分子水平上的相互作用控制着结构和功能。尽管无害的烷基之间的界面在较大的系统中非常重要,但尤其是对它们的界面几乎没有研究。本文中,通过基于偶氮苯的实验装置检查了伦敦分散体与线性烷基链之间的溶剂相互作用。系统地延长了偶氮苯核所有间位的烷基链,并确定了正癸烷中热诱导的Z→E异构化速率的变化。Z-异构体的稳定性随着链的增加而增加,并达到正丁基的最大值。进一步的延伸导致更快的异构化。分子内相互作用的起源通过各种技术进行了详细阐述,包括1 H NOESY NMR光谱。结果表明,在Z状态下,正烷基链与相对的苯基核之间还有其他长距离相互作用。这些互动很可能是由吸引人的伦敦分散主导的。这项工作对分子内和分子间环境中高度灵活的基团对稳定作用的贡献提供了难得的见解。
分子水平上的相互作用控制着结构和功能。尽管无害的烷基之间的界面在较大的系统中非常重要,但尤其是对它们的界面几乎没有研究。本文中,通过基于偶氮苯的实验装置检查了伦敦分散体与线性烷基链之间的溶剂相互作用。系统地延长了偶氮苯核所有间位的烷基链,并确定了正癸烷中热诱导的Z→E异构化速率的变化。Z-异构体的稳定性随着链的增加而增加,并达到正丁基的最大值。进一步的延伸导致更快的异构化。分子内相互作用的起源通过各种技术进行了详细阐述,包括1 H NOESY NMR光谱。结果表明,在Z状态下,正烷基链与相对的苯基核之间还有其他长距离相互作用。这些互动很可能是由吸引人的伦敦分散主导的。这项工作对分子内和分子间环境中高度灵活的基团对稳定作用的贡献提供了难得的见解。
PROCESSES FOR PREPARING CURED FILMS, THE RESULTING FILMS, AND PLASMA-INITIATED POLYMERIZABLE COMPOSITIONS
申请人:FUJIFILM Corporation
公开号:US20140170405A1
公开(公告)日:2014-06-19
Provided are novel plasma-assisted processes for preparing cured films having excellent heat resistance and moisture resistance.
A process for preparing a cured film, comprising at least: applying a composition containing (A) at least one conductive polymer precursor on a substrate to form a coating layer, and irradiating the coating layer with a plasma to polymerize the conductive polymer precursor (A).