1,5-bis-(α-hydroxy-isopropyl)-anthracene | 477705-10-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 蒽
• 英文名称: 1,5-bis-(α-hydroxy-isopropyl)-anthracene
• 英文别名: 1,5-Bis-(α-hydroxy-isopropyl)-anthracen；2-[5-(2-Hydroxypropan-2-yl)anthracen-1-yl]propan-2-ol
• CAS: 477705-10-5
• 化学式: C₂₀H₂₂O₂
• 分子量: 294.393
• InChiKey: JROHIWSBSGILFF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.8
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.3
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,5-bis-(α-hydroxy-isopropyl)-anthracene 在 chromium(VI) oxide 、 溶剂黄146 作用下， 生成 1,5-Diacetyl-anthrachinon
  参考文献：
  名称：

  CCLIII。蒽-1-羧酸和-1：5-二羧酸及其衍生物

  摘要：

  DOI：

  10.1039/jr9300001931
• 作为产物：
  描述：

  甲基碘化镁 、 alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid 在 乙醚 作用下， 生成 1,5-bis-(α-hydroxy-isopropyl)-anthracene
  参考文献：
  名称：

  CCLIII。蒽-1-羧酸和-1：5-二羧酸及其衍生物

  摘要：

  DOI：

  10.1039/jr9300001931

文献信息

• PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE, ACTIVE-LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND MASK BLANK
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20170121437A1

  公开（公告）日：2017-05-04

  A pattern forming method includes forming a film using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, exposing the film with active light or radiation, and developing the exposed film using a developer including an organic solvent, in which the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a compound having a partial structure represented by General Formula (I).
• CCLIII.—Anthracene-1-carboxylic and -1 : 5-dicarboxylic acids and their derivatives
  作者：Edward Auty Coulson

  DOI：10.1039/jr9300001931

  日期：——