4-phenylsulfanylbenzil | 102555-34-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 二苯乙烯类
• 英文名称: 4-phenylsulfanylbenzil
• 英文别名: 4-Phenylmercapto-benzil；1-Phenyl-2-(4-phenylsulfanylphenyl)ethane-1,2-dione
• CAS: 102555-34-0
• 化学式: C₂₀H₁₄O₂S
• 分子量: 318.396
• InChiKey: QRNGSSNOTJNRLX-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.4
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  59.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  二苯基碘鎓全氟-1-丁磺酸 、 4-phenylsulfanylbenzil 在 copper diacetate 作用下， 以 氯苯 为溶剂， 反应 2.0h， 以1.0 g的产率得到[4-(benzoylcarbonyl)phenyl]diphenylsulfonium nonafluorobutanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE USING SAME

  摘要：

  一种酰铵盐和具有高灵敏度和优秀图案特性（如LWR）的组合物，最好用于利用第一活性能量射线（如电子束或极紫外线）和第二活性能量射线（如紫外线）的光刻工艺的光刻胶组合物。

  公开号：

  US20200048191A1
• 作为产物：
  描述：

  4-phenylsulfanyl-deoxybenzoin 生成 4-phenylsulfanylbenzil
  参考文献：
  名称：

  Absorption Spectra of Tetracyclones. V¹

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo01104a038

文献信息

• Composition and method for manufacturing device using same
  申请人：TOYO GOSEI CO., LTD.

  公开号：US11142495B2

  公开（公告）日：2021-10-12

  An onium salt and a composition having high sensitivity and excellent pattern characteristics such as LWR, which is preferably used for a resist composition for a lithography process using two active energy rays of a first active energy ray such as an electron beam or an extreme ultraviolet and a second active energy ray such as UV.

  一种鎓盐和一种具有高灵敏度和优异图案特性（如 LWR）的组合物，该组合物最好用于光刻工艺中的抗蚀剂组合物，该光刻工艺使用第一种活性能量射线（如电子束或极紫外线）和第二种活性能量射线（如紫外线）。
• US4108835A
  申请人：——

  公开号：US4108835A

  公开（公告）日：1978-08-22
• US4131748A
  申请人：——

  公开号：US4131748A

  公开（公告）日：1978-12-26
• COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE USING SAME
  申请人：TOYO GOSEI CO., LTD.

  公开号：US20200048191A1

  公开（公告）日：2020-02-13

  An onium salt and a composition having high sensitivity and excellent pattern characteristics such as LWR, which is preferably used for a resist composition for a lithography process using two active energy rays of a first active energy ray such as an electron beam or an extreme ultraviolet and a second active energy ray such as UV.

  一种酰铵盐和具有高灵敏度和优秀图案特性（如LWR）的组合物，最好用于利用第一活性能量射线（如电子束或极紫外线）和第二活性能量射线（如紫外线）的光刻工艺的光刻胶组合物。
• Absorption Spectra of Tetracyclones. V¹
  作者：VINCENT F. D'AGOSTINO、MICHAEL J. DUNN、ARTHUR E. EHRLICH、ERNEST I. BECKER

  DOI：10.1021/jo01104a038

  日期：1958.10