3-(triphenylphosphonio)propionitrile chloride | 173921-12-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 3-(triphenylphosphonio)propionitrile chloride
• 英文别名: (2-Cyanoethyl)triphenylphosphonium chloride；2-cyanoethyl(triphenyl)phosphanium;chloride
• CAS: 173921-12-5
• 化学式: C₂₁H₁₉NP*Cl
• 分子量: 351.815
• InChiKey: YBOGGLIJTSTNGC-UHFFFAOYSA-M

物化性质

• 熔点：
  230 °C

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.9
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.1
• 拓扑面积：
  23.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2,3-二氯丙腈 、 三苯基膦 在 水 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 9.0h， 以50%的产率得到3-(triphenylphosphonio)propionitrile chloride
  参考文献：
  名称：

  Reaction of 2,3-Dihalopropionic Acids and Their Derivatives with P- and N-Nucleophiles

  摘要：

  3-(三苯基膦亚氯)丙烯酸和 2,3-二氯丙酸与三苯基膦反应生成 1,2-双(三苯基膦亚氯)乙烷。在类似条件下，2,3-二溴丙酸发生脱溴反应，然后加入三苯基膦，经水处理后生成 3-（三苯基膦溴化）丙酸。2,3-二卤代丙腈发生类似反应，生成 3-（三苯基膦卤代）丙腈。2,3-二溴丙酰胺与三苯基膦的反应表明，E-(三苯基膦溴)丙烯酸能够与三苯基膦发生反应，这与之前的报道不同。吡啶与 2,3-二氢丙酸形成乙烯基吡啶鎓卤化物，而与脂肪族胺反应则产生脱氢卤化产物。

  DOI：

  10.1007/s11176-006-0009-z

文献信息

• [EN] INFRARED ABSORBING COMPOUNDS AND THEIR USE IN IMAGEABLE ELEMENTS<br/>[FR] COMPOSES ABSORBEURS D'UV ET LEUR UTILISATION DANS DES ELEMENTS IMAGEABLES
  申请人：KODAK POLYCHROME GRAPHICS LLC

  公开号：WO2004069938A1

  公开（公告）日：2004-08-19

  Infrared absorbing compounds in which both the anion and the cation absorb infrared radiation, imageable elements that contain these compounds, and methods for forming images using the imageable elements are disclosed. The compounds have the structure (I) and (II) in which Y1 and Y2 are each independently hydrogen, halo, alkyl, diphenylamino, or phenylthio; R1, R2, R3 and R4 are each independently hydrogen, methyl, or SO3-, with the proviso that two fo R1, R2, R3, and R4 are SO3-; R5 and R6 are each independently an alkyl group; Z1, Z2, Z4 and Z5 are each independently a benzo group or a nophtho group; Z3 and Z6 are each independently two hydrogen atoms, a cyclohexene residue, or a cyclopentene residue; X1, X2, X3, and X4 are each independently S, O, NH, CH2, or C(CH3)2; and n1 and n2 are each independently 0 to 4.

  本发明涉及吸收红外辐射的化合物，其中阴离子和阳离子均吸收红外辐射，包含这些化合物的可成像元素以及使用可成像元素形成图像的方法。化合物具有结构（I）和（II），其中Y1和Y2分别独立地为氢、卤素、烷基、二苯胺或苯硫醚；R1、R2、R3和R4分别独立地为氢、甲基或SO3-，但其中两个为SO3-；R5和R6分别独立地为烷基；Z1、Z2、Z4和Z5分别独立地为苯并环或萘并环；Z3和Z6分别独立地为两个氢原子、环己烯残基或环戊烯残基；X1、X2、X3和X4分别独立地为S、O、NH、CH2或C（CH3）2；n1和n2分别独立地为0至4。
• Infra red absorbing compounds and their use in photoimageable elements
  申请人：——

  公开号：US20040180285A1

  公开（公告）日：2004-09-16

  Infrared absorbing compounds in which the anion is selected from the group consisting of 5-isatinsulfonate, 10-camphorsulfonate, and 4,5-dihydroxy-1,3-benzenedisulfonate are disclosed. Negative-working imageable elements containing these compounds have improved dot stability.

  本发明揭示了阴离子选自5-异吲哚磺酸盐、10-樟脑磺酸盐和4,5-二羟基-1,3-苯二磺酸盐等组成的红外吸收化合物。包含这些化合物的负向感光元件具有改善的点稳定性。
• UV curable catalyst compositions
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C.

  公开号：EP1676937A1

  公开（公告）日：2006-07-05

  UV curable compositions and methods for depositing one or more metal or metal alloy films on substrates are disclosed. The UV curable compositions contain a catalyst, one or more carrier particles, one or more UV curing agents, and one or more water-soluble or water-dispersible organic compounds. Metal or metal alloys may be deposited on the substrates by electroless or electrolytic deposition.

  本发明公开了用于在基底上沉积一种或多种金属或金属合金薄膜的紫外线固化组合物和方法。紫外线固化组合物包含催化剂、一种或多种载体颗粒、一种或多种紫外线固化剂以及一种或多种水溶性或水分散性有机化合物。金属或金属合金可通过化学沉积或电解沉积沉积在基底上。
• Radiation-sensitive elements
  申请人：Baumann Harald

  公开号：US20060063101A1

  公开（公告）日：2006-03-23

  The invention relates to radiation-sensitive elements comprising an aluminum substrate that has been roughened electrochemically with hydrochloric acid, and a radiation-sensitive coating comprising a coumarin sensitizer (I), a coinitiator a free-radical polymerizable monomer one or more P—OH groups and a biuret oligomer.

  本发明涉及辐射敏感元件，包括用盐酸进行电化学粗化的铝基板，以及由香豆素敏化剂 (I)、共引发剂、一个或多个 P-OH 基团的可自由基聚合单体和生物脲低聚物组成的辐射敏感涂层。
• VISIBLE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Kodak Polychrome Graphics GmbH

  公开号：EP1476787A1

  公开（公告）日：2004-11-17