N,N'-bis(ethoxythiocarbonyl)hydrazine | 91915-06-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机硫化合物
• 英文名称: N,N'-bis(ethoxythiocarbonyl)hydrazine
• 英文别名: hydrazine-N,N'-bis-carbothioic acid O,O'-diethyl ester；Hydrazin-N,N'-bis-thiocarbonsaeure-O,O'-diaethylester；1,4-Dithio-bicarbamidsaeure-O,O'-diaethylester；O-ethyl N-(ethoxycarbothioylamino)carbamothioate
• CAS: 91915-06-9
• 化学式: C₆H₁₂N₂O₂S₂
• 分子量: 208.305
• InChiKey: XXEXAAFZKHVVPV-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  60-62 °C
• 沸点：
  241.7±23.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.240±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.8
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.67
• 拓扑面积：
  107
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N,N'-bis(ethoxythiocarbonyl)hydrazine 生成 diethoxy-[1,3,4]thiadiazole
  参考文献：
  名称：

  Wangel, 1958, vol. 39, p. 73,74, 76

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid 在 水 、 一水合肼 作用下， 生成 N,N'-bis(ethoxythiocarbonyl)hydrazine
  参考文献：
  名称：

  Wangel, Arkiv foer Kemi, 1949, vol. 1, p. 431,436

  摘要：

  DOI：

文献信息

• COATING COMPOSITION
  申请人：Tokuyama Corporation

  公开号：EP2423281A1

  公开（公告）日：2012-02-29

  [Problem] To provide a coating composition for forming a hard coating which, by itself, favorably adheres to a plastic optical substrate, and effectively prevents the occurrence of cracks caused by the thermal hysteresis at the time of curing. [Means for Solution] The coating composition for forming a hard coating, contains a fine inorganic oxide particle, a hydrolyzable organosilicon compound, water, a curing catalyst and an organic solvent, wherein cyclic ketone is contained in an amount of 0.10 parts by mass to 30.00 parts by mass per 100 parts by mass of the total of the fine inorganic oxide particle and the hydrolyzable organosilicon compound.

  [问题]提供一种用于形成硬涂层的涂层组合物，该涂层组合物本身有利于附着在塑料光学基材上，并有效防止固化时由于热滞后而产生的裂纹。 [解决方法] 这种用于形成硬涂层的涂料组合物含有细无机氧化物颗粒、可水解有机硅化合物、水、固化催化剂和有机溶剂，其中环酮的含量为细无机氧化物颗粒和可水解有机硅化合物的总和每 100 份质量中 0.10 份至 30.00 份质量。
• Singh, N. K.; Srivastava, S. C.; Aggarwal, R. C., Indian Journal of Chemistry, Section A: Inorganic, Physical, Theoretical and Analytical, 1984, vol. 23, # 8, p. 664 - 667
  作者：Singh, N. K.、Srivastava, S. C.、Aggarwal, R. C.

  DOI：——

  日期：——
• Wangel, Arkiv foer Kemi, 1949, vol. 1, p. 431,436
  作者：Wangel

  DOI：——

  日期：——
• Wangel, 1958, vol. 39, p. 73,74, 76
  作者：Wangel

  DOI：——

  日期：——