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7-(苯乙酰氨基)-4-二氟甲基香豆素 | 104145-35-9

中文名称
7-(苯乙酰氨基)-4-二氟甲基香豆素
中文别名
——
英文名称
N-[2-oxo-4-(trifluoromethyl)chromen-7-yl]-2-phenylacetamide
英文别名
——
7-(苯乙酰氨基)-4-二氟甲基香豆素化学式
CAS
104145-35-9
化学式
C18H12F3NO3
mdl
——
分子量
347.3
InChiKey
ADAVFBLYCHWWTK-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    199-201 °C(lit.)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.1
  • 重原子数:
    25
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.11
  • 拓扑面积:
    55.4
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    6

安全信息

  • 危险品标志:
    Xi
  • 安全说明:
    S26,S36
  • 危险类别码:
    R36/37/38

文献信息

  • LIGHT ACTIVATED SHAPE MEMORY CO-POLYMERS
    申请人:CORNERSTONE RESEARCH GROUP, INC.
    公开号:EP1799771A2
    公开(公告)日:2007-06-27
  • POLYPEPTIDES AND THEIR USE
    申请人:Novabiotics Limited
    公开号:EP2825261A1
    公开(公告)日:2015-01-21
  • USE OF COUMARIN DERIVATIVES IN ANTIFUNGAL THERAPY
    申请人:Stewart Colin
    公开号:US20100267653A1
    公开(公告)日:2010-10-21
    The invention provides coumarin compounds, in particular glycosidic coumarin compounds, useful in the treatment of dermatophyte fungal infections.
  • Polypeptides and Their Use
    申请人:O'NEIL Deborah
    公开号:US20140155321A1
    公开(公告)日:2014-06-05
    The present invention relates to a polypeptide or a product comprising said polypeptide for use in the treatment and/or prevention of a fungal infection caused by Malassezia spp. and/or a Malassezia spp associated condition wherein the polypeptide comprises a sequence of about 25 to 200 amino acids wherein substantially all of the amino acids in said sequence are lysine; pharmaceutical compositions comprising said polypeptide or product and uses thereof.
  • [EN] LIGHT ACTIVATED SHAPE MEMORY CO-POLYMERS<br/>[FR] COPOLYMERES A MEMOIRE DE FORME PHOTOSENSIBLE
    申请人:CORNERSTONE RES GROUP INC
    公开号:WO2007001407A2
    公开(公告)日:2007-01-04
    [EN] The present discovery uses monomers which contain reversible photo­crosslinkable groups in addition to primary polymerizable groups. The mechanical properties of these materials and the reversibility of the photo-activated shape memory effect demonstrate the effectiveness of using photo-irradiation to effect change in modulus and shape memory effect. In the preferred embodiment the reaction mixture includes a photo-reactive monomer comprising a photo reactive group and a polymerizable group; a second monomer, which is more preferably a mixture of monomers, which are acrylate based; a multi-functional crosslinking agent, preferably 1,6 hexanediol diacrylate (HDODA); an initiator, preferably a free radical initiator; and a fifth, optional, component which is a modifying polymer. The mixture of the second monomer, crosslinking agent, and initiator comprise the base polymer matrix into which the photo-reactive monomer is incorporated. The polymeriziable group of the photo reactive monomer allows the photo reactive monomer to polymerize with the base polymer matrix.
    [FR] La présente invention concerne l'utilisation de monomères qui contiennent des groupes photoréticulables réversibles, en plus de groupes polymérisables primaires. Les propriétés mécaniques de ces matières et la réversibilité de l'effet de mémoire de forme photosensible se traduisent par l'efficacité d'utilisation de photorayonnement en vue d'engendrer un changement du module et de l'effet de mémoire de forme. Dans le mode de réalisation préféré, le mélange de réaction renferme un monomère photosensible contenant un groupe photoréactif et un groupe polymérisable, un second monomère qui constitue, idéalement, un mélange de monomères à base d'acrylate, un agent de réticulation multifonctionnel, de préférence, 1,6 hexanédiol diacrylate (HDODA), un initiateur, de préférence, un initiateur à radicaux libres, et un cinquième composé facultatif qui est un polymère de modification. Le mélange du second monomère, de l'agent de réticulation et de l'initiateur renferme la matrice polymère de base, dans laquelle est incorporé le monomère photosensible. Le groupe polymérisable du monomère photoréactif permet au monomère photoréactif de se polymériser avec la matrice polymère de base.
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