息

  • Sulfone derivatives as 5-HT7 receptor ligands
    申请人:——
    公开号:US20040229864A1
    公开(公告)日:2004-11-18
    The present invention relates to sulfone derivatives of formula (I): Ar—SO 2 —CR 2 R 3 -L-N(R 1 ) 2 I wherein Ar, L, R 1 , R 2 and R 3 are as defined herein, and pharmaceutically acceptable salts and N-oxides thereof, useful in the treatment of a condition which is susceptible to treatment by modulation of 5-HT 7 receptor activity, such as depression or a sleep disorder.
    本发明涉及式(I)的砜衍生物:Ar—SO2—CR2R3-L-N(R1)2I,其中Ar,L,R1,R2和R3如本文所定义,并且其药用盐和N-氧化物,用于治疗通过调节5-HT7受体活性可治疗的疾病,如抑郁症或睡眠障碍。
  • Activation parameters for intramolecular nucleophilic substitution by carbanions—the insignificant effect of ring strain on cyclisation rates
    作者:Fabio Benedetti、Charles J. M. Stirling
    DOI:10.1039/c39830001374
    日期:——
    Activation parameters for the cyclisation of bis-sulphonyl-stabilised carbanions to bis-sulphonylcycloalkanes have been determined; cyclopropanes form nearly a million-fold faster than cyclobutanes and ring strain is a negligible factor in determining reactivity.
    确定了将双磺酰基稳定化碳环环化为双磺酰基环烷烃的活化参数;环丙烷的形成速度比环丁烷快将近一百万倍,并且环应变是决定反应活性的微不足道的因素。
  • Methanofullerenes
    申请人:Robinson Alex Philip Graham
    公开号:US20140134843A1
    公开(公告)日:2014-05-15
    The present disclosure relates to novel methanofullerene derivatives, negative-type photoresist compositions prepared therefrom and methods of using them. The derivatives, their photoresist compositions and the methods are ideal for fine pattern processing using, for example, ultraviolet radiation, beyond extreme ultraviolet radiation, extreme ultraviolet radiation, X-rays and charged particle rays.
    本公开涉及新型甲烷富勒烯衍生物,由此制备的负型光刻胶组合物以及使用它们的方法。这些衍生物、它们的光刻胶组合物和方法非常适合使用紫外线辐射、超极紫外线辐射、极紫外线辐射、X射线和带电粒子束进行精细图案加工。
  • [EN] METHANOFULLERENES<br/>[FR] MÉTHANOFULLERRÈNES
    申请人:ROBINSON ALEX PHILIP GRAHAM
    公开号:WO2014078097A1
    公开(公告)日:2014-05-22
    The present disclosure relates to novel methanofullerene derivatives, negative- type photoresist compositions prepared therefrom and methods of using them. The derivatives, their photoresist compositions and the methods are ideal for fine pattern processing using, for example, ultraviolet radiation, beyond extreme ultraviolet radiation, extreme ultraviolet radiation, X-rays and charged particle rays.
    本公开涉及新型甲烷富勒烯衍生物,由此制备的负型光刻胶组合物以及使用它们的方法。这些衍生物,它们的光刻胶组合物和方法非常适合使用紫外线辐射、超过极紫外线辐射、极紫外线辐射、X射线和带电粒子射线等技术进行精细图案处理。
  • [EN] METHANOFULLERENES<br/>[FR] MÉTHANOFULLERÈNES
    申请人:ROBINSON ALEX PHILIP GRAHAM
    公开号:WO2014137663A1
    公开(公告)日:2014-09-12
    The present disclosure relates to novel methanofullerene derivatives, negative- type photoresist compositions prepared therefrom and methods of using them. The derivatives, their photoresist compositions and the methods are ideal for fine pattern processing using, for example, ultraviolet radiation, beyond extreme ultraviolet radiation, extreme ultraviolet radiation, X-rays and charged particle rays. Negative photosensitive compositions are also disclosed.
    本公开涉及新型甲烷富勒烯衍生物,制备其负型光阻组合物和使用它们的方法。这些衍生物、它们的光阻组合物和方法非常适合使用紫外线辐射、超过极紫外线辐射、极紫外线辐射、X射线和带电粒子射线进行精细图案处理。还公开了负光敏组合物。
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