diphenyliodonium (1S)-camphor-10-sulfonate | 214534-44-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: diphenyliodonium (1S)-camphor-10-sulfonate
• 英文别名: Ph2ICSA；diphenyliodonium camphorsulfonate；diphenyliodonium 10-camphorsulfonate；(7,7-dimethyl-2-oxo-1-bicyclo[2.2.1]heptanyl)methanesulfonate;diphenyliodanium
• CAS: 214534-44-8
• 化学式: C₁₀H₁₅O₄S*C₁₂H₁₀I
• 分子量: 512.409
• InChiKey: HHYVKZVPYXHHCG-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.74
• 重原子数：
  28
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.41
• 拓扑面积：
  82.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  diphenyliodonium (1S)-camphor-10-sulfonate 、 2-环己酮甲酸乙酯 在 cesiumhydroxide monohydrate 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 0.25h， 生成 ethyl 2-oxo-1-phenylcyclohexane-1-carboxylate
  参考文献：
  名称：

  通过重排进行α-芳基化：烯醇盐与二芳基碘鎓盐的反应

  摘要：

  令人惊讶的平衡：DFT计算和实验观察结果支持了标题反应的新机制。的C 我和O 我中间体等能快速地平衡。因此，在初始复合物中诱导的任何手性信息将被破坏。在最后的C  C键形成步骤中，[2,3] -rearrangement从将O 我接合中间稍微优于从C [1,2]在剔除我结合异构体（参见方案）。

  DOI：

  10.1002/chem.201001110
• 作为产物：
  描述：

  二苯基碘三氟甲烷磺酸盐 、 樟脑磺酸钠 以 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 以83%的产率得到diphenyliodonium (1S)-camphor-10-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  通过重排进行α-芳基化：烯醇盐与二芳基碘鎓盐的反应

  摘要：

  令人惊讶的平衡：DFT计算和实验观察结果支持了标题反应的新机制。的C 我和O 我中间体等能快速地平衡。因此，在初始复合物中诱导的任何手性信息将被破坏。在最后的C  C键形成步骤中，[2,3] -rearrangement从将O 我接合中间稍微优于从C [1,2]在剔除我结合异构体（参见方案）。

  DOI：

  10.1002/chem.201001110

文献信息

• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20160145231A1

  公开（公告）日：2016-05-26

  A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.

  描述了一种包含由通式（1）或（2）表示的化合物的光刻胶组合物，使用该组合物形成光刻胶图案的方法，用于该组合物的多酚化合物，以及可以由其衍生的醇化合物。
• OPTICAL COMPONENT FORMING COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20200262787A1

  公开（公告）日：2020-08-20

  The present invention provides an optical component forming composition comprising a tellurium-containing compound or a tellurium-containing resin.

  本发明提供了一种包括含碲化合物或含碲树脂的光学元件成型组合物。
• METHOD FOR PRODUCING COMPOUND HAVING ACID-LABILE GROUP
  申请人：Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP1661918A1

  公开（公告）日：2006-05-31

  The present invention provides a process for producing a compound having a group represented by general formula (II): (wherein R1, R2, and R3 may be the same or different, and each represent a substituted or unsubstituted alkyl, a substituted or unsubstituted aryl, or a substituted or unsubstituted aralkyl, or R1 and R2 may bind to each other to form an alicyclic hydrocarbon ring together with the adjacent carbon atoms, or R2 and R3 may bind to each other to form a alicyclic heterocyclic ring together with the adjacent O-C-C that may have a substituent), which comprises allowing a compound having a hydroxyl group to react with halogenated alkyl ether represented by general formula (I): (wherein R1, R2, and R3 are the same as those defined above, respectively and X represents a halogen atom).

  本发明提供了一种生产具有由通式（II）表示的基团的化合物的方法：（其中R1、R2和R3可以相同也可以不同，并且分别表示取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、或取代或未取代的芳基烷基，或者R1和R2可以相互结合形成与相邻碳原子一起的脂环碳氢环，或者R2和R3可以相互结合形成与相邻的O-C-C一起具有取代基的脂环杂环）的方法，该方法包括允许具有羟基的化合物与由通式（I）表示的卤代烷基醚发生反应：（其中R1、R2和R3分别与上述定义相同，X代表卤素原子）。
• PATTERN-FORMING METHOD AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US20210181627A1

  公开（公告）日：2021-06-17

  A pattern-forming method includes: applying directly or indirectly on a substrate a radiation-sensitive composition containing a complex and an organic solvent to form a film; exposing the film to an ultraviolet ray, a far ultraviolet ray, an extreme ultraviolet ray, or an electron beam; and developing the film exposed, wherein the complex is represented by formula (1). [M m L n Q p ]  (1) In the formula (1), M represents a zinc atom, a cobalt atom, a nickel atom, a hafnium atom, a zirconium atom, a titanium atom, an iron atom, a chromium atom, a manganese atom, or an indium atom; and L represents a ligand derived from a compound represented by formula (2). R 1 —CHR 3 —R 2 (2) In the formula (2), R 1 and R 2 each independently represent —C(═O)—R A , —C(═O)—OR B , or —CN.

  一种图案形成方法包括：在基板上直接或间接地涂覆含有复合物和有机溶剂的辐射敏感组合物以形成膜；将膜暴露于紫外线、远紫外线、极紫外线或电子束；和显影所暴露的膜，其中该复合物由式（1）表示。[MmLnQp] (1)在式（1）中，M代表锌原子、钴原子、镍原子、铪原子、锆原子、钛原子、铁原子、铬原子、锰原子或铟原子；L代表来自由式（2）表示的化合物的配体。R1—CHR3—R2(2)在式（2）中，R1和R2分别独立地表示—C(═O)—RA、—C(═O)—ORB或—CN。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, MONOMER, POLYMER, AND PRODUCTION METHOD OF RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：MARUYAMA Ken

  公开号：US20120237876A1

  公开（公告）日：2012-09-20

  A radiation-sensitive resin composition includes a solvent and a polymer. The polymer includes a repeating unit represented by a formula (I), a repeating unit represented by a formula (II), or a both thereof. Each of R 1 to R 3 independently represents a hydroxyl group, or the like. At least one of R 1 represents a group having two or more heteroatoms. l is an integer from 1 to 5. Each of m and n is independently an integer from 0 to 5. Each of R 7 and R 11 independently represents a hydrogen atom, or the like. Each of R 8 to R 10 independently represents a hydrogen atom, or the like. A represents —O—, or the like. D represents a substituted or unsubstituted methylene group, or the like.

  一种辐射敏感树脂组合物包括溶剂和聚合物。该聚合物包括由式(I)表示的重复单元，由式(II)表示的重复单元，或两者兼有。R1至R3中的每一个独立地表示一个羟基或类似物。其中至少一个R1表示具有两个或更多杂原子的基团。l是从1到5的整数。m和n中的每一个独立地是从0到5的整数。R7和R11中的每一个独立地表示氢原子或类似物。R8到R10中的每一个独立地表示氢原子或类似物。A表示—O—或类似物。D表示取代或未取代的亚甲基基团或类似物。