4-Fluorophenyldiphenylsulfonium

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-Fluorophenyldiphenylsulfonium
• 英文别名: (4-fluorophenyl)-diphenylsulfanium
• 化学式: C18H14FS+
• 分子量: 281.4
• InChiKey: JTOWCKDEJVXWAR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.7
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为试剂：
  描述：

  4-fluorophenyldiphenylsulfonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-pivaloyloxypropane-1-sulfonate 、 sodium hydroxide 、 盐酸 、 氟 、 4-methoxyphenyldiphenylsulfonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-hydroxypropane-1-sulfonate 在 ice 、 甲醇 、 二氯甲烷 、 水 、 异丙醚 作用下， 以 甲醇 、 水 、 4-Fluorophenyldiphenylsulfonium 为溶剂， 反应 16.0h， 生成 4-fluorophenyldiphenylsulfonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-hydroxypropane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Sulfonium salt-containing polymer, resist composition, patterning process, and sulfonium salt monomer and making method

  摘要：

  一种含有4-氟苯基的磺鎓盐被引入到聚合物中，其中包含羟基苯基（甲基）丙烯酸酯单元和含酸性易裂解基团的（甲基）丙烯酸酯单元，形成一种聚合物，可用作光阻组合物中的基体树脂。该光阻组合物具有高灵敏度、高分辨率和最小化LER。

  公开号：

  US09233919B2

文献信息

• PROCESS FOR PRODUCING ALKOXYCARBONYLFLUOROALKANESULFONATES
  申请人：FUJIWARA Masaki

  公开号：US20080108846A1

  公开（公告）日：2008-05-08

  A process for producing an alkoxycarbonylfluoroalkanesulfonate represented by the formula [1] is provided. This process includes the steps of (a) reacting a halofluoroalkanoate represented by the formula [2], with a sulfinating agent, thereby obtaining an alkoxycarbonylfluoroalkanesulfinate represented by the formula [3]; and (b) reacting the alkoxycarbonylfluoroalkanesulfinate with an oxidizing agent, thereby obtaining the target alkoxycarbonylfluoroalkanesulfonate. Furthermore, it is possible to react the obtained alkoxycarbonylfluoroalkanesulfonate with a monovalent onium salt to conduct a salt exchange, thereby obtaining a alkoxycarbonylfluoroalkanesulfonic acid onium salt represented by the formula [4].

  提供了一种制备由公式[1]表示的烷氧羰基氟代烷磺酸盐的方法。这个过程包括以下步骤：(a)使由公式[2]表示的卤氟代烷酸盐与亚磺化剂反应，从而获得由公式[3]表示的烷氧羰基氟代烷亚磺酸盐；以及(b)使烷氧羰基氟代烷亚磺酸盐与氧化剂反应，从而获得目标烷氧羰基氟代烷磺酸盐。此外，可以将获得的烷氧羰基氟代烷磺酸盐与单价阳离子盐进行反应，进行盐交换，从而获得由公式[4]表示的烷氧羰基氟代烷磺酸阳离子盐。
• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20100304293A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  A salt represented by the formula (a): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., X 1 represents a single bond etc., X 2 represents a single bond etc., Y 1 represents a C3-C6 alicyclic hydrocarbon group etc., with the proviso that —X 2 —Y 1 group has one or more fluorine atoms, and Z + represents an organic counter cation, and a photoresist composition comprising the salt represented by the formula (a) and a resin comprising a structural unit having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid.

  由公式(a)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立代表氟原子等，X1代表单键等，X2代表单键等，Y1代表C3-C6的脂环烃基等，但条件是—X2—Y1基团具有一个或多个氟原子，以及Z+代表有机反离子，以及包含由公式(a)表示的盐的光阻剂组合物和包含具有酸不稳定的基团并且在水性碱液中不溶或微溶于但在酸性作用下水性碱液中变得可溶的树脂的结构单元。
• SALT AND PROCESS FOR PRODUCING ACID GENERATOR
  申请人：YOSHIDA Isao

  公开号：US20110201823A1

  公开（公告）日：2011-08-18

  A salt represented by the formula (I0): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, L 1 represents a divalent C1-C17 hydrocarbon group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O— or —CO—, m represents 1 or 2, and Z m+ represents m-valent organic or inorganic cation.

  根据您提供的化学公式(I0)，其翻译成中文为： 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基团，L1代表一个二价的C1-C17碳氢化合物基团，在该基团中，一个或多个—CH2—可以被—O—或—CO—所替换，m代表1或2，而Zm+代表m价有机或无机阳离子。
• NITROGEN-CONTAINING ORGANIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SAGEHASHI Masayoshi

  公开号：US20120052441A1

  公开（公告）日：2012-03-01

  An aralkylcarbamate of imidazole base is effective as the quencher. In a chemically amplified positive resist composition comprising the carbamate, deprotection reaction of carbamate takes place by reacting with the acid generated upon exposure to high-energy radiation, whereby the composition changes its basicity before and after exposure, resulting in a pattern profile with advantages including high resolution, rectangular shape, and minimized dark-bright difference.

  咪唑基团的芳烷基碳酸酯作为猝灭剂是有效的。在包含该碳酸酯的化学放大正性光刻胶组合物中，碳酸酯的去保护反应是通过与在暴露于高能辐射时产生的酸反应来实现的，通过这种方式，组合物在曝光前后改变其碱性，从而得到具有高分辨率、矩形形状和最小化暗亮差异等优点的图案轮廓。
• SALT, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160052877A1

  公开（公告）日：2016-02-25

  A salt represented by the formula (I); wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, L b1 represents a single bond or a divalent C 1 to C 24 saturated hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group and where a hydrogen atom may be replaced by a hydroxyl group or a fluorine atom, and Y represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or an optionally substituted C 3 to C 18 alicyclic hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom, a carbonyl group or a sulfonyl group; and Ar represents a divalent C 6 to C 20 aromatic hydrocarbon group, and Z + represents an organic sulfonium cation or an organic iodonium cation.

  根据您的要求，以下是化合物的中文翻译： 由公式(I)表示的盐； 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1至C6的过氟代烷基团，Lb1代表一个单键或一个二价的C1至C24的饱和烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子或一个羰基团所取代，并且其中氢原子可以被一个羟基或一个氟原子所取代，并且Y代表一个氢原子，一个氟原子，或一个可选地被取代的C3至C18的芳环烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子，一个羰基团或一个磺酰基团所取代；并且Ar代表一个二价的C6至C20的芳香烃基团，以及Z+代表一个有机硫正离子或一个有机碘正离子。