7-甲基苯并三唑-1-胺 | 21978-58-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并三唑类
• 中文名称: 7-甲基苯并三唑-1-胺
• 英文名称: 7-methyl-benzotriazol-1-ylamine
• 英文别名: 1-Amino-7-methyl-1H-benzotriazole；7-methylbenzotriazol-1-amine
• CAS: 21978-58-5
• 化学式: C₇H₈N₄
• 分子量: 148.167
• InChiKey: KADKLKFARRFTOW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.2
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  56.7
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

安全信息

• 海关编码：
  2933990090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  7-甲基苯并三唑-1-胺 在 4-二甲氨基吡啶 、 sodium hydroxide 、 正丁基锂 、 四甲基乙二胺 、 三乙胺 作用下， 以 甲醇 、 二氯甲烷 为溶剂， 反应 0.5h， 生成 tert-butyl N-[7-(2-hydroxy-2-phenylethyl)benzotriazol-1-yl]carbamate
  参考文献：
  名称：

  7-甲基-1-氨基苯并三唑衍生物去质子化制取邻位取代的苯炔前体的途径

  摘要：

  使用n BuLi-TMEDA-THF [-78°C-> 0°C]对-Boc-7-甲基-1-氨基苯并三唑6进行双去质子化，导致基本上定量转化为双阴离子中间体7。在碳中心阴离子上的截留在合适的条件下与烷基化剂，醛和酮选择性地发生，从而使7取代的1-氨基苯并三唑8-15（取代的苯并炔的前体）的收率达到良好至极佳的水平。

  DOI：

  10.1016/s0040-4039(00)91835-5
• 作为产物：
  描述：

  Diethyl 2-(7-methylbenzotriazol-1-yl)iminopropanedioate 在 盐酸 、 水 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 反应 3.5h， 生成 7-甲基苯并三唑-1-胺
  参考文献：
  名称：

  Birkett, Michael A.; Knight, David W.; Giles, Robert G., Journal of the Chemical Society. Perkin transactions I, 1998, # 15, p. 2301 - 2305

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Catalytic Asymmetric Electrochemical α‐Arylation of Cyclic β‐Ketocarbonyls with Anodic Benzyne Intermediates
  作者：Longji Li、Yao Li、Niankai Fu、Long Zhang、Sanzhong Luo

  DOI：10.1002/anie.202006016

  日期：2020.8.17

  herein is an electrochemical approach for the oxidative generation of benzynes (cyclohexyne) and its successful merging with chiral primary aminocatalysis, formulating the first catalytic asymmetric enamine–benzyne (cyclohexyne) coupling reaction. Cobalt acetate was identified to stabilize the in situ generated arynes and facilitate its coupling with an enamine. This catalytic enamine‐benzyne protocol

  由于苯炔中间体的高度瞬态和非极性性质，苯并炔的不对称催化作用仍然难以捉摸。本文报道的是一种电化学方法，用于氧化生成苯炔（环己炔）并将其成功与手性伯氨基催化反应合并，从而形成第一个催化不对称烯胺-苯并（环己炔）偶联反应。乙酸钴经鉴定可稳定原位生成的芳烃并促进其与烯胺的偶联。该催化的烯胺-苄基方案为构建具有良好立体选择性的各种α-芳基（α-环己烯基）季碳立构中心提供了一种简洁的方法。
• Polishing liquid for metal and polishing method
  申请人：Hitachi Chemical Company, Ltd.

  公开号：US10037894B2

  公开（公告）日：2018-07-31

  The present invention relates to a metal polishing liquid for polishing at least a part of metal in a substrate having the metal, comprising, component A: a metal solubilizer containing amino acids, component B: compounds having the benzotriazole skeleton, and component C: an acrylic acid polymer having the weight average molecular weight of 10,000 or more, and having the mass ratio between the component B and the component C, (component B:component C), to be 1:1 to 1:5. Use of the metal polishing liquid can simultaneously yield high polishing rates and low etching rates at higher level, enabling to form an embedded pattern with higher reliability.

  本发明涉及一种金属抛光液，用于对具有金属的基体中的至少部分金属进行抛光，该抛光液由以下组分组成：组分 A：含有氨基酸的金属增溶剂；组分 B：具有苯并三唑骨架的化合物；以及组分 C：重量平均分子量在 10,000 或以上的丙烯酸聚合物，且组分 B 与组分 C 之间的质量比（组分 B：组分 C）为 1:1 至 1:5。使用金属抛光液可同时获得较高的抛光率和较低的蚀刻率，从而形成可靠性更高的嵌入图案。
• POLISHING LIQUID FOR METAL AND POLISHING METHOD
  申请人：Hitachi Chemical Company, Ltd.

  公开号：US20140370707A1

  公开（公告）日：2014-12-18

  The present invention relates to a metal polishing liquid for polishing at least a part of metal in a substrate having the metal, comprising, component A: a metal solubilizer containing amino acids, component B: compounds having the benzotriazole skeleton, and component C: an acrylic acid polymer having the weight average molecular weight of 10,000 or more, and having the mass ratio between the component B and the component C, (component B:component C), to be 1:1 to 1:5. Use of the metal polishing liquid can simultaneously yield high polishing rates and low etching rates at higher level, enabling to form an embedded pattern with higher reliability.