2-Hydroxy-4,6-diiodobenzoic acid

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-Hydroxy-4,6-diiodobenzoic acid
• 化学式: C₇H₄I₂O₃
• 分子量: 389.916
• InChiKey: XOAWSIUOLGAVSA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.9
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  57.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (4-Oxo-1,3-dioxolan-5-ylidene)diacetyl chloride 、 2-Hydroxy-4,6-diiodobenzoic acid 以 苯 为溶剂， 以76%的产率得到2-[2-[4-[2-(2-carboxy-3,5-diiodophenoxy)-2-oxoethyl]-5-oxo-1,3-dioxolan-4-yl]acetyl]oxy-4,6-diiodobenzoic acid
  参考文献：
  名称：

  亚甲基柠檬酸的diaspirins

  摘要：

  已经制备了一系列的亚甲基柠檬酸二水杨酸酯，并作为其作为抗溶血剂的潜力的探针，测试了它们修饰血红蛋白的能力。用这些二羧酸酯以1-5mM的浓度获得了血红蛋白的大量酰化。

  DOI：

  10.1002/jps.2600730338

文献信息

• MASSIL, S. E.;SHI, GUEY-YUEH;KLOTZ, I. M., J. PHARM. SCI., 1984, 73, N 3, 418-420
  作者：MASSIL, S. E.、SHI, GUEY-YUEH、KLOTZ, I. M.

  DOI：——

  日期：——
• [EN] RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR PRODUCING COMPOUNDS, INTERMEDIATE, AND COMPOUNDS<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COMPOSÉS, INTERMÉDIAIRE ET COMPOSÉS<br/>[JA] レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物の製造方法、中間体及び化合物
  申请人：[en]TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.;[ja]東京応化工業株式会社

  公开号：WO2022265034A1

  公开（公告）日：2022-12-22

  樹脂成分（Ａ１）と、一般式（ｂ０）で表される化合物（Ｂ０）を含む、レジスト組成物（式中、Ｘ０は、臭素原子又はヨウ素原子である。Ｒｍは、ヒドロキシ基等である。ｎｂ１は、１～５であり、ｎｂ２は、０～４であり、１≦ｎｂ１＋ｎｂ２≦５である。Ｙｂ０は、２価の連結基又は単結合である。Ｖｂ０は、単結合、アルキレン基又はフッ素化アルキレン基である。Ｒ０は、水素原子、炭素数１～５のフッ素化アルキル基又はフッ素原子である。Ｒｂ１～Ｒｂ１５は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基である。ただし、Ｒｂ１～Ｒｂ５の少なくとも２つがフッ素原子であるか、Ｒｂ１～Ｒｂ５の少なくとも１つがパーフルオロアルキル基である）。