<3H>-Triethylsilan | 63466-66-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 碳氢化合物衍生物
• 英文名称: <3H>-Triethylsilan
• 英文别名: triethyl-[³H]silane；Triethyl(tritio)silane
• CAS: 63466-66-0
• 化学式: C₆H₁₆Si
• 分子量: 118.271
• InChiKey: AQRLNPVMDITEJU-HKNMUYPKSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.27
• 重原子数：
  7
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  六甲基二硅氮烷 、 diethylsilicenium ion 生成 、 、 <3H>-Triethylsilan 、
  参考文献：
  名称：

  Radiochemical Study of the Reactions of Diethylsilylium Ions with Hexamethyldisilazane and Isobutylamine in the Gas Phase

  摘要：

  通过放射化学方法研究了二乙基硅鎓离子与六甲基二硅氮烷和异丁胺的离子分子反应。这些反应与之前研究的二乙基硅鎓离子与叔丁胺三甲基硅烷的反应一样，完全沿着缩合途径发生；在这两种情况下，二乙基硅鎓离子都发生了重排。在与异丁胺的反应中，二乙基硅鎓离子的重排程度极低，标记底物的产率很高，这是因为存在两个易变的 N-H 氢原子，导致 Si-T 氚原子和 N-H 氢原子之间的同位素交换活跃，以及缩合络合物的双分子去质子化作用更强烈，从而缩短了缩合络合物的寿命。

  DOI：

  10.1007/s11176-005-0436-2
• 作为试剂：
  描述：

  N-((1S,2R)-2-hydroxy-1,2-diphenylethyl)-4-methylbenzene sulfonamide 在 三氟化硼乙醚 、 <3H>-Triethylsilan 、 四氯化钛 、 氘代三正丁基锡 作用下， 生成 N-[(R)-deuterio(tritio)methyl]-N-[(1S,2R)-2-hydroxy-1,2-diphenylethyl]-4-methylbenzenesulfonamide
  参考文献：
  名称：

  The Shortest Route to Chiral Ditosylmethylamine

  摘要：

  DOI：

  10.1002/1521-3773(20020201)41:3<497::aid-anie497>3.0.co;2-g

文献信息

• Radiochemical study of the reaction between the diethylsilylium cation and benzene in gas and liquid phases: experimental and theoretical evidence for rearrangements of the diethylsilylium cation
  作者：T.A. Kochina、D.A. Vrazhnov、I.S. Ignatyev

  DOI：10.1016/s0022-328x(99)00286-7

  日期：1999.9

  The ion–molecule reaction between the nucleogenic diethylsilylium cation generated by the β-decay of the tritiated diethylsilane and benzene was studied by the radiochromatographic method in the gas and liquid phases. Diethylphenylsilane possessing the diethylsilyl group of the nascent cation has the lowest yield in the gas phase, although in the liquid phase the yield increases. Two other silylphenylsilanes

  通过放射色谱法在气相和液相中研究了tri代二乙基硅烷的β衰变产生的核型二乙基甲硅烷基阳离子与苯之间的离子-分子反应。具有新生阳离子的二乙基甲硅烷基的二乙基苯基硅烷在气相中产率最低，尽管在液相中产率增加。其他两种甲硅烷基苯基硅烷是二乙基甲硅烷基阳离子重排的产物。通过从头算相关的方法确定了SiC 4 H 11 +系统势能表面上的固定点，并讨论了该系统内可能的重排。
• Radiochemical Study of the Reactions of Diethylsilylium Ions with Hexamethyldisilazane and Isobutylamine in the Gas Phase
  作者：D. V. Vrazhnov、T. A. Kochina、E. N. Sinotova、I. S. Ignat'ev、E. O. Kalinin

  DOI：10.1007/s11176-005-0436-2

  日期：2005.9

  Ion-molecule reactions of diethylsilylium ions with hexamethyldisilazane and isobutylamine were studied radiochemically. These reactions, like the previously studied reactions of diethylsilylium ions with tert-butylaminotrimethylsilane, occur exclusively along the condensation pathway; in both cases, the diethylsilylium ion undergoes a rearrangement. The extremely low degree of rearrangement of the diethylsilylium ion and high yield of the labeled substrate in the reaction with isobutylamine are due to the presence of two labile N-H hydrogen atoms, resulting in active isotope exchange between the Si-T tritium atoms and N-H hydrogen atoms and in shorter lifetime of the condensation complex, caused by more intense bimolecular deprotonation of the complex.

  通过放射化学方法研究了二乙基硅鎓离子与六甲基二硅氮烷和异丁胺的离子分子反应。这些反应与之前研究的二乙基硅鎓离子与叔丁胺三甲基硅烷的反应一样，完全沿着缩合途径发生；在这两种情况下，二乙基硅鎓离子都发生了重排。在与异丁胺的反应中，二乙基硅鎓离子的重排程度极低，标记底物的产率很高，这是因为存在两个易变的 N-H 氢原子，导致 Si-T 氚原子和 N-H 氢原子之间的同位素交换活跃，以及缩合络合物的双分子去质子化作用更强烈，从而缩短了缩合络合物的寿命。