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8-Propan-2-yloxychromen-2-one

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
8-Propan-2-yloxychromen-2-one
英文别名
8-propan-2-yloxychromen-2-one
8-Propan-2-yloxychromen-2-one化学式
CAS
——
化学式
C12H12O3
mdl
——
分子量
204.22
InChiKey
RKQDBMRTVOAQMI-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.7
  • 重原子数:
    15
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.25
  • 拓扑面积:
    35.5
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    3

文献信息

  • Photoresist underlayer film-forming composition and pattern forming process
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:EP2813891A2
    公开(公告)日:2014-12-17
    In lithography, a composition comprising a novolak resin comprising recurring units of hydroxycoumarin is used to form a photoresist underlayer film. The underlayer film is strippable in alkaline water, without causing damage to ion-implanted Si substrates or SiO2 substrates.
    在光刻技术中,一种由包含羟基香豆素递归单元的酚醛树脂组成的组合物可用于形成光刻胶底层膜。该底层膜可在碱水中剥离,而不会对离子注入硅基底或二氧化硅基底造成损坏。
  • METHOD FOR PRODUCING POLYDIENES AND POLYDIENE COPOLYMERS WITH REDUCED COLD FLOW
    申请人:Bridgestone Corporation
    公开号:US20140187725A1
    公开(公告)日:2014-07-03
    A method for preparing a coupled polymer, the method comprising the steps of: (i) polymerizing monomer to form a reactive polymer, and (ii) reacting the reactive polymer with coumarin or a substituted coumarin compound.
  • AMINOPYRIMIDINE INHIBITORS OF TYROSINE KINASE
    申请人:Auspex Pharmaceuticals, Inc.
    公开号:US20140227260A1
    公开(公告)日:2014-08-14
    The present invention relates to new aminopyrimidine inhibitors of tyrosine kinase activity, pharmaceutical compositions thereof, and methods of use thereof.
  • UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION AND PATTERN FORMING PROCESS
    申请人:SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
    公开号:US20140363956A1
    公开(公告)日:2014-12-11
    In lithography, a composition comprising a novolak resin comprising recurring units of hydroxycoumarin is used to form a photoresist underlayer film. The underlayer film is strippable in alkaline water, without causing damage to ion-implanted Si substrates or SiO 2 substrates.
  • US9127092B2
    申请人:——
    公开号:US9127092B2
    公开(公告)日:2015-09-08
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