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1-bromomethyl-3-hydroxymethyl-5-methoxy-benzene | 945489-87-2

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
1-bromomethyl-3-hydroxymethyl-5-methoxy-benzene
英文别名
[3-(bromomethyl)-5-methoxyphenyl]methanol
1-bromomethyl-3-hydroxymethyl-5-methoxy-benzene化学式
CAS
945489-87-2
化学式
C9H11BrO2
mdl
——
分子量
231.089
InChiKey
LVTGGKXMJNUTAC-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.6
  • 重原子数:
    12
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.33
  • 拓扑面积:
    29.5
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    2

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • Cytotoxic Agents Comprising New Tomaymycin Derivatives
    申请人:GAUZY Laurence
    公开号:US20090036431A1
    公开(公告)日:2009-02-05
    The present invention is related to new tomaymycin derivatives, their process of preparation and their therapeutic uses.
    本发明涉及新的托马霉素衍生物,它们的制备过程及其治疗用途。
  • BORONIC ACID COMPOSITIONS AND METHODS RELATED TO CANCER
    申请人:Brown Milton L.
    公开号:US20120149663A1
    公开(公告)日:2012-06-14
    Disclosed are compounds and methods related to boronic acid derivatives of resveratrol. Certain of these derivatives have enhanced efficacy relative to resveratrol, function as irreversible modulators, and act at the GI/S phase of the cell cycle.
    本发明涉及白藜芦醇的硼酸衍生物化合物和方法。其中某些衍生物具有相对于白藜芦醇增强的功效,作为不可逆调节因子,并在细胞周期的GI/S阶段起作用。
  • COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN AND METHOD FOR FORMING FINED PATTERN USING SAME
    申请人:Okamura Toshira
    公开号:US20140127478A1
    公开(公告)日:2014-05-08
    The present invention provides a resist pattern-forming composition capable of forming a resist pattern excellent in etching resistance. The invention also provides a resist pattern formation method using that composition. The composition comprises pure water and a water-soluble resin having aromatic group-containing substituents in its side chain. The composition also contains a free acid or an acid group combined with the water-soluble resin.
    本发明提供了一种能够形成具有优异蚀刻抗性的光阻图案的光阻图案形成组合物。该发明还提供了使用该组合物的光阻图案形成方法。该组合物包括纯水和具有含芳香基取代基的侧链的水溶性树脂。该组合物还含有自由酸或与水溶性树脂结合的酸基。
  • COMPOUNDS AND METHODS FOR SKIN REPAIR
    申请人:Allergan, Inc.
    公开号:US20150094330A1
    公开(公告)日:2015-04-02
    The invention provides compositions and methods for wound healing and scar reduction. The compositions and methods of the invention include at least one EP4 agonist set forth herein. Wounds and or scars that can be treated by the compositions and methods of the invention can arise from events such as surgery, trauma, disease, mechanical injury, burn, radiation, poisoning, and the like.
    本发明提供了用于伤口愈合和减少疤痕的组合物和方法。该发明的组合物和方法包括本文列出的至少一种EP4激动剂。本发明的组合物和方法可以治疗由手术、创伤、疾病、机械损伤、烧伤、辐射、中毒等事件引起的伤口和/或疤痕。
  • Cytotoxic agents comprising new tomaymycin derivatives and their therapeutic use
    申请人:SANOFI
    公开号:EP2371827A1
    公开(公告)日:2011-10-05
    The present invention is related to new tomaymycin derivatives of the following formula, their process of preparation and their therapeutic uses. wherein M and L are as specified in the claims.
    本发明涉及下式的新托美霉素衍生物、其制备过程及其治疗用途。 其中 M 和 L 如权利要求中所述。
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